研磨抛光机

仪器简介：

MultiPrep 系统适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM，etc）样品的半自动制备。主要性能包括平行抛光，精确角抛光，定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性，可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。

技术参数：

测微计控制样品的设置
精确轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转。
数字千分表显示样品行程，增量1微米（实时）
双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），10°幅度， 0.02° 增量。
6倍速样品自动摆动。
8倍速样品自动旋转。
样品调整范围：0-600克（100克增量）
数字计时器与转速计
凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具。
符合CE标准
美国设计并制造

主要特点：

TechPrep 为MultiPrep 的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制MultiPrep所有功能。研磨盘转速范围（顺/逆时针）为5到350PRM。除触摸开关控制所有功能外，还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准；自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。