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AMP - 无掩模曝光机

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详细介绍

产品简介

产品优点

微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽) 

紫外光直写曝光,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用

灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整。

可升级开放性系统设计。

按照客户要求可从低端到高端自由配置

使用维护简单设备耗材价格低。

应用范围广,目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。


型号SF-100 XCEL SF-100 XPRESS SF-100 XTREME

光学系统

标准光学

系统

高分辨率光学系统

高分辨率光学系统

高分辨率光学系统

缩小透镜None3X任选一个任选一个标配以下3种缩小透镜
4X10X20X4X10X20X4X10X20X

像素尺寸

(标准配置)

15um

5um

1.25um

0.5um

0.25um

1.25um

0.5um

0.25um

1.25um

0.5um

0.25um

征尺寸

(标准配置)

 
45um15um5um2um1um5um2um1um5um2um1um

像素尺寸 (配置Sub-micron)

--0.936um0.390um0.188um0.936um0.390um0.188um0.936um0.390um0.188um

征尺寸 ((配置Sub-micron)

 
--0.8um1.17um0.60um2.8um1.17um0.60um2.8um1.17um0.60um

套刻精度Overlay accuracy (样品台配置

theta 方向运动)

-

-

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

样品台

自动 XYZ 线性驱动样品台。

XY 行程: 60, 100, 150, 200, 300mm可选, Z 行程5mm 或 25mm可选


或选配手动螺杆驱动样品台 XY 行程100mm, Z 行程 25mm

可选配 theta 方向运动theta 方向运动为标准配置

或选配自动线性驱动样品台 XY 行程100mm, Z 行程 25mm

--

设备尺寸

44" W x 26"D x 30"H

60"W x 26"D x 36"H

或, 44"W x 26"D x 30"H

60"W x 26"D x 36"H





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