供应商：徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

Leica EM RES102 通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以去除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。Leica EM RES102主要功能为：对无机薄片样品进行离子减薄，使得薄片样品可被透射电子穿过，从而适宜TEM透射电子显微镜观察；对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，样品表面离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电子显微镜观察样品内部结构信息。您的优势主要技术参数： 具有2把离子枪，离子束能量为0.8keV-10keV，相对位置，可分别±45°倾斜，样品台倾斜角度-

供应商：链能金相实验设备南京有限公司

徕卡多功能例子减薄仪Leica EM RES102，通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以去除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。 突出特点： ► 对无机薄片样品进行离子减薄，适宜TEM透射电子显微镜观察 ► 对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电镜观察样品内部结构信息

供应商：徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。

供应商：上海育丰国际贸易有限公司

仪器简介： 一、1050型离子减薄仪性能概述 For many of today’s advanced materials, analysis by transmission electron microscopy (TEM) is the best technique for studying material structure and p

供应商：北京裕隆时代科技有限公司

工作原理离子减薄制样技术属于离子束加工范畴。其方法是用高能离子束轰击样品表面、高能离子与样品表面原子发生弹性碰撞、样品表面原子能量增大至高于该原子逸出功时，便飞离样品，从而使样品逐渐减薄。离子减薄仪通常用双枪从样品两侧轰击。样品随着支架旋转，使得离子束轰击均匀。产品描述GL2011型离子减薄仪由国内专家精心设计制作，性能稳定，应用广泛，可对金属、非金属、陶瓷、矿物、半导体、骨骼、牙齿等几乎所有固体材料进行精密减薄处理。产品特点 多功能样品台，兼具离子减薄和离子抛光功能 离子束流自动控制 监视系统采用聚光光

供应商：天津徕科光学仪器有限公司

仪器简介： 功能大的离子减薄仪器，徕卡RES102多功能离子减薄仪。Leica EM RES102 是一款独特的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调，以获得**离子研磨结果。这一款独立的桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨功能外，徕卡EM RES102还可用于低能量极温和的离子束研磨过程。功能介绍.透射电镜TEM样品离子减薄.扫描电镜SEM样品大面积平面离子抛光.扫描电镜SEM样品离子刻蚀.扫描电镜SEM样品截面切割.聚焦离子

供应商：广州领拓仪器科技有限公司

多功能离子减薄仪EM RES102Leica EM RES102 通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以去除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。Leica EM RES102主要功能为：对无机薄片样品进行离子减薄，使得薄片样品可被透射电子穿过，从而适宜TEM透射电子显微镜观察；对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，样品表面离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电子显微镜观察样品内部结构信息。* 具有2把离子枪，离子束能量为0.8keV-10keV，相对位置，可分别±45°倾斜，样

供应商：北京中兴百瑞技术有限公司

电解抛光减薄是制备金属薄膜最常用的方法之一。双喷射电解减薄器是其中主要的一种装置。MTP-1型磁力驱动双喷射电子减薄器，增设了自压式液氮冷却系统，提高了电解液冷却速度、使用更方便，特别适用于无干冰供应的地区。此外，本装置仍保留原有的干冰冷却槽，用户可根据具体条件选择电解液冷却方式。改进后的MTP-1A型磁力驱动双喷射电解减薄器具有以下优点： 1. 采用同轴光导控制，对中性好、使用过程无需调整、操作方便。一对同轴光导封装在喷管中，操作过程不会被折断，还能屏蔽外界光源的影响，提高信-燥比。因此，在金属薄片抛光

供应商：北京中兴百瑞技术有限公司

性能特点1、监视系统采用聚光光源2、减薄过程无离子束遮挡。3、观察系统设计有了防污染系统4、结构紧凑，体积小，有防误操作系统5、可获得十分清洁的样品，使得从样品中提取的信息更为真实可靠。6、适用性广泛，可制备金属、非金属、陶瓷、矿物、半导体、骨骼、牙齿等几乎所有固体材料产品编号ZB-YQ69产品名称离子减薄仪离子束加速电压0-10KV 连续可调最大束流密度大于 200μA/cm减薄速度( 铜 )30μ/h（最大）样品对离子束的倾角5-90°（普通台）0-90°（精细抛光台）真空度5×103Pa（不送气）离

供应商：北京中兴百瑞技术有限公司

电解抛光减薄是制备金属薄膜最常用的方法之一。双喷射电解减薄器是其中主要的一种装置。ZB-MT3000磁力驱动电解双喷减薄仪，增设了自压式液氮冷却系统，提高了电解液冷却速度，使用更方便，特别适用于无干冰供应的地区。此外，本装置仍保留原有的干冰冷却槽，用户可根据具体条件选择电解液冷却方式。ZB-MT3000磁力驱动电解双喷减薄仪具有以下优点：1. 采用同轴光导控制，对中性好、使用过程无需调整、操作方便。一对同轴光导封装在喷管中，操作过程不会被折断，还能屏蔽外界光源的影响，提高信-燥比。因此，在金属薄片抛光减薄

供应商：科扬国际贸易（上海）有限公司

仪器简介：PIPS 装样器 开发出三种PIPSTM独特装样器来满足所有TEM样品的需求： l DuoPost夹具使用简便，并能够快速进行样品调换。 l DuoPost胶用于易碎和感光型样品。 l 石磨装样器能够降低样品污染 提供其他附加功能的同时，石磨装样器可以和铝DuoPost一样，提供相同的双面低角度减薄（离子减薄） 每个装样器都可以在角度小于1度的情况下进行双面离子束减薄。DuoPost装样器

供应商：科扬国际贸易（上海）有限公司

仪器简介：PIPS Sample Coo领 Option New technology and developments in new materials require changes in ion mil领 techniques to enhance sample quality and high-resolution TEM results. Gatan's Precision Ion Polishing System (PIPS) continues to be an industry

供应商：科扬国际贸易（上海）有限公司

仪器简介：离子减薄仪（Precision Ion Polishing System ）：为整套TEM样品制备的zui后一道工序，经氩离子减薄的样品可在TEM 下直接观察。GATAN型号691zuixin一代精密离子减薄仪在标准配置中增加了低能量离子枪功能，zuidi离子枪能量只有0.1KeV，尤其适合能量敏感性样品。此外，刚刚新推出的可选配置液氮冷台，可满足用户对温度敏感性样品减薄的需求。技术参数：离子源 离子枪 两个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 减薄角度 +10° 到 -10°，每

供应商：北京创诚致佳科技有限公司

德国徕卡EM RES102离子减簿仪使您的样品具备ZG水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。

供应商：深圳市新则兴科技有限公司

使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备ZG水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。 各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。