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P-300S 生产线型原子层沉积机

联系方式:廖敬强0755-81776600

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详细介绍

PICOSUN P-300S Pro ALD

技术参数

衬底尺寸和类型 :最大300mm晶圆/单片

工艺温度: 50 - 500 °C

基片传送选件:。 半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现
         。25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现


标准
 :SEMI S2认证

前驱体
:。液态,固态,气态,臭氧源
     。等离子体(仅供200mm晶圆使用,最多4路气体)
     。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
     。6条独立源管线,最多加载8个前驱体源(最多12个前驱体源,加上plasma管路共7根独立源管线)


重量
:820 kg

尺寸:
(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

选件:
 集群工具,PICOFLOW™扩散增强,N2发生器,尾气处理,定制设计,与工厂软件连接服务。

验收标准
 :。标准设备验收标准为Al2O3工艺,
        。其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:
            - 不均匀性
            - 颗粒物含量
            - 重金属污染
            - 电学性能



产品优势
半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现;
25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现。
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