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为什么溅射产额与离子的入射方向有关?溅射粒子角分布如何

聆听wukuai1    2017-05-12    离子溅射仪    浏览 556 次

精彩问答
DKY我又初恋了 发布日期:2017-05-13
为什么溅射产额与离子的入射方向有关
二氧化硅(SiO2)薄膜是一种性能优良,应用广泛的介质薄膜。随着微电子技术和集成电路的快速发展,SiO2薄膜由于其稳定的化学性质和电绝缘性质,在集成器件中作为表面钝化膜和多层布线层间介质膜,更显示出它的重要地位,SiO2薄膜的制备工艺也成为集成电路制造技术重要内容。
SiO2薄膜的制备方法得到了发展与应用,主要有物理气相沉积、化学气相沉积、氧化法、溶胶凝胶法和液相沉积法等。其中物理气相沉积(PVD)物理气相沉积主要分为蒸发镀膜、离子镀膜和溅射镀膜三大类。
Z新发展起来的磁控射频溅射技术,能达到快速和低温的要求,不仅弥补了射频溅射的缺点,大大减小了电子对衬底表面直接轰击造成的损伤,且能在较低的功率和气压下工作。绝缘体和导体均可溅射,工艺简单,衬底温度低,薄膜厚度的可控性、重复性及均匀性与其他薄膜制备方法相比有明显的改善和提高,因而得到了广泛使用。
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