供应商：优尼康科技有限公司

全自动化&高集成度&可视化光斑 操作简单，测试快速，为一般操作工人设计 新型的全自动薄膜测量分析工具可在几秒钟内完成全自动测量和分析，并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。

供应商：致东光电科技（上海）有限公司

上海致东全光谱椭偏仪

供应商：深圳市科时达电子科技有限公司

德Sentech SE 400adv PV 激光椭偏仪,是化使用的标准仪器，用于测量PV单层防反射涂层的厚度和折射率指数。特别用于表征单晶和多晶硅太阳能电池上的SiNx 防反射单层膜的性能。该仪器用于SiNx涂层和薄钝化层SiO2和Al2O3的质量控制。

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德Sentech SE 800 PV 激光椭偏仪，SENTECH设计了SE 800 PV，用于表征由SiNx/SiO2、SiNx/SiNy或SiNx/Al2O3组成的多层钝化膜和防反射涂层。分析了单晶和多晶硅太阳电池的折射率指数、吸收和膜厚。在配方模式下进行复杂的测量，速度快，操作容易。

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德国Sentech RT Inline光伏测量仪器，RT Inline薄膜反射和透射的在线监测系统，反射率、透射率和膜厚的高速在线测量是RT Inline的设计特点。传感器头阵列扫描薄膜在大型玻璃基板上的反射和/或透射，作为内部参考测量。利用FTPadv Expert软件可以方便地进行层沉积过程的在线监测。软件接口可用于与主机的数据通信。

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德Sentech FTPadv 台式薄膜探针反射仪，FTPadv是一种具有成本效益的台式反射膜厚仪解决方案，它具有非常快速的厚度测量。在100毫秒以内进行测量，其精度低于0.3nm，膜厚范围在50 nm -25 µm。为了便于分光反射测量操作，该仪器包括了范围广泛的预定配方。

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德Sentech FTPadv Expert 综合薄膜测量软件，光谱反射测量软件FTPadv Expert是专门为测量和分析R(λ)和T(λ)而设计的。用于确定各种材料的薄膜厚度、消光系数或折射率的光谱数据分析，这些参数都被加载到SENTECH光谱反射测量软件中，使得能够根据Cauchy色散、Drude振荡给出的参数描述和拟合材料。

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德Sentech 激光椭偏仪SE 500adv，椭偏仪SE 500adv将激光椭偏仪和反射仪结合在一个系统中。这种组合允许零度反射法用于快速薄膜分析，并且允许透明膜以激光椭偏仪的亚埃精度将可测量的厚度范围扩展到25埃米，从而明确地确定厚度。

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德国Sentech MDPspot光伏测量仪，灵活的自动扫描系统，具有成本效益的台式少子寿命测试仪MDPspot可用于表征晶片或面。它为少子寿命测量提供了一个测量点。低成本桌面式寿命测量系统，用于手动操作表征不同制备阶段的各种不同硅样品。可选的手动操作Z轴用于厚度多达156毫米的样品。标准软件可输出可视化的测量结果。MDPspot包括附加电阻率测量选项。只测量硅的电阻，对于没有高度调节可能性的晶片，或者对于砖。这两个选项中的一个必须是预先定义的。

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德Sentech RM1000和RM2000反射膜厚仪具有200nm-930nm的紫外-近红外光谱范围。光学布局为光吞吐量优化，以便即使在粗糙或曲面上也能可靠地测量n和k。精确的高度和倾斜特别适用于精确的单光束反射率测量，且测量非常稳定。

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离线工具MDPmap是专为半导体晶片或部分工艺过的晶片的多功能、非接触和少子寿命测量而设计的。MDPmap能够连续地改变激发脉冲宽度，从非常短的脉冲(100ns)到稳态测量(几ms)，研究不同深度的缺陷动力学和少子寿命特性。直观的绘图软件适用于有效的常规测量以及复杂的研发应用。MDPmap设计用于离线生产控制或研发、测量少子寿命、光电导率、电阻率和缺陷信息等参数的小型台式无触点电特性测量仪器，在稳态或短脉冲激励下(μ-PCD)下工作。自动的样品识别和参数设置允许在从原始生长晶片到高达95%金属化晶片的各种工艺阶段之后，容易地应用于包括外延层的各种不同样品。

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德Sentech SE 400adv激光椭偏仪 ，激光椭偏仪SE 400adv测量透明薄膜的厚度和折射率指数，具有测量速度、亚埃级别的厚度精度和折射率测定的精度。多角度测量允许使用激光椭偏仪SE 400adv表征吸收膜特征。

