金相试样磨抛机 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-10 10:52:50金相试样磨抛机: 金相试样磨抛机是用于制备金相试样的设备，它能够对金属、合金等材料的表面进行磨削和抛光处理，以获得平整、光洁且无明显划痕的试样表面。该设备广泛应用于材料科学、冶金、机械制造等领域，是金属材料研究和质量控制的重要工具。金相试样磨抛机具有磨抛效率高、操作简便、结果可靠等特点，能够满足不同材料和不同制备需求的要求。

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金相试样磨抛机问答

2022-09-21 08:03:21挖到宝，样品磨抛的难题一下就解决了: 过了中秋，入秋的感觉越来越浓烈了，秋风习习，早晚温差初显出来了。每到换季，我们都会习惯性的整理，然后更新换代。不管是家里的衣柜还是实验室里，不管是生活日常所需还是工作必备用品，都可以随着季节，做个调整。就像有小伙伴向链能小编吐槽，实验室的金相磨抛机太难用了。一个样品左磨右磨，怎么都不满意，效率低下，心情糟糕。想趁着刚入秋，也趁机给实验室来个换新，换一台金相磨抛机。这不，链能小编get到了大家的需求，今天就给大家带来一款即好用又实用的宝藏金相磨抛机，有了它，样品磨抛的难题一下就解决了。原装进口德国QATM单盘自动金相磨抛机SAPHIR 550，是带有Rubin 520磨抛动力头的新一代的等径单盘磨抛机，采用创新的磨抛动力头技术，工作盘直径为250 - 300 mm。Rubin 520磨抛动力头配备了一个自动防护罩，这一点为安全操作设定了新标准。单点加载和中心加载的压力加载方式、程序存储、集成的自动加液系统及材料磨削量准确控制只是其部分功能。带气动夹持的电动高度设置功能，结合主机的所有其他特征，SAPHIR 520可以满足更高的金相制样需求。是教学、科研、质量控制等金相实验室的理想机型。 SAPHIR 550单盘自动金相磨抛机助你解决各种磨抛难题的性能如下： • 带有Rubin 520磨抛头的单盘磨抛机 • 可编程并存储上万种制样方法；电子控制的触摸屏显示器，操作简便 • 可配置8in、10in和12in磨盘，无需工具即可轻松、快速更换磨盘 • 磨抛头可顺时针/逆时针转动，转速可调；侧边和高度调整的记忆功能 • 带清洁和冷却功能的集成注水系统，实现底盘冷却；自动给水 • 带防溅环和盖，自动防护罩；工作区域节电LED照明；磨削量可控：10μm精度 • 铝制外壳，粉末涂层，耐用美观；自动加液系统，带6个泵，单独氧化抛光系统 • 适用于各种材料金相试样的研磨、抛光以上，就是今天链能小编想要分享给大家的一款金相磨抛机，有了它，您就真的感觉挖到宝喽。所以，想要采购金相磨抛机的小伙伴们，妥妥不能错过！

2016-10-22 19:48:05金相试样磨平机和金相试样磨抛机有什么区别:

