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ALD系统应用范围再次升级

那诺—马斯特中国有限公司    2022-07-18       浏览 168 次

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随着NANO-MASTER专利技术的ICP源的深入应用,对于大面积的基片提供均匀高品质的薄膜生长得以实现。到目前为止,NANO-MASTER的ALD系统可以支持在任意尺寸的衬底上的扩展,这给显示和照明等领域带来好消息。

此外,NANO-MASTER同时具备粉末处理能力的扩展。这样,NANO-MASTER系统已经可以支持在任意尺寸和任意形状的固体上进行原子级生长。在应用选择方面,我们支持热ALD和PEALD系统的单独应用,同事也支持ALE/ALD双系统、IBE/ALD双系统、ALD/PECVD双系统、ALD/IBAD双系统等应用,以及ALD跟其它NANO-MASTER任意系统组成的Cluster系统,可以实现多工序工艺在不间断真空的情况下一步完成工艺。

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