广西师范大学RIE反应离子刻蚀机顺利验收
近日,NANO-MASTER工程师至广西师范大学,顺利安装验收NRE-3000型RIE反应离子刻蚀系统!
详细参数:
1. 腔体:10”直径的圆柱形腔体;阳极氧化铝材质,抗腐蚀性强;上下盖设计,气动升降顶盖,一键实现上盖的开启/闭合;淋浴头设计,最佳的气流均匀分布
2. 样品台:4”样品台;冷却功能;偏压功能,支持各向异性的垂直刻蚀;
3. 质量流量控制器:4路气体,每路包含MFC、气动截止阀和不锈钢管路气体
4. 真空系统:分子泵与机械泵,4分钟内可达10-4Torr的高工艺真空度,12小时抽气后,干净腔体中的压力可达极限真空6x10-7 Torr;分子泵与工艺腔体采用直连设计方案,具有最佳的真空传导率
5. 射频电源:13.56MHz,300W,反射功率≤5W,配套自动调谐器,稳定输出功率为95%
6. 控制系统:Lab View软件控制;四级密码授权访问;压力、流量、功率等主要参数指标实时显示;20”的监控屏幕
7. 系统信息:26”×26”占地面积;铝质柜体;完全的安全联锁
8. 主要工艺参数
(1)应用范围:有机物刻蚀、硅的化合物刻蚀、光刻胶去胶等;
(2)工艺参数:4”片为例;
(3)刻蚀均匀性优于:+/-3%;
(4)Si3N4的刻蚀速率:≥50nm/min;
(5)对PR选择比:≥1.5:1;
(6)陡直度:≥82°;
(7)SiO2的刻蚀速率:≥40nm/min;
(8)对PR选择比:≥1.5:1;
(9)陡直度:≥85°。
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