2023-03-06 15:51:24HM&M珠磨机：与盐野义制药合作研发难溶性药物所需的湿法珠磨机: 全文共2144字，阅读大约需要7分钟盐野义制药的田中先生说“金属污染物改革对产品化的品质、安全性、规模化生产产生了很大的影响”。近年来，许多药物候选化合物显示出难溶性的特质，其有效的解决方法是通过珠磨机将药物纳米化。药物纳米化可以有效改善药物生物利用度，药物纳米化已经在基础研究和商用生产中得到应用。这里的问题是，传统的珠磨机在结构上不可避免地会产生锆等金属的磨损，从而污染到产品。能解决这个问题的研究报告很少。于是，盐野义制药开始着手与广岛金属公司共同研究和开发用于解决难溶性药物在研磨时引入污染物这一问题的新型珠磨机。阐明各种参数的影响，探索最优条件纳米制剂制造的要求事项设置了以下5点：1、粉碎后粒子粒径 :＜200 nm2、处理速度:几十分钟~几个小时3、金属污染的极小化（金属污染物含量控制）：处理过程中料液：＜1 mg/L，原料药：＜10 μg/g4、不引起变质的处理温度：＜ 30℃（优选＜10℃）5、易于清洗：机器拆洗容易珠磨机通过搅拌使磨珠与目标粒子在料液内碰撞而粉碎、分散。我们的目的是抑制在此过程中因磨珠碰撞而产生的污染。纳米制剂制造注意事项的①、②、③与磨珠粒径和圆周速度（转速）有关，为了达到事项②对处理速度的要求，选择“高速运转/小、中粒径珠子”是合适的。为了达到事项③对污染物的控制，需要选择“低速运转/小粒径珠子”。我们探索能在不降低效率的情况下减伤磨珠污染的技术解决方案。为了达成要求事项的技术性讨论磨珠粒径：当磨珠粒径变小时，与粒子接触的频率会增加，处理速度能更快；磨珠粒径变大，冲击力会增强，引入污染物的概率会更大。因为这样的关系，所以选取具有短时间处理能力、污染物引入少的最佳磨珠粒径。圆周速度（转速）圆周速率（转速）越高，磨珠间接触的频率和冲击力会上升，一方面污染量随着转速的升高而急剧增加，以一定速度急剧增加，另一方面，处理速度与圆周速率呈正比例关系。我们需要在污染量较少的情况选择最快的处理速度。药物浓度从粒径变化、污染量确认的观点出发，在5～50w/w%的范围内进行了变更实验。装置结构考虑了在珠磨机中抑制冲击力的低速运转时的磨珠行为。研究的结果是，在卧式结构中，磨珠无法贯穿整个研磨腔体，可能会排除未经处理的浆料，从而降低处理效率。在立式结构中，通过采用重力下降的方式，浆料可以可靠地通过磨珠聚集到磨机底部，不会出现浆料无法排出的情况。因此，珠磨机结构上选择了能使料液从上往下流转的狭缝型立式珠磨机。机械密封所谓机械密封，是指在机体上一种防止料液泄露或从外部引入污染物的轴封装置。通过密封液最小化内外压，抑制滑动部分微米级间隙的泄漏。但是，这种设计存在着密封件自身损坏、引入污染物、清洁灵活性差等问题。为此，开发了无需密封液的密封结构，降低了从密封部分带来污染的风险和提高清洁效率。其他通过各种比较，选择了韧性高、污染性小的氧化锆材质磨珠。在搅拌转子设计上，比较鞘式和盘式，最后选择了能够在系统内均匀搅拌，且能够在短时间内进行粉碎、分散处理的鞘形。低速运转时处理效率是常规的1.8倍。在上述条件的基础上，将难溶解性的苯妥英作为模型药物，展示了最优化处理条件的案例。使用多种药物浓度的料液进行粉碎后，主药浓度在40w /w%之前，金属污染量基本没有受到影响。当浓度高于该浓度时，料液的粘度显著增加，粉碎效率降低，污染量也增大。与传统的5 w/w%处理相比，40 w/w%处理的污染量提高了1/8，生产效率提高了8倍。另外，研究了无密封液的影响，没有发现对苯妥因粒子粒径变化和粉碎效率的影响。密封材料钨、镍的污染量为零，避免了污染风险。图1总结了通过3年的共同研究降低污染量的成果。通过逐一解析各种参数对比珠磨机产生污染的影响并进行优化，将料液污染量降低到0.73 mg/ L。此外，图2总结了原料药的处理时间和每克原料药的接触时间。处理速度按浓度换算提高了1.6倍，污染量也成功地大幅降低为1.6 μg/g目标值，约为现有技术的1/30。抑制污染量和高效化的重要参数有磨珠直径和圆周速率（转速）。粉碎效率和污染量两者需要权衡。对填充率和药物浓度也进行了研究，发现影响很小。由此，得出结论，最佳条件为珠径：0.5 mm以下的小粒径到中等粒径，周速：6 m/s以下的低速到中速，浓度为40 w/w%。另外，处了把苯妥因作为模型药物进行了检验，其他的难溶解性药物在相同条件下也实施了粉碎的结果，粉碎可以达到200nm。特别是，对低熔点的药物，也可以适用，如以前的技术难以粉碎的非诺贝特，显示了本技术的进一步适用性。一体式无密封珠磨机《APEX磨机F&M系列》通过本共同研究开发的是一体式无密封珠磨“APEX磨F&M系列”。通过无密封，实现了来自机械密封的金属污染零为零、密封液的混入为零、省略了由于机械密封的损伤而定期整备、装置的紧凑化，组装和分解容易，可实现浸泡放置清洗。此外，电动机直接连接旋转轴，取消了V带，防止了V带产生磨损粉末。以前，机械密封所承担的防珠漏是通过使用下降流和在磨机上部安装泵送环来解决的。从150 mL的实验机到2 L的生产机。无密封技术正在申请实用新型和专利。广岛金属与机械公司从1983年开始生产销售湿珠磨机。技术研究开发越来越深入。平田先生以高品质纳米粒子医药品制造技术的领先企业为目标，满怀干劲地表示将进一步开展技术拓新。

