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Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪
品牌:英国Quorum
型号:Q150V Plus
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日立离子溅射仪 MC1000
品牌:日立
型号:MC1000
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磁控溅射靶源
品牌:美国PVD
型号:CKJS
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单靶等离子溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:GSL-1100X-SPC-16
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双靶磁控溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:VTC-600-2HD-1000
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水冷型磁控溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
水冷型磁控溅射仪,7寸人机界面,自动手动模式切换控制,最大功率1000w直流磁控溅射。
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郑科探实验室大功率桌面磁控溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
大功率桌面溅射仪,采用小电流高电压,最大功率1000w,配有水冷机接口,可长时间运行。
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小型溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
小型溅射仪郑州科探KT-Z1650PVD,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。
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郑科探实验室小型蒸镀仪镀金仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650CVD
- 产地:郑州
小型蒸镀仪KT-Z1650CVD是郑州科探仪器设备有限公司生产,台式设计、软件自动操控、高性价比,非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面。软件自动操控、工艺储存,高性价比,非常适合实验室科研使用。称为热蒸发镀膜,热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。
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LMC-2000磁控溅射仪
- 品牌:北京裕隆
- 型号: LMC-2000
- 产地:海淀区
全自动控制,操作简捷 镀膜颗粒小,适用于场发射电镜等高倍样品观测,和电极制备 无高热损伤,适用于对温度敏感的样品 内置操作向导,无需培训即可熟练操作
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108进口离子溅射仪
- 品牌:天津天泽智能
- 型号: 108
- 产地:东丽区
108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 描述 108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 主要特性 l 通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。 l 操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。 l 可用MTM-10高分辨膜厚控制仪(选件)精确测定所镀膜的厚度。 l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和ZJ的镀膜效果。 可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便。
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意力博通溅射仪ETD-800
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-800
- 产地:
ETD-800型全自动离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。主机规格L307mm*W260mm*H260mm电源规格220V/50HZ110V60HZ可选靶(上部电极)金:直径:50mm,厚度:0.1mm真空样品室直径:160mm,高:120mm定时器最长时间:3600S机械泵2L/S
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意力博通溅射仪ETD-900
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-900
- 产地:
ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。特点:1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得**镀膜效果;3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4.根据电场中气体电离特
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意力博通溅射仪ETD-900C
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-900C
- 产地:
ETD-900C是一款具有溅射和蒸发两种功能的镀膜设备,由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖组成,由电缆将两个机箱中的控制部件连接起来,通过面板上的按键状态,经溅射机箱中的CPU判别操作项,以确定允许与否(具体操作见说明书)。设备使用简便,性能可靠,蒸发材料为碳绳,溅射材料为金、铂等。型号ETD-900c仪器尺寸400mm×300mm×400mm(L×W×H)靶(上部电极)50mm×0.1mm(D×H)真空样品室硼硅酸盐玻璃160mm×110mm(D×H)样品台50mm(D)工作电压
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意力博通溅射仪ETD-2000
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-2000
- 产地:
ETD-2000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。特点:1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得**镀膜效果;3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4.陶瓷密封高压头比通
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意力博通溅射仪ETD-2000C
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-2000C
- 产地:
ETD-2000C溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电极制作。特点:在ETD-2000/3000离子溅射仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜实验室样品制备。型号ETD-2000c仪器尺寸400mm×300mm×400mm(L×W×H)靶(上部电极)50mm×0.1mm(D×H)真空样
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意力博通溅射仪ETD-3000
- 品牌:北京意力博通
- 型号: ETD-3000
- 产地:
ETD-3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得**镀膜效果;3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4.陶瓷密封高压头比通常采用
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等离子薄膜溅射仪
- 品牌:合肥科晶
- 型号: GSL1100X-SPC-12
- 产地:
产品名称:等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12 产品简介:GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备,可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析,尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器装有分子泵,分子泵系统特别适用于对真空要求高、真空环境好的用户选用。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000环
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透射专用超高真空镀碳仪
- 品牌:英国Cressington
- 型号: Cressington 208C
- 产地:英国
英国Cressington是业内的电镜和电子探针配套的高性能真空镀膜仪供应商,也是此类仪器配套方案的先驱者。自从上世纪六十年代开始,伴随着商业扫描电镜的普及,Cressington的配套镀膜设备也一并研发和配套使用,并获得科研工作者的一致好评。208C High Vacuum Turbo CARBON COATER for TEM,FESEM透射专用分子泵超高真空镀碳仪 主要优势:超高真空条件下使用超纯的碳棒获得超高质量镀膜处理, 特别适合TEM(Cs), STEM 和高端场发射电镜系统;反馈控制可
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全自动真空离子溅射仪喷金仪 直流溅射镀膜导电处理
- 品牌:上海众濒
- 型号: CIS-200
- 产地:奉贤区
全自动真空离子溅射仪喷金仪 直流溅射镀膜导电处理优势看得见:全自动微电脑控制,更智能; 专利技术,1 0秒更换靶材; 样品台内置高度调节功能,1秒即可调节; 内置1 0步操作向导,5分钟即可熟练使用设备;
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全自动真空离子溅射仪喷金仪 磁控溅射镀膜导电处理
- 品牌:上海众濒
- 型号: CIS400
- 产地:奉贤区
全自动真空离子溅射仪喷金仪 磁控溅射镀膜导电处理优势看得见:全自动微电脑控制,更智能; 专利技术,1 0秒更换靶材; 样品台内置高度调节功能,1秒即可调节; 内置1 0步操作向导,5分钟即可熟练使用设备;
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离子溅射仪专用膜厚监控仪
- 品牌:英国Cressington
- 型号: MTM-10 / 20
- 产地:英国
The MTM High Resolution Thickness Monitor will fit any of the Cressington sputter and carbon coating systems as well as other thin film vacuum coating systems which allow for a vacuum feedthrough of 10 mm diameter a on a plate thickness of 9
- 离子溅射仪
- 仪器网导购专场为您提供离子溅射仪功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选离子溅射仪的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。