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中科院DS-2000/14G 型无掩模单面光刻机
品牌:光电所
型号:DS-2000/14G
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URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
品牌:光电所
型号:URE-2000S/35L(B)
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Nikon光刻机
品牌:尼康
型号:NSR-i12,NSR-1755G7,NSR-1755i7B
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MIDAS匀胶机及显影机
品牌:韩国MIDAS
型号:-
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德国海德堡 NanoFrazor Scholar热探针科研型3D纳米结构激光直写光刻机
品牌:德国海德堡
型号: NanoFrazor Scholar
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OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 6020S
- 产地:美国
OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S, 用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm晶圆尺寸的FO-PLP加工.
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URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
- 品牌:光电所
- 型号: URE-2000S/35L(B)
- 产地:成都
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机, 曝光面积:4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学最 大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍
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URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机
- 品牌:光电所
- 型号: URE-2000S/35L(A)
- 产地:成都
URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机,曝光面积:6 英寸,正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学ZD倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍
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URE-2000S/A 型紫外双面光刻机
- 品牌:光电所
- 型号: URE-2000S/A
- 产地:成都
URE-2000S/A 型紫外双面光刻机,曝光面积:6 英寸,对准精度:± 2μm (双面,片厚 0.8mm),± 0.8μm (单面)
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URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机
- 品牌:光电所
- 型号: URE-2000S/A8
- 产地:成都
URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机, 曝光面积:8 英寸, 曝光波长:365nm: 15mW/cm,405nm:15-30mW/cm2, 对准精度:±2 μm (双面,片厚 0.8mm)±0.8 μm (单面)
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URE-2000/25 型紫外单面光刻机
- 品牌:光电所
- 型号: URE-2000/25
- 产地:成都
URE-2000/25 型紫外单面光刻机,曝光面积:4 英寸,分辨力:1 μm(胶厚 2 μm的正胶),对准精度:± 0.8μm
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URE-2000/17 型紫外单面光刻机(台式)
- 品牌:光电所
- 型号: URE-2000/17
- 产地:成都
URE-2000/17 型紫外单面光刻机(台式),曝光面积:4 英寸,分辨力:1.5μm(胶厚 2 m 的正胶),对准精度:±1μm
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中科院DS-2000/14G 型无掩模单面光刻机
- 品牌:光电所
- 型号: DS-2000/14G
- 产地:成都
DS-2000/14G 型无掩模单面光刻机,采用 DMD 作为数字掩模,像素数 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三种选配,采用缩小投影光刻物镜成像,分辨力 1um。
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OAI UV光源
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI
- 产地:美国
紫外光源OAI UV光源是大面积准直光源。 该器件的输出功率高达10KW。 利用准直镜,UV光源重型是一种高效的紫外光源,适用于各种大规模应用。UV Light Source GrandeThe OAI UV Light Source Grande is a large area collimatedlight source. The device is available with output power up to 10KW. Utilizingcollimating mirrors, the UV
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OAI 2012SM 自动化边缘曝光系统
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 2012SM
- 产地:美国
2012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片,该工具具有自动FOUP装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现,从而增加该生产工具的通用性和高产量。Automated Edge-Bead Exposure SystemModel 2012SMThe Model 2012SM Automated Edge-bead Exposure Systemprovides a cost-effective method for edge
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OAI 2000SM边缘曝光系统OAI 2000AF曝光系统
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 2000SM/OAI 2000AF
