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无掩膜光刻机
- 品牌:上海孚光精仪
- 型号: lithograp
- 产地:法国
- 供应商报价: € 5000000
- 孚光精仪(香港)有限公司
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企业性质
入驻年限第8年
营业执照
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- 详细介绍
这款无掩模光刻机,无掩膜光刻机是一款高精度的激光直写光刻机。这套无掩模光刻机,无掩膜光刻机具有无掩模技术的便利,大大提高影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球领xian的无掩模光刻系统。
这款无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。
无掩模光刻系统,无掩膜光刻机特色
尺寸:925x925x1600mm
内置计算机控制接口
激光光源:375nm或405nm
视频辅助定位系统
自动聚焦设置
无掩模光刻机,无掩膜光刻机参数
线性写取速度:>500mm/s
位移台分辨率:100nm
重复精度: 100nm
晶圆写取面积:16英寸
衬底厚度:250微米-10毫米
激光点大小:1-100微米
准直精度:500nm