供应商：徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

Leica EM RES102 通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以去除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。Leica EM RES102主要功能为：对无机薄片样品进行离子减薄，使得薄片样品可被透射电子穿过，从而适宜TEM透射电子显微镜观察；对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，样品表面离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电子显微镜观察样品内部结构信息。您的优势主要技术参数： 具有2把离子枪，离子束能量为0.8keV-10keV，相对位置，可分别±45°倾斜，样品台倾斜角度-

供应商：徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。

供应商：链能金相实验设备南京有限公司

徕卡多功能例子减薄仪Leica EM RES102，通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以清除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。 突出特点： ► 对无机薄片样品进行离子减薄，适宜TEM透射电子显微镜观察 ► 对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电镜观察样品内部结构信息

供应商：上海爱仪通网络科技有限公司

GU-AI系列离子加工仪器具有独特的无磁聚集离子束设计，实现高效的大面积样品加工，并可将样品表面的损伤层或变形层降至低，获得样品内部真实的结构信息。GU-AI8000是可获得高质量平整面的离子研磨仪。无论是截面样品制备,亦或是大面积平面抛光，GU-AI8000均可以提供有效的解决方案，其可制备多种材料类型样品，包括金属样品、多孔样品、脆性样品、复合材料样品.…适用于电子电器行业、新能源行业、汽车行业、地质行业等。GU-AI9000是可获得纳米级别薄片的离子减薄仪，是透射电镜样品制备流程中不可或缺的微纳

供应商：上海爱仪通网络科技有限公司

产品主要技术特点： 氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终ji抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生*的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到*化。 集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行*控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。 涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan专li的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换（< 1分钟），省去了换样过程中必须*泄真空至大气的烦恼。

供应商：上海育丰国际贸易有限公司

仪器简介： 一、1050型离子减薄仪性能概述 For many of today’s advanced materials, analysis by transmission electron microscopy (TEM) is the best technique for studying material structure and p

供应商：天津徕科光学仪器有限公司

仪器简介： 功能大的离子减薄仪器，徕卡RES102多功能离子减薄仪。Leica EM RES102 是一款独特的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调，以获得**离子研磨结果。这一款独立的桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨功能外，徕卡EM RES102还可用于低能量极温和的离子束研磨过程。功能介绍.透射电镜TEM样品离子减薄.扫描电镜SEM样品大面积平面离子抛光.扫描电镜SEM样品离子刻蚀.扫描电镜SEM样品截面切割.聚焦离子

供应商：北京创诚致佳科技有限公司

德国徕卡EM RES102离子减簿仪使您的样品具备ZG水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。

供应商：广州领拓仪器科技有限公司

多功能离子减薄仪EM RES102Leica EM RES102 通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以去除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。Leica EM RES102主要功能为：对无机薄片样品进行离子减薄，使得薄片样品可被透射电子穿过，从而适宜TEM透射电子显微镜观察；对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，样品表面离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电子显微镜观察样品内部结构信息。* 具有2把离子枪，离子束能量为0.8keV-10keV，相对位置，可分别±45°倾斜，样

供应商：北京中兴百瑞技术有限公司

电解抛光减薄是制备金属薄膜最常用的方法之一。双喷射电解减薄器是其中主要的一种装置。MTP-1型磁力驱动双喷射电子减薄器，增设了自压式液氮冷却系统，提高了电解液冷却速度、使用更方便，特别适用于无干冰供应的地区。此外，本装置仍保留原有的干冰冷却槽，用户可根据具体条件选择电解液冷却方式。改进后的MTP-1A型磁力驱动双喷射电解减薄器具有以下优点： 1. 采用同轴光导控制，对中性好、使用过程无需调整、操作方便。一对同轴光导封装在喷管中，操作过程不会被折断，还能屏蔽外界光源的影响，提高信-燥比。因此，在金属薄片抛光

供应商：北京中兴百瑞技术有限公司

性能特点1、监视系统采用聚光光源2、减薄过程无离子束遮挡。3、观察系统设计有了防污染系统4、结构紧凑，体积小，有防误操作系统5、可获得十分清洁的样品，使得从样品中提取的信息更为真实可靠。6、适用性广泛，可制备金属、非金属、陶瓷、矿物、半导体、骨骼、牙齿等几乎所有固体材料产品编号ZB-YQ69产品名称离子减薄仪离子束加速电压0-10KV 连续可调最大束流密度大于 200μA/cm减薄速度( 铜 )30μ/h（最大）样品对离子束的倾角5-90°（普通台）0-90°（精细抛光台）真空度5×103Pa（不送气）离

供应商：北京中兴百瑞技术有限公司

电解抛光减薄是制备金属薄膜最常用的方法之一。双喷射电解减薄器是其中主要的一种装置。ZB-MT3000磁力驱动电解双喷减薄仪，增设了自压式液氮冷却系统，提高了电解液冷却速度，使用更方便，特别适用于无干冰供应的地区。此外，本装置仍保留原有的干冰冷却槽，用户可根据具体条件选择电解液冷却方式。ZB-MT3000磁力驱动电解双喷减薄仪具有以下优点：1. 采用同轴光导控制，对中性好、使用过程无需调整、操作方便。一对同轴光导封装在喷管中，操作过程不会被折断，还能屏蔽外界光源的影响，提高信-燥比。因此，在金属薄片抛光减薄

供应商：科扬国际贸易（上海）有限公司

仪器简介：PIPS 装样器 开发出三种PIPSTM独特装样器来满足所有TEM样品的需求： l DuoPost夹具使用简便，并能够快速进行样品调换。 l DuoPost胶用于易碎和感光型样品。 l 石磨装样器能够降低样品污染 提供其他附加功能的同时，石磨装样器可以和铝DuoPost一样，提供相同的双面低角度减薄（离子减薄） 每个装样器都可以在角度小于1度的情况下进行双面离子束减薄。DuoPost装样器

供应商：科扬国际贸易（上海）有限公司

仪器简介：PIPS Sample Coo领 Option New technology and developments in new materials require changes in ion mil领 techniques to enhance sample quality and high-resolution TEM results. Gatan's Precision Ion Polishing System (PIPS) continues to be an industry

供应商：科扬国际贸易（上海）有限公司

仪器简介：离子减薄仪（Precision Ion Polishing System ）：为整套TEM样品制备的zui后一道工序，经氩离子减薄的样品可在TEM 下直接观察。GATAN型号691zuixin一代精密离子减薄仪在标准配置中增加了低能量离子枪功能，zuidi离子枪能量只有0.1KeV，尤其适合能量敏感性样品。此外，刚刚新推出的可选配置液氮冷台，可满足用户对温度敏感性样品减薄的需求。技术参数：离子源 离子枪 两个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 减薄角度 +10° 到 -10°，每

供应商：深圳市新则兴科技有限公司

使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备ZG水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。 各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。