- 产地:美国
OAI 2000型曝光系统可以配置为边缘曝光系统(2000SM)或曝光系统(2000AF);这两种配置都基于OAI经过验证的,经过时间测试的平台。两种型号的2000型曝光系统包括UV光源,强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 UV光源提供发散半角<2.0%的可调强度光束。电源从200W到2,000W。强度控制器传感器直接连接到光源,用于精确的强度监控。机器人衬底处理系统是微处理器控制的,并且可以被编程以适应各种各样的衬底尺寸。阴影掩模能力使得用户能够在保持非常接近掩模的同时对衬底的顶部进行图案化。在
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OAI 800FSA 光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 800FSA
- 产地:美国
800FSA型掩模对准器可以配置多种OAI光源,功率高达2KW。
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OAI 5000E 光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 5000E
- 产地:美国
OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能,全自动掩模对准器和曝光工具,可为大型平板应用提供超精密,ding级,亚微米对准和分辨率。 其灵活的设计允许在各种基材(圆形或方形)上印刷高达300mm或20“×20”。 曝光系统兼容近,中,或深紫外范围的光刻胶,并具有计算机控制的LED显微镜照明,在不太理想的观察环境中观察。
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OAI 6000 FSA 全自动上侧后侧光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 6000 FSA
- 产地:美国
•全自动 •侧面对齐 •可选:底部对齐 UV到NUV •集群工具集成 •自定义软件
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OAI 800型光学正面和背面光刻机系统
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 800
- 产地:美国
800型光学正面和背面光刻机系统OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供极其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。模型800光刻机配置了各种各样的的OAI紫外线光源,在权力范围2千瓦。光刻机工具可以容纳基质8英寸广场,以及晶片卡盘定位允许方便装卸。这个划算的光刻机还包括机动背后焦点,电动汽车水准和汽车差距设置。建立在隔振平台,固定器总成担保的固
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德国Heidelberg μPG 101 激光掩膜绘图机
- 品牌:德国海德堡
- 型号: μPG 101
- 产地:德国
写入速度高达90毫米²/分钟 基板6 x 6” 降至0.6µm结构 标准或紫外光源
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德国海德堡 MPO100双光子激光直写/三维光刻3D打印/无掩膜灰度直写光刻
- 品牌:德国海德堡
- 型号: MPO100
- 产地:德国
MPO 100 双光子聚合 (TPP) 多用途工具 Multi-user Tool for 3D Lithography and 3D Microprinting
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德国海德堡 NanoFrazor Scholar热探针科研型3D纳米结构激光直写光刻机
- 品牌:德国海德堡
- 型号: NanoFrazor Scholar
- 产地:德国
NanoFrazor Scholar 适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域 Thermal Scanning Probe Lithography Tool with In-situ Imaging and Grayscale Patterning Capabilities
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德国海德堡 VPG+800/VPG+1400大幅面掩膜版制作激光光刻机
- 品牌:德国海德堡
- 型号: VPG+800/VPG+1100/VPG+1400
- 产地:德国
VPG+800 / VPG+1100 / VPG+1400 大尺寸超高速圖形發生器 The Multi-Purpose Volume Pattern Generators
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光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)
- 品牌:深圳科时达
- 型号: MPS-150
- 产地:美国
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,紫外曝光机等;美国公司为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。
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英国SPTS 蒸发HF刻蚀 SPTS UEtch
- 品牌:英国SPTS
- 型号: SPTS UEtch
- 产地:英国
通过无水乙醇的催化作用,HF气体与SiO2反应生成可挥发的产物SiF4和气态H2O,并通过真空排风抽走。整个反应过程不生成液态水,避免了液体对悬空微纳结构的粘连,从而可以成功释放悬空的微纳米结构。主要用于悬臂梁及其他悬空微纳米结构和SiO2牺牲层的释放刻蚀。
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MemsStar XeF2刻蚀机
- 品牌:英国memsstar
- 型号: XeF2
- 产地:德国
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英国Durham小型台式无掩膜光刻机-Microwriter ML3
- 品牌:英国Durham Magneto Optic
- 型号: Microwriter ML3
- 产地:英国
小型台式无掩模光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便GX的微加工方案。
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德国SUSS 紫外光刻机 MJB4
- 品牌:德国SUSS MicroTec
- 型号: MJB4
- 产地:德国
该设备配备可靠的在亚微米级高度精密的对准以及高分辨光刻系统。具备顶部对准系统和衍射减小光学系统。
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英国 SPTS深硅刻蚀机/等离子刻蚀机
- 品牌:英国SPTS
- 型号: SPTS-01
- 产地:英国
SPTS能为客户提供一系列的先进的工艺,比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圆上的高端封装(3D封装和芯片级封装)。
