2025-01-10 10:49:34ALD沉积

ALD沉积，即原子层沉积，是一种高精度、高保真的薄膜制备技术。它通过在衬底表面交替吸附反应物并发生化学反应，实现逐层沉积，形成均匀、致密的薄膜。该技术具有优异的厚度控制能力和良好的材料适应性，可应用于多种材料体系。ALD沉积在半导体、光电子、催化等领域展现出广泛的应用前景，是制备高性能、多功能薄膜材料的重要手段。

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