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ES03 快速摄谱式 多入射角光谱椭偏仪 品牌:北京赛凡
型号:ES03
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智能型多功能椭偏仪Smart SE 品牌:法国HORIBA JY
型号:Smart SE
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智能型多功能椭偏仪 Smart SE 品牌:法国HORIBA JY
型号:Smart SE
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全光谱椭圆偏振测厚仪SE950 品牌:上海致东
型号:SE950
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德国Sentech红外光谱椭偏仪SENDIRA 品牌:德国Sentech
型号:SENDIRA
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HORIBA 研究级经典型椭偏仪 UVISEL Plus
- 品牌:日本堀场
- 型号: HORIBA UVISEL
- 产地:日本
椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。此外,还可以测试材料的反射率及透过率。
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HORIBA.AutoSE.全自动快速椭偏仪
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: AutoSE
- 产地:法国
全自动化&高集成度&可视化光斑 操作简单,测试快速,为一般操作工人设计 新型的全自动薄膜测量分析工具可在几秒钟内完成全自动测量和分析,并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。
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上海致东全光谱椭偏仪
- 品牌:上海致东
- 型号: SE-SEMI-XYZ Auto tage
- 产地:上海
上海致东全光谱椭偏仪
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HORIBA 真空紫外椭偏仪 UVISEL 2 VUV
- 品牌:日本堀场
- 型号: UVISEL 2 VUV
- 产地:日本
专为VUV 测量设计,整个系统处于真空状态,无氧气吸收。具备高度准确性的超快测量速度;快速样品室抽真空能力,方便快速更换样品;氮气消耗量少。
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EMPro 多入射角激光椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EMPro
- 产地:
EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k;也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k;亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。 EMPro采用了量拓科技多项ZL技术。 特点:
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ES01 快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ES01
- 产地:
ES01是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度全自动光谱椭偏仪,系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见到红外。 ES01系列光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 ES01系列光谱椭偏仪适合于对样品进行实时和非实时检测。 特点: 原子层量级的检测灵敏度
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ESS03 波长扫描时式 多入射角光谱椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ESS03
- 产地:
ES0S3是针对科研和工业环境中薄膜测量领域推出的波长扫描式高精度多入射角光谱椭偏仪,此系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见、近红外、到远红外。 ESS03采用宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。 ESS03系列多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,膜层厚度、表面微粗糙度等)和光学参数(如,折射率n、消光系数k、复介电常数ε等),也可用于测量块状材料的光学参数。 ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。
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EM12 精致型多入射角激光椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EM12
- 产地:
EM12是采用先进的测量技术,针对中端精度需求的研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。 EM12可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k;也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k;亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。 EM12采用了量拓科技多项ZL技术。 特点:
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EM13 LD系列多入射角激光椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EM13
- 产地:
EM13LD 系列是采用先进的测量技术,针对普通精度需求的研发和质量控制领域推出的多入射角激光椭偏仪。 EM13LD系列采用半导体激光器作为光源,可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k;也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k;亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。 EM13LD系列采用了量拓科技多项ZL技术。
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ES01-PV 快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪(光伏专用)
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ES01-PV
- 产地:
ES01-PV是针对光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的高性能光谱椭偏仪。 ES01-PV用于测量和分析光伏领域中多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),典型样品包括:绒面单晶和多晶太阳电池上的单层减反膜(如SiNx,SiO2,TiO2,Al2O3等)和多层减反膜(如,SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx /Al2O3等),以及薄膜太阳电池中的多层纳米薄膜。 特点
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EMPro-PV 型多入射角激光椭偏仪(光伏专用)
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EMPro-PV
- 产地:
EMPro-PV是针对光伏太阳能电池高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度,以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EMPro-PV融合多项量拓科技ZL技术,采用一体化样品台技术,兼容测量单晶和多晶太阳电池样品,并实现二者的轻松转换。一键式多线程操作软件,使得仪器操作简单安全。 特点:
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ESS01 波长扫描式 自动变角度光谱椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ESS01