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SPS 光刻机 POLOS µ
- 品牌:德国SPS-保罗
- 型号: POLOS µ
- 产地:德国
SPS 光刻机 POLOS μ主要特征: 1、写入分辨率低至2 μm2、可调整的写作领域和具有可互换目标的解决方案 3、与CAD文件或位图图像兼容4、与g线光刻胶兼容 5、兼容多种基材(硅,玻璃,金属,塑料等) 6、兼容任何样品尺寸达4英寸的晶片 7、相机反馈以进行对准步骤8、由于没有硬掩模,节省了时间和金钱9、将设计直接覆盖在样品上的直观对齐方法10、占地面积小的桌面 11、非常适合微电子,2D材料,微流体,光电,opty或任何其他2D微加工应用的技术规格参数:1、光源曝光:435 nm; 对
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紫外曝光机/光刻机
- 品牌:德国SUSS MicroTec
- 型号: MJB4
- 产地:德国
Perfect Low-Cost Solution: • High Accuracy • Good Optical performance• latest processes (e.g. UV-NIL) Addressed Markets: • MEMS • Telecommunica
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无掩膜光刻机 激光直写系统
- 品牌:韩国MIDAS
- 型号: MLW-100
- 产地:韩国
紧凑型光学模块:使用备用光学模块减少革命性的机器停机时间
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昊量/auniontech DMD无掩膜光刻机超高分辨率 时间相关单光子计数模块(TCSPC)
- 品牌:上海昊量
- 型号: (TCSPC)
- 产地:徐汇区
产品介绍:上海昊量光电推出全球分辨率很高的时间相关单光子计数TCSPC模块。此模块时间相关单光子计数分辨率<10 ps。上海昊量光电推出全球分辨率很高的时间相关单光子计数TCSPC模块。时间相关单光子计数分辨率<10 ps,zui大16个计数通道,事件计数率达100MHz.关键特性:l <25 ps/<10 ps时间分辨率(FWHM/RMS)l 4个Stop通道,1个Start通道l 事件计数率zui大100MHzl
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EVG105抗蚀处理系统
- 品牌:奥地利EVG
- 型号: EVG105
- 产地:奥地利
可以在EVG105烘焙模块上执行软烘焙、曝光后烘焙和硬烘焙过程。受控的烘烤环境确保了均匀的蒸发。可编程接近销提供了抗蚀剂硬化过程和温度曲线的最佳控制。EVG105烘焙模块可同时处理多达300毫米的晶圆或多达四个100毫米的晶圆。特征独立烘焙模块高达300毫米的晶圆尺寸或同时多达四个100毫米的晶圆温度均匀性≤1°C @ 100°C,烘烤温度高达250°C用于手动和安全晶片装载/卸载的装载销烘烤定时器基板真空(直接接触烘烤)N2吹扫和接近烘烤0-1 mm距离的晶片到加热板可选不规则形状的基底技术数据晶片
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EVG HERCULES集成光刻跟踪系统
- 品牌:奥地利EVG
- 型号: HERCULES
- 产地:奥地利
基于模块化平台,HERCULES将EVG成熟的光学掩模对准技术与集成的晶片清洗、抗蚀剂涂覆、烘焙和抗蚀剂显影模块相结合。HERCULES能够对各种尺寸的晶片进行盒式加工。大力神安全地处理厚,高度弯曲,矩形,小直径晶片,甚至设备托盘。精确的顶侧和底侧对准以及亚微米到超厚(高达300微米)抗蚀剂涂层可用于夹层和钝化应用。卓越的对准平台设计在高产量下实现了高度精确的对准和曝光结果。特征生产平台结合了EVG精密对准和抗蚀剂处理系统的所有优点,占地面积最小多功能平台支持各种基板形状、尺寸、高翘曲模具晶圆甚至托盘
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EVG40 NT光刻系统
- 品牌:奥地利EVG
- 型号: EVG40 NT
- 产地:奥地利
EVG40 NT(独立工具)和AVM (HVM集成模块)能够测量光刻相关参数,如临界尺寸,以及焊接对正精度。由于系统的高测量精度,可以验证是否符合严格的过程规范,并立即优化集成的过程参数。凭借其多样化的测量方法,EVG40 NT可同时适用于大量制造过程,如纳米压印光刻或晶圆到晶圆键合。作为一个应用示例,EVG40 NT完善了EVG用于高精度对准晶圆焊接的产品系列,作为可靠验证EVG GEMINI FB自动熔融焊接系统100纳米焊接重叠精度的记录工具。特征用于光刻和键合计量的通用测量选项用于粘合和光刻应
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美国恩科优N&Q系列光刻机4008
- 品牌:美国恩科优
- 型号: N&Q4008
- 产地:美国
品牌:恩科优(N&Q)型号:NXQ400-8产地:美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的。
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美国恩科优N&Q系列光刻机8006
- 品牌:美国恩科优
- 型号: N&Q8006
- 产地:美国
品牌:恩科优(N&Q)型号:NXQ800-6产地:美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q8000系列光刻机是以自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的。
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荷兰4PICO 激光直写光刻机 PicoMaster200
- 品牌:荷兰4PICO
- 型号: 4PICOPicoMaster200
- 产地:荷兰
PicoMaster 200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率(375纳米激光源)●300纳米分辨率(405纳米激光源)●4095灰阶●业界ZJ实力的成套全息设计软件●ZD230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器,专为用户提供在感光层中创建ZG自由度的微结构而设计。
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荷兰4PICO 大幅面无掩模激光直写光刻机PicoMaster XF 500-H
- 品牌:荷兰4PICO
- 型号: 4PICOPicoMasterXF500-H
- 产地:荷兰
PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备,它具有每毫米超过1200条线的输出能力,特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件,提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法,它们可以很轻松地将把这些效果组合起来,十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构,来定制数据库、完善产品设计。
- 激光刻蚀机
- 仪器网导购专场为您提供激光刻蚀机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选激光刻蚀机的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。