WSMS - 晶圆表面测量系统

Munich Metrology提供了zuixianjin的，完全整合的VPD测量系统。该WSMS包括前缘的VPD，气相分解，zuixianjin，精密的化学品输送系统，自动提供所需的所有集成的ICP-MS分析的校准的化学品VPD和所有的化学物质样品采集系统系统。它是一台用计算机控制的系统，接受远程命令，并通过SECS / GEM工厂自动化接口提供的测量结果实时在一个完整的测量系统。该WSMS的优点包括：

• 全自动

• zuidi的检出限制

• 更快地取得测量结果

• 实时操作过程

• 通过精密，无错，加药，稀释，混合和传递到两个VPD和ICP-MS的操作精确测量

• 无需人工较准, 降低成本

WSPS - 晶圆表面制备系统(VPD Preparation)

WSPS系统包括处理模块，机器人控制，录像带站cassette stations 和固定负载接口站系统中的FOUPS，提供过滤后的洁净空气，工具和电源各个独立模块。WSPS软件提供了完整的系统运行能力和数据收集，包括定制配方设置，作业定义，作业执行，晶圆优先级和远程监控和操作管理。

• 扫描整个晶圆表面无残留

• 系统模块设计

• 自动处理功能

• 适用于硅片及其它材料表面

PAD-Fume, Oxide Etch Module

PAD-Fume

可编程自动分解烟化机

PAD-Fume是Munich Metrology 晶圆表面清洗装置的模 块之一 , 用于分析硅片表面和其氧化物的超微量金属污染。它也可与自动液滴扫描器 PAD-Scan以及PAD-Dry （只适用于全反射X射线荧光-TXRF分析）组合使用。

PAD-Scan, Sample Collection Module

PAD-Scan

可编程自动液滴扫描器

PAD-Scan 提供了一个高度敏感硅晶片VPD分析的新质量。它的全自动化操作,除去了人工操作所造成的所有微粒污染，降低空白试验值, 从而大幅度提升并达到卓越的侦测度。

由于其扫描程序的精确控制,PAD-Scan把VPD打造成为一个能提供优良重复性的可靠制备方法, 是个适合用于前端工艺, 针对晶圆表面质量管理的理想方案。

由于精密的部分扫描模式,任何晶片的范围皆可选择用于收集VPD残液。机器手的晶圆处理能力可用于所有晶圆, 直径达300毫米。

PAD-Dry

可编程自动液滴烘干机

T只适用于全反射X射线荧光-TXRF分析。 采用真空及适度的热量, 平均及快速地把晶圆烘干。