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磁控溅射器MC1000
- 品牌：日立
- 型号： MC1000
- 产地：日本
- 供应商报价： 面议
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江苏米立特科学仪器有限公司
更新时间：2021-10-21 08:23:22 -
企业性质一般经销商
入驻年限第3年
营业执照已审核
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- 详细介绍
- 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度：20 mm
特点：
采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件
规格：
项目 说明 放电 类型 磁控二极管放电型（电场垂直于磁场） 电极组成 反向平行盘（嵌入磁铁） 电压 最大0.4Kv DC（直流可变） 电流 最大40mA DC 喷镀速率(最大）[条件]
压力：7Pa
放电电流:40mA
标靶与样品表面之间的距离:20mm
Pt靶(选配件) 15nm/min Pt-Pd靶（选配件） 20nm/min Au靶(选配件) 35nm/min Au-Pd靶（选配件） 25nm/min 样品尺寸 最大直径 Ф60mm 最大高度 20mm 机械泵 135/162 L/min(50/60Hz) 靶材﹡² Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4) 电源要求 单相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-针插头线缆(3m) 尺寸 宽度 450mm 长度 391mm 高度 390mm 重量 主机:约25Kg 机械泵:约28kg ﹡¹：喷镀速率仅供参考
﹡²：主机内不包括靶材。请从选项中选择（鉑,铂-钯,金,金-钯)
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或ZL等相关用途
