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三靶射频磁控溅射镀膜仪
- 品牌：合肥科晶
- 型号： VTC-3RF
- 产地：合肥
- 供应商报价： 面议
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合肥科晶材料技术有限公司
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企业性质
入驻年限第9年
营业执照
- 同类产品薄膜制备全套设备及耗材(1件)
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- 详细介绍
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。
技术参数
输入电源
220VAC50/60Hz,单相
800W(包括真空泵）
等离子源
配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）
可选配300W射频电源（自动匹配）
注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。300W自动匹配的RF（射频）电源，价格较昂贵，但比较节约时间（点击图片查看详细资料）
磁控溅射头
三个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接
靶材尺寸:直径为25.4mm,最大厚度3mm
一个快速挡板安装在法兰上
溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）
真空腔体
真空腔体：256mmODx250mmIDx276mmH，采用高纯石英制作
密封法兰:直径为274mm.采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封
一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体（如下图）
真空度：<1.0×10-2Torr（采用双极旋片真空泵）,<5×10-5torr（采涡旋分子泵）
载样台
载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热
载样台尺寸：直径50mm（最大可放置2英寸的基片）
旋转速度：0-20rpm
样品台的最高加热温度为700℃(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃
控温精度+/-10℃
真空泵
我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售
薄膜测厚仪（可选）
一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10?
LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
质保和质量认证
一年质保期，终生维护
CE认证
外形尺寸
使用注意事项
这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度
为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量
请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内
