芬兰 Picosun R-200 高级型原子层沉积机

 。50-200 mm /单片
 。156 mm x 156 mm太阳能硅片
 。3D复杂表面衬底
 。粉末与颗粒
 。Roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm
 。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品

工艺温度： 50 - 500 °C , 可选更高温度

基片传送选件：

 。气动升降（手动装载）
 。预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
 。半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现
 。25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现

前驱体 ：

 。液态、固态、气态、臭氧源、等离子体（最多4路气体）
 。6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）

重量 ：350 + 200 kg

尺寸 ：(W x H x D) 取决于选件

最小 ：146 cm x 146 cm x 84 cm

最大 ：189 cm x 206 cm x 111 cm

选件 ：集群工具，PICOFLOW™ 扩散增强器，集成椭偏仪，QCM，RGA，超高真空兼容，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载）

验收标准 ：标准设备验收标准为 Al2O3工艺