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游离二氧化硅前处理仪

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游离二氧化硅前处理仪 核心参数
样品个数 20个样品工位 温度误差 ≤±1℃
温控 245℃-250℃ 冷却系统: 水浴降温

产品特点

游离二氧化硅前处理仪适用于工作场所粉尘中游离二氧化硅含量的测定,满足《GBZ/T 192.4-2007工作场所空气中粉尘测定 第4部分:游离二氧化硅含量》 (焦磷酸法)。焦磷酸法是检测游离二氧化硅常用

详细介绍

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一、产品简介

游离二氧化硅前处理仪适用于工作场所粉尘中游离二氧化硅含量的测定,满足《GBZ/T 192.4-2007工作场所空气中粉尘测定 第4部分:游离二氧化硅含量》 (焦磷酸法)。焦磷酸法是检测游离二氧化硅常用分析方法该方法检测稳定、预处理简便、准确度高、干扰少;对于质控样品考核及样品检测准确度。游离二氧化硅前处理仪 全自动游离二氧化硅前处理仪 全自动游离二氧化硅测定仪 全自动游离二氧化硅前处理平台游离二氧化硅前处理平台是我公司和国内疾控中心经过多年研发验证推出全自动游离二氧化硅前处理平台。

二、产品特点

1.内置20个样品工位,做样期间无需添加替换样品架;内置5个加热工位装置1套,5工位同时加热,每个加热位可单独控制,10min内样品升温至245℃-250℃,并保持温度恒定±1℃;温度实时显示,温度误差≤±1℃。。

2.内置高精度12位高精度注射进样器1套,进样精度100ul。进样器需采用PEEK材质,可通过屏幕设置加液体积。实验过程自动添加高温蒸馏水,添加速度可调节。

3.仪器需内置蒸馏水自动加热装置、自动风冷、自动水冷装置各1套。可实现风冷和水浴对样品快速降温;蒸馏水水箱和冷水浴具有自动补水,自动加热、自动排水等功能。

4.冷却系统:水浴降温,样品在加热区域245℃恒温后,机械臂把样品自动转移到水浴位置,对样品进行降温。水浴槽装置可一次同时冷却5个样品。

5.水浴降温后,机械臂把样品转移到风干区域,把样品瓶进行风干。可一次同时风干5个样品瓶,风干温度可调节。

6.精密度:按标准灰化干燥后,高低浓度质控样(GDOHZKTG012-1,2)5 个质控样品RSD结果值5%以内。

7.主机箱大面积透明观察窗,全流程可视化;搅拌和取温一体化,玻璃材质,搅拌棒内置温度传感器探测液体内部温度,螺旋桨样式;自带搅拌功能,转速、搅拌方向可自动调节;搅拌棒可自动冲洗。

8.仪器自带排风系统,可将酸雾废气排放至废气回收管道或通风橱。不占用通风橱空间。排风采用高转风系统速叶轮风机,大吸力静音。实验过程中自动开启,实验完成后延时关闭。

9.自带触摸电脑,仪器运行状态及每个工位消解温度实时显示。可设置样品数量、加水体积、风冷水冷时间、清洗等参数。

10.内置制备焦磷酸方法,可一键同时制备≥150ml焦磷酸。

11.采用高效微负压过滤、也可自然过滤 ,内置砂芯过滤台保护滤膜、双层溶剂过滤杯,可一键操作,提供2个过滤工位,窗口式PH测量。2个样品同时过滤、洗酸总时间5分钟内完成。

12.机身材质需耐酸碱及有机溶剂。

13.210ml定制样品瓶,样品稀释无需转移。

三、配置要求

1.仪器主机:1台

2.气体发生器:1套

3.过滤系统:1套

4.排风管道:3米

5.样品瓶:20个

6.机械臂:1套


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