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自动扫描薄膜测量仪器SenSol:SenSol是SENTECH光伏产品组合中的自动大面积扫描仪器。自动表征膜厚、薄层电阻、雾度、反射和透射的均匀性。使用SenSol，可以监测大型玻璃基板上的沉积过程的均匀性，从而可以显著减少仪器维护后重新开始生产的时间。

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SENperc PV 是PERC电池制造质量控制的创新解决方案。SENperc PV 测量Al2O3/SiNx堆叠层和用于钝化PERC电池的单层膜。监测沉积过程的稳定性。由此，可以优化维护时间间隔。

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德Sentech SENDURO 全自动光谱椭偏仪包括基于测量CF的仅在几秒钟内即可完成的快速数据分析。椭圆仪的设计是为了便于操作：放置样品，自动样品对准，自动测量和分析结果。在全自动模式下使用光谱椭偏仪非常适合于质量控制和研发中的常规应用。

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德Sentech MDPinlinescan在线寿命和电阻率逐行扫描仪，各种不同的样品，从单晶硅到多晶硅，从生长的晶片到加工过的晶片，都可以通过MDPlinescan使用少子寿命测量进行检测。硬件系统被灵活地安装来执行样本的逐行扫描。该软件接口便于与处理系统或自动化系统进行简单的连接和通信。

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德Sentech SpectraRay/4光谱椭偏测量/分析软件，SENDURO®全自动光谱椭偏仪包括基于测量CF的仅在几秒钟内即可完成的快速数据分析。椭圆仪的设计是为了便于操作：放置样品，自动样品对准，自动测量和分析结果。在全自动模式下使用光谱椭偏仪非常适合于质量控制和研发中的常规应用。

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德国Sentech MDPpro激光扫描系统，少子寿命测量仪器的特征在于以1mm分辨率对500mm的一个面在不到4分钟内完成扫描。电阻率和少子寿命的测量完全无触摸。利用微波检测光电导率(MDP)同时测量少子寿命、光电导率、电阻率和p/n导电类型的变化。

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SENresearch 4.0:拥有宽光谱范围的光谱椭偏仪 新的SENresearch 4.0设计用于光谱椭偏仪，在宽的光谱范围从190nm（深紫外）到3,500 nm（近红外）。每一台SENresearch 4.0都是客户特定的椭偏光谱解决方案。SENresearch 4.0可以配置用于全穆勒矩阵、各向异性、广义椭偏、散射测量等。使用步进扫描分析器原理实现测量结果。 宽光谱范围和高光谱精

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德国 Sentech 光谱椭偏仪SENpro 低成本高效益的光谱椭偏仪SENpro,SENpro椭偏仪是椭偏仪应用的智能解决方案。它具有角度计，入射角度步进值5。操作简单，快速测量和直观的数据分析相结合，以低成本效益高的设计来测量单层和多层膜的厚度和光学常数。

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德国 MDPinline是为高速自动扫描硅晶片而设计的，它以每片不到一秒的时间记录少子寿命的全部形貌。利用微波检测光电导率定量测量少子寿命。凭借其紧凑的设计，MDPinline可以灵活地集成在传送带上或晶片分选系统中。MDPinline是生产集成的高速晶片少子寿命自动扫描系统。在一秒钟内完成单晶片形貌测量。MDPinline是一个用于定量测量少子寿命的紧凑型高速生产集成自动扫描系统。当晶片通过传送装置移动到仪器下面时，一片晶片的形貌测量在一秒钟的时间内进行实时测量。MDPinline本身不使用机械移动部件，使得它在连续操作下也非常可靠。对于每个单独的晶片，完整形貌的获取提供了新的方法来提高生产成本效益和效率。例如，在不到3小时内获得的10,000个晶片形貌的自动统计评估揭示了晶体生长炉的性能以及材料质量的微小的细节。基于实时质量和均匀性研究，诸如扩散和钝化之类的处理步骤可以在迄今为止不可能达到的性能的时间内逐步增加和优化。在运行生产中，可以立即检测到处理步骤的任何故障。另一方面，晶片销售给用户时，如果每个晶片都表现出优异的性能，则可以实现更高的价格，从而在不到一年的时间内为MDPinline带来回报。

供应商：深圳市科时达电子科技有限公司

德国 MDPinline ingot 光伏测量仪器，多晶形貌少子寿命测量系统是为高产量生产用户而设计的。对于一个面，以1毫米的分辨率，无接触、无破坏地测量电阻率和少子寿命花费不到一分钟。电阻率和导电类型变化的自动扫描可用于质量控制和监测炉子性能。面可以自动转动，以便测量所有的四个侧面。

