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无掩膜光刻机

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详细介绍

这款无掩模光刻机,无掩膜光刻机是一款高精度的激光直写光刻机。这套无掩模光刻机,无掩膜光刻机具有无掩模技术的便利,大大提高影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球领xian的无掩模光刻系统。

这款无掩模光刻机直接用375nm405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。

无掩模光刻系统,无掩膜光刻机特色

尺寸:925x925x1600mm

内置计算机控制接口

激光光源:375nm405nm

视频辅助定位系统

自动聚焦设置

无掩模光刻机,无掩膜光刻机参数

线性写取速度:>500mm/s

位移台分辨率:100nm

重复精度: 100nm

晶圆写取面积:16英寸

衬底厚度:250微米-10毫米

激光点大小:1-100微米

准直精度:500nm


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