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无掩膜光刻机 激光直写设备
- 品牌:韩国MIDAS
- 型号: PICOMASTER 100
- 产地:韩国
- 供应商报价: 面议
联系方式:张经理021-56035615
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- 详细介绍
无掩模光刻机/紫外激光直写设备
MLW 100型
市场上使用375纳米激光器的极高分辨率300纳米的结构
375纳米激光源,可用于要求更高的应用
紧凑型光学模块:使用备用光学模块减少革命性的机器停机时间
用户友好操作
独特的研发机会
375nm光学模块将允许系统极小线宽达到300纳米
能力
-市场上使用寿命长的375纳米激光器的最高分辨率。
-最小线宽达到300纳米
-高达4095级的直写灰度
-375纳米激光可用于要求更高的应用。
-光栅模式和矢量模式可用。
-软件可控制的写入模式选择。
-实时自动聚焦成为可能。
-支持从5x5mm2到4“x4”的基板
操作
-现代的基于Microsoft Windows的用户界面允许用户友好的操作。
-高度自动化的处理,一键操作。
-远程互联网支持
安装和维护
-MLW100是一个紧凑的桌面系统,需要最小的清洁空间。
-紧凑型光学模块:使用备用光学模块来减少机器停机时间。
-安装快速方便:除操作PC和真空泵外,所有主要部件
安装在外壳内。
-维护成本zuidi,无需定期维护。
紧凑型光学模块,具有卓越的稳定性和革命性的短停机时间
完整的光学路径包含在一个小的可更换模块(光学模块)中。通过尽可能短的优化路径,与传统的优化设置相比,点稳定性大大提高。光学模块包含寿命长的375 nm激光和**光斑形状的光束整形光学元件。
特征:
-市场上最小的高品质激光束光斑。
-集成的650纳米红色激光控制自动对焦系统自动纠正高度变化。
-综合剂量控制。
-选项:对于要求较低的任务,可以使用全自动NA开关选择较大的光斑尺寸。此开关允许系统使用更大的点以提高速度。
光学特性
激光源375纳米
寿命>10000小时
写入模式:0.3μm,可选0.6μm和0.9μm FWHM。
工作距离0.6毫米
最大强度为3 mW,软件可控。
灰度控制4095级
自动对焦800 Hz band宽,650nm 红光激光控制
-0.3…x…+0.3 mm高度变化,带自动高度跟踪。
快速的音圈执行器,精确的实时Z校正。
焦距可通过软件控制进行调整。
正面对准
光学模块配备高分辨率摄像机,用于需要多层的应用。相机图像由高级成像软件处理。自动标记识别使用户很容易找到标记。用户可以设定任何形状作为标记。当在相机的视场中找不到标记时,软件支持区域扫描,以便在更大的区域中自动搜索标记。对齐和图像补偿可以基于一个、两个或三个标记。
正面对准指标:
校准照相机单色520万像素。
像素分辨率1μm
对准精度 0.1μm
修正算法通过扫描和步进轴之间的插值运动进行位置、比例(最大5%)、倾斜、旋转(最大+/-5度)旋转修正。
Picomaster100配备了用于X和Y运动的高精度轴和一个用于Z运动的可选轴。扫描轴(Y)包含一个高精度燕尾形空气轴承,该轴承由带纳米分辨率编码器的直线电机驱动。步进轴(X)采用带直线电机和高分辨率光学编码器的精密滚子轴承。该系统允许极低的机械误差和快速扫描运动。可选的电动控制Z轴具有12 mm行程,以支持各种基板厚度。
用真空吸盘夹紧基板。真空吸盘易于更换,以支持不同的基板尺寸。
机械性能
行程和阶梯最大115 mm
重复性<20 nm RMS
分辨率2纳米
扫描速度最大200 mm/s
直线度轴 <0.5μm,在100 mm范围
样品厚度:0-4 mm手动调整;12 mm,安装可选电动Z轴。
基板厚度变化最大值+/-0.15mm
- 产品优势
- 紧凑型光学模块:使用备用光学模块减少革命性的机器停机时间
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