赫歇尔棱镜 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-21 09:35:25赫歇尔棱镜: 赫歇尔棱镜是一种重要的光学元件，以其发现者威廉·赫歇尔命名。它主要由两块直角棱镜组成，通过特定角度的胶合，使得光线在进入和离开棱镜时发生两次内反射。这种设计能够产生光谱的色散，即将白光分解成不同波长的单色光。赫歇尔棱镜在光谱分析、光学仪器及科研领域有广泛应用，特别适用于需要高分辨率光谱的场合。其优点包括结构紧凑、色散效果好且像差较小，是光谱学研究中的重要工具之一。

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赫歇尔棱镜问答

2025-05-28 11:00:20激光跟踪仪反射棱镜怎么用: 激光跟踪仪反射棱镜是一种广泛应用于精确测量和空间定位的设备，广泛用于建筑工程、土地测量以及工业制造中。这篇文章将详细介绍激光跟踪仪反射棱镜的使用方法，特别是如何正确安装和操作以确保测量数据的准确性。通过了解激光跟踪仪反射棱镜的工作原理、操作步骤及其维护方法，用户可以更好地掌握这一工具，提升测量效率和精度。激光跟踪仪反射棱镜作为一种反射标定装置，它能反射激光束并传递准确的测量信息。激光跟踪仪通过发送激光束到反射棱镜，检测反射回来的激光光束，通过计算光束的时间差，得出目标位置的空间坐标。反射棱镜通常安装在需要精确定位的物体上，确保跟踪仪能够准确测量到目标的每一个细微变化。反射棱镜的安装与使用选择合适的反射棱镜根据测量任务的需求，选择适合的反射棱镜非常重要。不同类型的激光跟踪仪反射棱镜具有不同的反射性能和尺寸，确保棱镜的规格和激光跟踪仪兼容。安装反射棱镜安装反射棱镜时，确保其牢固固定在测量物体上。反射棱镜的安装位置应避免遮挡和干扰，保证激光束能够准确地反射。一般来说，棱镜的安装角度要与激光跟踪仪的发射方向平行，以确保激光束能够顺利反射回跟踪仪。校准跟踪仪在使用激光跟踪仪进行测量之前，需对仪器进行校准。通过对比已知位置点和反射回来的激光信号，确认仪器的测量精度，并根据校准结果进行微调，以保证测量的准确性。操作过程中的注意事项操作时要确保反射棱镜始终处于激光束的反射路径中，避免误差的产生。在进行长时间测量时，应定期检查反射棱镜的位置，防止因震动或环境变化导致反射棱镜移位。激光跟踪仪反射棱镜的维护与保养反射棱镜的精度和耐用性对测量结果至关重要。因此，定期清洁和保养反射棱镜能够有效延长其使用寿命，保证测量结果的可靠性。在清洁时，要使用专用的清洁工具，避免划伤棱镜表面。保持反射面清洁，可以减少光线损失，确保测量精度。结论激光跟踪仪反射棱镜作为精密测量工具的核心部件，其正确使用和维护直接关系到测量结果的准确性。在安装、操作及保养过程中，用户必须遵循标准流程，避免任何可能导致误差的因素。通过科学合理的使用方法，激光跟踪仪反射棱镜能够在各类工程和科研工作中提供的定位和测量支持。

