离子减薄仪

使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备ZG水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。 各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。

Unimill 既可以使用全球独家的超高能离子枪进行快速研磨，也可以使用专用的低能离子枪进行Z终抛光和精修处理。

徕卡多功能例子减薄仪Leica EM RES102，通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以清除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。 突出特点： ► 对无机薄片样品进行离子减薄，适宜TEM透射电子显微镜观察 ► 对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电镜观察样品内部结构信息