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中科院DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机

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详细介绍


DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机
 

1.技术特征
。采用 DMD 作为数字掩模,像素数 1024×768
。采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。
。采用ZG技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
。具备对准功能
。采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接,可适应 100mm100mm 基片。
。采用 CCD 检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场调焦曝光。
 

2.技术参数
。光源:350W 球形汞灯(曝光谱线: i 线)或紫外LED;
。照明不均匀性:2%;
。物镜倍率:14 倍
。曝光场面积:1mm×0.75mm
。光刻分辨力:1 μm
。工件台运动范围:X:100mm、 Y:100mm;
。工件台运动定位精度:±0.65μm;
。调焦台运动灵敏度:1μm;
。对准精度:±2μm;
。调焦台运动行程:6mm
。检焦:CCD 检测,检测精度 2 微米
。转动台行程:±6°以上
。基片尺寸
。外径: 。1mm—100mm,厚度:0.1mm--5mm

 

3.外形尺寸:840mm(长)x450mm(宽) x830mm(高)
 

4.配置
(1)照明系统
。350W 直流汞灯(或 LED)、椭球镜、准直镜、蝇眼透镜组、场镜组、365nm 滤光片、气动快门、DMD(美国德州仪器)、冷却风扇。
。投影物镜:缩小倍率 14 倍
。分辨力 1μm 

(2)工件台系统
。X 台:电机驱动器(日本乐孜)、丝杠(日本 NSK)、导轨 2(日本 THK)、光栅(美国)
。Y 台:电机及驱动器(日本乐孜)、丝杠(日本 NSK)、导轨 2(日本 THK)、光栅 2(美国)
。转动台:电机及驱动器(日本乐孜),转动轴系
。Z 台:电机及驱动器(日本乐孜)、丝杠、上升导向机构
。承片台:4 英寸(可增加 3 英寸、2 英寸、1 英寸等)
 

(3)检焦系统
。焦面光学检测系统、CCD、焦面检测软件
 

(4)对准系统
。对准光学检测系统、CCD、对准软件
 

(5)电控系统
。汞灯电源及触发器、主机控制系统、软件、计算机、监视器(19 英寸液晶)、接口
 

(6)气动系统
。电磁阀、旋转气缸、减压阀、压力表、真空表
 

(7)其他附件
。真空泵一台(无油泵)
。空压机一台(静音泵)
。管道


产品优势
DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机,采用 DMD 作为数字掩模,像素数 1024×768,采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。
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