2022-07-14 15:06:51浅谈扫描俄歇纳米探针: 简介扫描俄歇纳米探针，又称俄歇电子能谱（Auger Electron Spectroscopy，简称AES）是一种表面科学和材料科学的分析技术。根据分析俄歇电子的基本特性得到材料表面元素成分（部分化学态）定性或定量信息。可以对纳米级形貌进行观察和成分表征。近年来，随着超高真空和能谱检测技术的发展，扫描俄歇纳米探针作为一种极为有效的表面分析工具，为探索和研究表面现象的理论和工艺问题，做出了巨大贡献，日益受到科研工作者的普遍重视。俄歇电子能谱常常应用在包括半导体芯片成分表征等方向发展历史近年来，固体表面分析方法获得了迅速的发展，它是目前分析化学领域中最活跃的分支之一。它的发展与催化研究、材料科学和微型电子器件研制等有关领域内迫切需要了解各种固体表面现象密切相关。各种表面分析方法的建立又为这些领域的研究创造了很有利的条件。在表面组分分析方法中，除化学分析用光电子能谱以外，俄歇电子能谱是最重要的一种。目前它已广泛地应用于化学、物理、半导体、电子、冶金等有关研究领域中。俄歇现象于1925年由P.Auger发现。28 年以后，J.J.Lander从二次电子能量分布曲线中第一次辨认出俄歇电子谱线，但是由于俄歇电子谱线强度低，它常常被淹没在非弹性散射电子的背景中，所以检测它比较困难。 1968年，L.A.Harris 提出了一种“相敏检测”方法，大大改善了信噪比，使俄歇信号的检测成为可能。以后随着能量分析器的完善,使俄歇谱仪达到了可以实用的阶段。 1969年圆筒形电子能量分析器应用于AES, 进一步提高了分析的速度和灵敏度。 1970年通过扫描细聚焦电子束,实现了表面组分的两维分布的分析(所得图像称俄歇图)，出现了扫描俄歇微探针仪器。 1972年，R.W.Palmberg利用离子溅射，将表面逐层剥离，获得了元素的深度分析，实现了三维分析。至此，俄歇谱仪的基本格局已经确定， AES已迅速地发展成为强有力的固体表面化学分析方法，开始被广泛使用。基本原理俄歇电子是由于原子中的电子被激发而产生的次级电子。当原子内壳层的电子被激发形成一个空穴时，电子从外壳层跃迁到内壳层的空穴并释放出光子能量；这种光子能量被另一个电子吸收，导致其从原子激发出来。这个被激发的电子就是俄歇电子。这个过程被称为俄歇效应。Auger electron emission 入射电子束和物质作用，可以激发出原子的内层电子。外层电子向内层跃迁过程中所释放的能量，可能以X光的形式放出，即产生特征X射线，也可能又使核外另一电子激发成为自由电子，这种自由电子就是俄歇电子。对于一个原子来说,激发态原子在释放能量时只能进行一种发射：特征X射线或俄歇电子。原子序数大的元素，特征X射线的发射几率较大，原子序数小的元素，俄歇电子发射几率较大，当原子序数为33时，两种发射几率大致相等。因此，俄歇电子能谱适用于轻元素的分析。如果电子束将某原子K层电子激发为自由电子，L层电子跃迁到K层，释放的能量又将L层的另一个电子激发为俄歇电子，这个俄歇电子就称为KLL俄歇电子。同样，LMM俄歇电子是L层电子被激发，M层电子填充到L层，释放的能量又使另一个M层电子激发所形成的俄歇电子。只要测定出俄歇电子的能量，对照现有的俄歇电子能量图表，即可确定样品表面的成份。由于一次电子束能量远高于原子内层轨道的能量，可以激发出多个内层电子，会产生多种俄歇跃迁，因此,在俄歇电子能谱图上会有多组俄歇峰，虽然使定性分析变得复杂，但依靠多个俄歇峰,会使得定性分析准确度很高，可以进行除氢氦之外的多元素一次定性分析。同时,还可以利用俄歇电子的强度和样品中原子浓度的线性关系,进行元素的半定量分析,俄歇电子能谱法是一种灵敏度很高的表面分析方法。其信息深度为5nm以内,检出限可达到0.1%atom。是一种很有用的分析方法。系统组成 AES主要由超高真空系统、肖特基场发射电子枪、CMA同轴式筒镜能量分析器、五轴样品台、离子枪等组成。以ULVAC-PHI的PHI 710举例，其核心分析能力为25 kV肖特基热场发射电子源，与筒镜式电子能量分析器CMA同轴。伴随着这一核心技术是闪烁二次电子探测器、高性能低电压浮式氩溅射离子枪、高精度自动的五轴样品台和PHI创新的仪器控制和数据处理软件包：SmartSoft AES ™ 和 MultiPak ™。并且，目前ULVAC-PHI的PHI 710可以扩展冷脆断样品台、EDS、EBSD、BSE、FIB等技术，深受广大用户认可。PHI710激发源，分析器和探测器结构示意图：为满足当今纳米材料的应用需求，PHI 710提供了最高稳定性的 AES 成像平台。隔声罩、低噪声电子系统、稳定的样品台和可靠的成像匹配软件可实现 AES对纳米级形貌特征的成像和采谱。真正的超高真空（UHV）可保证分析过程中样品不受污染，可进行明确、准确的表面表征。测试腔室的真空是由差分离子泵和钛升华泵（TSP）抽气实现的。肖特基场发射源有独立的抽气系统以确保发射源寿命。最新的磁悬浮涡轮分子泵技术用于系统粗抽，样品引入室抽真空，和差分溅射离子枪抽气。为了连接其他分析技术，如EBSD、 FIB、 EDS 和BSE，标配是一个多技术测试腔体。 PHI 710 是由安装在一个带有 Microsoft Windows ® 操作系统的专用 PC 里的PHI SmartSoft-AES 仪器操作软件来控制的。所有PHI电子光谱产品都包括执行行业标准的 PHI MultiPak 数据处理软件用于获取数据的最大信息。710 可应用互联网，使用标准的通信协议进行远程操作。AES的应用扫描俄歇纳米探针可分析原材料（粉末颗粒，片材等）表面组成，晶粒观察，金相分布，晶间晶界偏析，又可以分析材料表面缺陷如纳米尺度的颗粒物、磨痕、污染、腐蚀、掺杂、吸附等，还具备深度剖析功能表征钝化层，包覆层，掺杂深度，纳米级多层膜层结构等。AES的分析深度4-50 Å，二次电子成像的空间分辨可达 3纳米，成分分布像可达8纳米，分析材料表面元素组成（Li ~ U），是真正的纳米级表面成分分析设备。可满足合金、催化、半导体、能源电池材料、电子器件等材料和产品的分析需求。AES 应用的几种例子，从左到右为半导体FIB-cut，锂电阴极向陶瓷断面分析小结本文小编粗浅的介绍了俄歇电子能谱AES的一些基础知识，后续我们还会提供更有价值的知识和信息，希望大家持续关注“表面分析家”！

