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DVS Vacuum真空蒸汽吸附仪

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详细介绍

新品详情

上市时间:2012年1月
创新点:**支持静态及动态实验的重量法系统。
在高真空下样品预热可高达400℃。
实验背景压力低至7x10-6mbar。
可使用两种气体,两种蒸汽,或者一种气体与一种蒸汽进行多组分实验。
可传送吸附质的压力低至0.1mbar时的吸附结果。
典型的气体和蒸汽包括:
二氧化碳二氧化硫氢氩甲苯氮甲烷水环己烷辛乙醇

详细信息

技术要点
DVS Vacuum **支持静态及动态实验的重量法系统

DVS Vacuum 提供双重吸附解决方案,可进行包括Henry区段的更高吸附压力的静态吸附实验和更低吸附压力的动态实验。
动态真空的原则
在串联方式达到动态真空条件下,控制吸附物的进入和退出:


1.通过下游的真空泵对样品仓进行抽真空。
2.根据用户设定的流动速率将吸附分子引进仓内-样品仓填满直到达到需要的吸附浓度。
3.下游蝶阀打开来平衡吸附物进出的流动速率。吸附物浓度恒量时,系统稳定运行。

使用真空吸附解决方案的优点
在Henry 区域动态填模式下进行低吸附压力实验,提供了两个关键优势:
确定吸附物的成份
静态系统在进行低吸附压力时会使少量空气渗漏进入样品仓,随着时间推移会稀释吸附物分子。样品仓的总压力开始成为溶剂与渗漏空气的总合。因此实际的吸附物浓度要远比系统传感器显示的结果低,导致实验结果不准确。
使用DVS Vacuum 动态模式可以确保不断消除渗漏的空气,并由吸附物取而代之。因此样品仓内总的测量压力都由吸附分子组成,在Henry区域提供的实验浓度也就是准确的。
滞留时间的控制
DVS Vacuum 在宽广的流动速率的范围内,达到稳定的状态。可控制样品被吸附停留的时间,提供足够的吸附物/基质接触以使得测量数据准确如孔大小分布和吸附动力学。

在静态条件下(A)和动态条件下(B)的吸附分子和
基质。不同的条件下测量出的吸附压力将是相同的。

主要特性
多组分/竞争吸附实验
使用两种气体,两种蒸汽,或者一种气体与一种蒸汽进行多组分实验
高温样品预热器(可选)
在高真空下样品预热可高达400℃
高真空
实验背景压力低至7x10-6mbar
Henry(享利)区域(低吸附浓度)试验。
可传送吸附质的压力低至0.1mbar时的吸附结果(更低压力可通过咨询SMS得知)
使用气体和蒸汽
典型的气体和蒸汽包括:
二氧化碳 二氧化硫 氢 氩 甲苯 氮 甲烷 水 环己烷 辛 乙醇


软件
SMS的系统软件在稳定性、 灵活性、 直观性方面仍然是世界的领xian者。通过广泛客户的参与和采纳反馈意见并进行自行设计,SMS让吸附解决方案操作变得更简单。
DVS真空控制软件――PIRANI CONTROL

Pirani Control 让复杂的实验变的简单化。其直观的、 基于 windows 的、 人性化的界面允许您完全通过计算机控制运行一系列不同的 DVS 真空试验。
DVS真空数据分析软件――PIRANI ANALYSIS
Pirani 分析利用DVS 真空实验的灵活性,提供广泛的、 人性化的数据分析,边上另有“报表一击生成”功能。
DVS分析套件――ADVANCED and ISOTHERM
使用DVS 先进的、等温分析套件来阐明关键的理化参数。

示意图和说明

1.温度控制器
实验温度设置范围可以是20℃-85℃
1a.高温样品预热器(可选)可以在高真空条件下将样品预热达400℃

2.真空系统
2a.回转泵 可将真空降至 1.3x10-3mbar

2b.分子泵(可选)
进一步将真空低至7x10-6mbar(与回转泵组合)

2c.蝶阀
调整气体/蒸汽吸附物从系统中减少的比率
通过样品仓提供一个下游压力控制点

2d & 2e.气体/蒸汽压力传感器
测量与反馈气体/蒸汽吸附压力,
范围:1013mbar - 0.1mbar

3.真空manifold
主要构件都采用316不锈钢
4.气体/蒸汽注射系统
DVS真空系统可以利用一种气体或蒸汽,
两种气体或蒸汽,一种气体和一种蒸汽的混合,
提供多种浓度的水、有机蒸汽和气体的浓聚物。

4a - 4f.上游吸附压力控制
热导质量流量控制器(MFCs 4a and 4b)掌控着吸附的进入。

下游吸附压力控制
吸附减少率由下游蝶阀控制(2c)。

5.系统微量天平
吸附物在吸附临界解吸附的记录值作为样品质量
样品质量:高过 1.0g
分辨率:0.1 μg
质量变化:高达±150mg

6.电脑控制和软件
控制实验参数和连续记录并保存数据以便日后数据分析


技术资料
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