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iPHEMOS-MP倒置发射显微镜 C10506-06-16
- 品牌：日本滨松
- 型号： C10506-06-16
- 产地：日本
- 供应商报价： 面议
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滨松光子学商贸（中国）有限公司
更新时间：2024-02-04 13:42:48 -
企业性质生产商
入驻年限第9年
营业执照已审核
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联系方式：滨松客服400-074-6866
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- 详细介绍
- 连接示例
产品特征● 可安装用于光发射分析和热分析的两个超高灵敏度相机
● 可安装最多3个波长的激光器和一个EOP探头光源
● 配备适合不同样品的光学工作台● 高灵敏度微距镜头和最多10个适合每个探测器灵敏度波长的镜头
产品选配● 激光扫描系统
● 高灵敏度近红外相机进行光发射分析
● 高灵敏度中红外相机进行热分析
● 红外-光致阻值改变（IR-OBIRCH）分析
● 激光辐射动态分析
● EO侦测分析
● 纳米透镜进行高分辨率、高灵敏度分析
● 连接到CAD导航
● 连接到LSI测试仪显示功能叠加显示/对比度增强功能
iPHEMOS-MP将发光图像叠加到高分辨率模板图像上来快速定位缺陷点。对比度增强功能可使图像更清晰，细节更多。
显示功能
- ● 注释
● 图像的任何位置都可以显示评论、箭头等注释符号。 - ● 比例显示
● 可使用分段，在图像上显示比例宽度。 - ● 栅格显示
● 图像上可显示水平和垂直栅格。 - ● 缩略图显示
● 图像可以以缩略图的形式存储和调用，stage坐标等图像信息也可显示。 - ● 分屏显示
● 图案影像、发射图像、叠加图像以及参考图像可一次显示在4个窗口的屏幕上。
详细参数线性电压 AC 200 V (50 Hz/60 Hz) 功耗 Approx. 1400 VA (Max. 3300 VA) 真空 Approx. 80 kPa or more 气压 0.5 MPa to 0.7 MPa 尺寸/重量 Main unit: 1740 mm (W)×1150 mm (D)×1770 mm (H), Approx. 1400 kg
Control rack: 880 mm (W)×700 mm (D)×1542 mm (H), Approx. 255 kg
Optional desk: 1000 mm (W)×800 mm (D)×700 mm (H), Approx. 60 kg* iPHEMOS-MP主体机台包括探针台和其他相连接的装置。
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- ● 注释
- 产品优势
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iPHEMOS-MP倒置微光显微镜是一款半导体失效分析系统，通过检测半导体装置缺陷引起的微弱的光发射和热发射来准确定位半导体器件失效的位置。利用其倒置型设计，iPHEMOS-MP对半导体器件的背面进行探测分析，并可结合Tester顺利进行各种类型的分析。iPHEMOS-MP包含一个激光扫描系统，可以获得高分辨率的图像。不同类型的探测器可以用来实现各种分析技术，比如发射分析、热分析、红外-光致阻值改变（IR-OBIRCH）分析等。当结合专用探测器进行背面观察，iPHEMOS-MP支持从wafer到单个芯片的灵活测量。
●iPHEMOS-MP
通过安装300 mm晶圆探针，支持从单个芯片到晶圆的测量。 可通过探针卡进行多针接触，并在PC板上进行样品观察。 通过电缆连接也可以使用LSI测试仪驱动进行动态分析。
- 技术资料
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