2022-12-24 17:55:19丹纳赫生命科学——新人UP主上线！: 你可以在这里跟着技术大咖一起畅游科研的知识海洋你也可以跟着我们学习不同实验的技术路线轻松提高实验技能这里还有丹纳赫生命科学的最新技术和应用成果什么你有科研上的困惑快快提出来让我们给你解答我是新人UP主丹纳赫生命科学快来关注和我一起成为生命科学领域的六边形战士吧

2021-09-08 17:58:40供应B=25型明渠流量监测304不锈钢巴歇尔槽: 巴歇尔槽，与超声波明渠流量计配套使用，测量明渠内水的流量。巴歇尔槽构造及安装的技术参考选择巴氏计量槽的种类，要考虑渠道内流量的大小，渠道内水的流态，是否能形成自由流。流量小于40L/s时，一般应选择直角三角堰。大于40L/s，一般应选择使用巴氏计量槽。流量大于40L/s，渠道内水位落差又较大，可以选择矩形堰。条件允许，好选择巴歇尔槽。巴歇尔槽的水位-流量关系是由实验标定出来的，而且对上游行进渠槽条件要求较弱。三角堰和矩形堰的水位-流量关系来源于理论计算，容易由于忽视一些使用条件，带来附加误差。量水堰槽可以用不锈钢，玻璃钢制做。三角堰和矩形堰的堰口是关键尺寸，加工要准确。朝向进水一侧表面要平滑。巴歇尔槽内尺寸要准，内表面要平滑。喉道部分是关键尺寸，要更准确。巴氏计量槽常用规格尺寸：（单位：mm）序号喉道段收缩段扩散段墙高流量参数bLNB1L1LaB2L2KDCn125762916735623793203192302171.55025111443214406271135254222604351.55037615257259457305178305254606381.55041523051144006104073946107661013721.54052283051145758645763814577677019271.530630060023078013509026009208080024441.521/小时1标准型25835*267*26519.442标准型51773*314*30547.523标准型76914*359*517115.564标准型1521525*500*730399.65标准型2281630*675*890903.66标准型2502845*980*10609007标准型3002870*940*120014408标准型4502945*1120*120022689标准型6003020*1300*1200306010标准型7503095*1480*1200396011标准型9003170*1660*1200450012标准型10003200*1780*1250540013标准型12003320*2020*1250720014标准型15003470*2380*1250900015标准型18003620*2740*1250

2023-02-01 08:54:41 阿斯曼尔-WirbelMixer涡旋混合器视频

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