- 产地:
ESS01是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的波长扫描式、高精度自动变入射角度光谱椭偏仪,此系列仪器波长范围覆盖紫外、可见、近红外到远红外。 ESS01采用宽光谱光源结合单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。 ESS01系列光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚层厚度、表面为粗糙度等)和光学参数(如,折射率n、消光系数k、复介电常数ε等),也可用于测量块状材料的光学参数。 ESS01适合多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。 技术
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ES03 快速摄谱式 多入射角光谱椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ES03
- 产地:
ES03是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度多入射角光谱椭偏仪,仪器波长范围从紫外到近红外。 ES03多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 ES03系列适合于对样品进行实时和非实时的检测。 特点: 原子层量级的检测灵敏度 国际先进的采样方法、
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EM12-PV 精致型多入射角激光椭偏仪(光伏专用)
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EM12-PV
- 产地:
EM12是采用先进的测量技术,针对中端精度需求的光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。 EM12-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度,以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EM12-PV融合多项量拓科技ZL技术,采用一体化样品台技术,兼容测量单晶和多晶太阳电池样品。一键式多线程操作软件,使得仪器操作简单安全。
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法国HORIBA UVISEL 2研究级全自动椭偏仪
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: HORIBAUVISEL2
- 产地:法国
技术参数:·光谱范围:190-2100 nm·8种光斑尺寸: 小35 X 85 um·探测器:3个独立探测器,分别优化紫外,可见和近红外·自动样品台尺寸:200mm X 200mm;XYZ方向自动调节; Z轴高度>35mm·样品水平度自动调整·自动量角器:变角范围35°- 90°,全自动调整,
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美国Gaertner椭偏仪膜厚测量仪Ellipsometer
- 品牌:美国Gaertner
- 型号: GaertnerEllipsometer
- 产地:美国
Gaertner LSE-2A2W 进口椭偏仪。
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Film Sense FS-1™多波长椭偏仪
- 品牌:美国Film Sense
- 型号: FS-1™
- 产地:美国
Film Sense FS-1™多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动 式部件椭偏探测器,可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现快速和可 靠地薄膜测量。大多数厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要简单的 1 秒测量,就 可以获得非常精密和准确的数据。
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HORIBA 一键式全自动快速椭偏仪 Auto SE
- 品牌:日本堀场
- 型号: HORIBA Auto SE
- 产地:日本
一键式全自动快速椭偏仪 Auto SE——新型的全自动薄膜测量分析工具。采用工业化设计,操作简单,可在几秒钟内完成全自动测量和分析,并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。
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HORIBA 研究级全自动椭偏仪 UVISEL 2
- 品牌:日本堀场
- 型号: UVISEL 2
- 产地:日本
UVISEL2是一款完全革新的全自动光谱型椭偏仪。继承并发展了经典机型UVISEL的高准确性、高灵敏度和高稳定性等技术特点的同时,配备革新的可视系统,多达8个尺寸微光斑选项,小达35×85μm2,适用于所有薄膜材料研究领域。是目前市场上的机型。
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HORIBA 智能型多功能椭偏仪 Smart SE
- 品牌:日本堀场
- 型号: Smart SE
- 产地:日本
多功能性设计,配置灵活,具备多角度测量能力,可方便实现在线与离线配置切换。是一款针对单层和多层薄膜进行简单,快速,精确表征和分析的工具。
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激光椭偏仪SE 400adv PV
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SE 400adv PV
- 产地:德国
激光椭偏仪SE 400adv PV,是全球化使用的标准仪器,用于测量PV单层防反射涂层的厚度和折射率指数。特别用于表征单晶和多晶硅太阳能电池上的SiNx 防反射单层膜的性能。该仪器用于SiNx涂层和薄钝化层SiO2和Al2O3的质量控制。
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激光椭偏仪SE 500adv
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SE 500adv
- 产地:德国
激光椭偏仪SE 500adv, 结合椭偏反射CER的SE 500adv 椭偏仪SE 500adv将激光椭偏仪和反射仪结合在一个系统中。这种组合允许零度反射法用于快速薄膜分析,并且允许透明膜以激光椭偏仪的亚埃精度将可测量的厚度范围扩展到25埃米,从而明确地确定厚度。
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德国Sentech激光椭偏仪SE 400adv
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SE 400adv
- 产地:德国
德国Sentech激光椭偏仪SE 400adv, 测量透明薄膜的厚度和折射率指数,具有测量速度、亚埃级别的厚度精度和折射率测定的精度。多角度测量允许使用激光椭偏仪SE 400adv表征吸收膜特征。
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美国AST椭偏仪
- 品牌:美国Angstrom Sun
- 型号: SE200BM/SE300BM/SE450BM
- 产地:美国
美国赛伦科技为AST在ZG地区的授权总销售服务商,赛伦科技在上海,北京分别设有办事处。美国AST (Angstrom Sun Technologies Inc)是世界主要针对科研单位提供:spectroscopic ellipsometer (SE), spectroscopic reflectometer (SR) and Microspectrophotometer (MSP)的知名供应商。客户遍布全球主要科研大学及主要半导体厂商:NISTISMINASAJPLMarshall Space Cente
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美国Gaertner激光型椭偏仪,STOKES Ellipsometer
- 品牌:美国Gaertner
- 型号: Model LSE-2A2W, LSE
- 产地:美国
high speed film thickness system measures routinely in less than a second! Tilt-free, focus free, hands-off operation for similar wafers. Fastest possible instrument for thin film measurement.
