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用于光纤光栅刻写的均匀掩模版的定制

qingkunmum    2016-11-07    反射镜    浏览 535 次

相位掩模板是一种表面刻蚀光栅,典型的基底材料是熔融石英。相位掩模板可作为精确的衍射光学元件,其典型应用是将入射单色光束(如准分子激光、氩离子激光、飞秒激光等)分成两束,然后在两光束的重叠区域产生高质量的干涉条纹,从而用于在光纤中刻写光纤光栅。... 相位掩模板是一种表面刻蚀光栅,典型的基底材料是熔融石英。相位掩模板可作为精确的衍射光学元件,其典型应用是将入射单色光束(如准分子激光、氩离子激光、飞秒激光等)分成两束,然后在两光束的重叠区域产生高质量的干涉条纹,从而用于在光纤中刻写光纤光栅。
南京聚科光电生产的相位掩模板经过自主设计,并由在美国的国际ding级衍射光学元件生产实验室进行加工生产,产品已经在中科院上海光机所、中电科23所等多家单位取得了广泛成功的应用。可用于刻写通信、传感、激光器等领域的各类光纤光栅,从而应用于光纤光栅滤波器,增益平坦滤波器,光纤传感,激光谐振腔反射镜,激光偏振、纵模、横模等模式选择器,激光功率/频率稳定的鉴频器,色散补偿、脉冲压缩等色散管理器。

精彩问答
牟跃田 发布日期:2016-11-08
  一种采样光纤光栅的刻写方法,该方法采用的装置由紫外光源、全反射镜、可控电动平移平台、准直聚焦柱透镜、光栅相位掩膜板和光纤夹持拉伸系统组成,该刻写方法的具体过程为:紫外光源产生的紫外光,经全反射镜反射后照射到准直聚焦柱透镜,经透镜聚焦到光栅相位掩膜板上。透射光通过相位掩模板后能够产生±1级衍射,衍射光形成的干涉光对被刻写光纤进行曝光。刻写过程中可控电动平移平台带动全反射镜匀速平移引起曝光位置在被刻写光纤上的匀速平移,光纤夹持拉伸系统可以保持被刻写光纤伸直同时等时间间隔逐步手动拉伸被刻写光纤,逐步改变光纤光栅周期达到对光纤光栅的反射波长进行采样的目的。
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