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德国 SENDIRA红外光谱椭偏仪,振动光谱的特点是傅立叶红外光谱仪FTIR。测量红外分子振动模的吸收谱带，分析长分子链的走向和薄膜的组成。红外光谱椭偏仪适用于测量导电膜的电荷载流子浓度。

供应商：北京赛凡光电仪器有限公司

EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。 EMPro采用了量拓科技多项ZL技术。 特点：

供应商：北京赛凡光电仪器有限公司

ES01是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度全自动光谱椭偏仪，系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见到红外。 ES01系列光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k），也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 ES01系列光谱椭偏仪适合于对样品进行实时和非实时检测。 特点： 原子层量级的检测灵敏度

供应商：北京赛凡光电仪器有限公司

ES0S3是针对科研和工业环境中薄膜测量领域推出的波长扫描式高精度多入射角光谱椭偏仪，此系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见、近红外、到远红外。 ESS03采用宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。 ESS03系列多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，膜层厚度、表面微粗糙度等）和光学参数（如，折射率n、消光系数k、复介电常数ε等），也可用于测量块状材料的光学参数。 ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。

供应商：北京赛凡光电仪器有限公司

ES01-PV是针对光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的高性能光谱椭偏仪。 ES01-PV用于测量和分析光伏领域中多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k），典型样品包括：绒面单晶和多晶太阳电池上的单层减反膜（如SiNx，SiO2，TiO2，Al2O3等）和多层减反膜（如，SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx /Al2O3等），以及薄膜太阳电池中的多层纳米薄膜。 特点

供应商：北京赛凡光电仪器有限公司

EMPro-PV是针对光伏太阳能电池高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EMPro-PV融合多项量拓科技ZL技术，采用一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品，并实现二者的轻松转换。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。 特点：

供应商：北京赛凡光电仪器有限公司

ESS01是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的波长扫描式、高精度自动变入射角度光谱椭偏仪，此系列仪器波长范围覆盖紫外、可见、近红外到远红外。 ESS01采用宽光谱光源结合单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。 ESS01系列光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚层厚度、表面为粗糙度等）和光学参数（如，折射率n、消光系数k、复介电常数ε等），也可用于测量块状材料的光学参数。 ESS01适合多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。 技术

供应商：北京赛凡光电仪器有限公司

ES03是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度多入射角光谱椭偏仪，仪器波长范围从紫外到近红外。 ES03多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k），也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 ES03系列适合于对样品进行实时和非实时的检测。 特点： 原子层量级的检测灵敏度 国际先进的采样方法、

供应商：北京赛凡光电仪器有限公司

EM12是采用先进的测量技术，针对中端精度需求的光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。 EM12-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EM12-PV融合多项量拓科技ZL技术，采用一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。 &#

供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司

激光椭偏仪SE 400adv PV,是全球化使用的标准仪器，用于测量PV单层防反射涂层的厚度和折射率指数。特别用于表征单晶和多晶硅太阳能电池上的SiNx 防反射单层膜的性能。该仪器用于SiNx涂层和薄钝化层SiO2和Al2O3的质量控制。

供应商：优尼康科技有限公司

Film Sense FS-1™多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动 式部件椭偏探测器，可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现快速和可 靠地薄膜测量。大多数厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要简单的 1 秒测量，就 可以获得非常精密和准确的数据。

供应商：赛伦科技（北京）有限责任公司

美国赛伦科技为AST在ZG地区的授权总销售服务商，赛伦科技在上海，北京分别设有办事处。美国AST (Angstrom Sun Technologies Inc)是世界主要针对科研单位提供：spectroscopic ellipsometer (SE), spectroscopic reflectometer (SR) and Microspectrophotometer (MSP)的知名供应商。客户遍布全球主要科研大学及主要半导体厂商：NISTISMINASAJPLMarshall Space Cente

供应商：赛伦科技（北京）有限责任公司

high speed film thickness system measures routinely in less than a second! Tilt-free, focus free, hands-off operation for similar wafers. Fastest possible instrument for thin film measurement.

供应商：天津东方科捷科技有限公司

仪器简介： 20多年技术积累和发展的结晶,是一款高准确性、高灵敏度、高稳定性的经典椭偏机型。即使在透明的基底上也能对超薄膜进行最精确的测量。采用PEM相位调制技术，与机械旋转部件技术相比,能提供更好的稳定性和信噪比。技术参数：可选光谱范围： * UVISEL Extended Range(190nm -2100 nm) * UVISEL NIR (250 nm -2100 nm ) * UVISEL VIS (210 nm -880 nm ) * UVISEL FUV(190 nm -8