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研究级经典型椭偏仪-UVISEL
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: UVISEL
- 产地:法国
仪器简介: 20多年技术积累和发展的结晶,是一款高准确性、高灵敏度、高稳定性的经典椭偏机型。即使在透明的基底上也能对超薄膜进行最精确的测量。采用PEM相位调制技术,与机械旋转部件技术相比,能提供更好的稳定性和信噪比。技术参数:可选光谱范围: * UVISEL Extended Range(190nm -2100 nm) * UVISEL NIR (250 nm -2100 nm ) * UVISEL VIS (210 nm -880 nm ) * UVISEL FUV(190 nm -8
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HORIBA JY研究级全自动椭偏仪UVISEL 2
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: UVISEL 2
- 产地:法国
UVISEL2是一款完全革新的全自动光谱型椭偏仪。继承并发展了经典机型UVISEL的高准确性、高灵敏度和高稳定性等技术特点的同时,配备革新的可视系统,多达8个尺寸微光斑选项,最小达35×85μm2,适用于所有薄膜材料研究领域。是目前市场上duyi无二的机型。技术参数:光谱范围:190-2100 nm8种光斑尺寸: 最小35 X 85 um探测器:3个独立探测器,分别优化紫外,可见和近红外自动样品台尺寸:200mm X 200mm;XYZ方向自动调节; Z轴高度>35mm样品水平度自动调整自动量角器:
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研究级经典型椭偏仪 UVISEL
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: UVISEL
- 产地:法国
UVISEL2是一款完全革新的全自动光谱型椭偏仪。继承并发展了经典机型UVISEL的高准确性、高灵敏度和高稳定性等技术特点的同时,配备革新的可视系统,多达8个尺寸微光斑选项,最小达35×85μm2,适用于所有薄膜材料研究领域。是目前市场上duyi无二的机型。产品特点:完全自动化设计,自动对焦、校正全新光路、电路设计,测量精度更高,速度更快50KHz高频PEM相调制技术,测量光路中无运动部件双光栅光谱仪系统,杂散光YZ水平高8个尺寸微光斑,ZL可视技术自动平台样品扫描成像技术参数:光谱范围:190-2100
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薄膜厚度测量系统
- 品牌:上海孚光精仪
- 型号: FR-Prob
- 产地:德国
这款薄膜厚度测量系统平台是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。这个薄膜厚度测量系统由如下5个模块组成:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪我们提供多种光谱仪类型
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自动椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-2型
- 产地:
仪器简介:产品特点: 仪器采用消光法自动测量薄膜厚度和折射率,具有精度高、灵敏度高以及自动控制等特点。光源采用氦氖激光器,功率稳定波长精度高。 仪器采用USB接口与电脑连接,配套软件功能齐全,具有多样数据采集及处理方式,适用于不同用户的需要。技术参数:规格与主要技术指标: 测量范围:1nm-4000nm 折射率范围:1-10 测量最小值:≤1nm 入射角:20°- 90°精度≤0.05° 度盘刻度:每格1度 允许样品尺寸:φ10-φ140mm,厚
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上海致东全光谱椭圆偏光测厚仪
- 品牌:上海致东
- 型号: SR-PV-1400x1200
- 产地:上海
由椭圆仪校正 量测色度坐标 量测时间1-3s ,精确度高 国内自行研发,价格合理 量测膜厚(N.K)值 .量测穿透率(T%).反射率(R%) FFT for very thick layer (up to 50 um)
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上海致东全光谱椭圆偏光测厚仪
- 品牌:上海致东
- 型号: 全光谱椭圆偏光测厚仪
- 产地:上海
上海致东全光谱椭圆偏光测厚仪
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上海致东HIT异质结光学评价专用机
- 品牌:上海致东
- 型号: OLED、TFT-LCD、Touch Panel
- 产地:上海
针对HIT(异质结)太阳能电池片加以客制化定制量测ITO,n+aSi,aSi,膜厚以及(n,k),反射率(R%)以及穿透率(T%),4PP... SR , R% (Spectroscopic Reflectometer) SE (Spectroscopic Ellipsmeter) 4PP ,Ω/cm2(Four Point Probe) ST,T%(Spectroscopic Transmittance)
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上海致东全光谱椭圆偏光测厚仪
- 品牌:上海致东
- 型号: SE
- 产地:上海
**台国人自行开发 波长范围:360nm-950nm 快速量测:<6Sec 全自动量测(Recipe Driver) 精密量测膜厚及折射率(反射率:option) 各种功能的光学常数量测和光谱特性分析 椭偏参数精度:≤±0.01 for Tan(φ);≤±0.01 for Cos (Δ) 可直接量测镀膜在透明基板,而无需在基板背面打毛及染黑(ITO on Glass、SiN on Glass)
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HORIBA智能型多功能椭偏仪 Smart SE
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: Smart SE
- 产地:法国
HORIBA Smart SE智能型多功能椭偏仪是一款针对单层和多层薄膜进行简单,快速,精确表征和分析的工具。 多功能性设计,配置灵活,具备多角度测量能力,可方便实现在线与离线配置切换。
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[公开招标]安徽师范大学液相色谱-四级杆飞行时间质谱联用仪等招标
安徽师范大学公开招标液相色谱-四级杆飞行时间质谱联用仪,多光子全波段红外微区空间成像光谱测试系统,制备型液相色谱、高效液相色谱仪,紫外可见近红外分光光度计,圆偏振发射光谱仪、常温凝胶渗透色谱,电子显微镜样品清洗机、微电极拉制器,项目编号:FSKY34000120225133号001
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[公开招标]南京大学椭偏仪采购招标公告
南京大学公开招标椭偏仪,项目编号:ZH2022020098/JTCC-2211AW1976
- 椭偏仪/椭圆偏振仪
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