2021-07-07 13:47:48金相磨抛刚需，不买也要先收藏！: 每当我坐在实验室里看着金相砂纸，金相抛光布等在金相磨抛机上旋转工作时，都忍不住感慨金相磨抛耗材的伟大，要是没有它们，这样品可以磨抛啊！这工作可怎么进行啊！使用金相磨抛耗材制样比较轻松，但是买金相磨抛耗材并不是一件轻松的事儿。今天链能小编推荐几款值得买的金相磨抛耗材，它们都是性价比较高的耗材，大家算好自己的需求，定好预算，来链家直接选购就好。原装进口美国QMAXIS（可脉）碳化硅金相砂纸：此款砂纸基韧性强，耐水性好，碳化硅颗粒分布均匀致密、锋利，去除率高。以其研磨金相试样，表面划痕小，一致性好，利于后续抛光工序，可以有效缩短试样制备时间。 ——CarbiPaper 带背胶碳化硅砂纸 ——CarbiPaper 不带背胶碳化硅砂纸原装进口美国QMAXIS（可脉）金相抛光布：此款抛光布由编织布、无纺布、植绒布、耐化学腐蚀合成材料等各种高品质的抛光织物制成。针对不同材料和抛光阶段，可以选择不同编织属性的抛光布，配合不同磨料、粒径的抛光液或抛光膏，达到不同工艺阶段的表面效果。——粗抛：PlanCloth，PerfoCloth，NylonCloth——中抛：DuraCloth，SatinCloth，SilkCloth——精抛：MicroMet，VelCloth，FlocCloth，ChemoCloth 原装进口美国QMAXIS（可脉）金刚石抛光液：此款金刚石抛光液有单晶和多晶；水基和油基；浓缩型和混合型等多种型号可选。无毒、环保，手动抛光和自动抛光均适用。 QMAXIS（可脉）的金刚石抛光液，去除率高，表面一致性效果好，使金相试样的研磨和抛光既有速度，又有质量！——PolyDia 水基多晶金刚石抛光液——MonoDia 水基单晶金刚石抛光液——ComboDia 水基单晶金刚石混合抛光液——OilDia 油基单晶金刚石抛光液以上就是今天推荐给大家的几款金相磨抛耗材，希望能够为你选购金相耗材时可以提供一些帮助。如果您还有其他金相相关的问题想问的，随时欢迎找小编，链能小编一定尽力解答。

2021-03-01 16:01:00金相试样的制备方法: 为了在金相显微镜下正确有效地观察到内部显微组织，就需制备能用于微观检验的样品――金相试样，也可称之为磨片。金相试样制备的主要程序为：取样—嵌样(对于小样品)—磨光—抛光一浸蚀等。（1）取样原则手工用金相显微镜对金属的一小部分进行金相研究，其成功与否，可以说首先取决所取试样有无代表性。在一般情况下，研究金属及合金显微组织的金相试样应从材料或零件在使用中重要的部位截取；或是偏析、夹杂等缺陷严重的部位截取。在分析失效原因时，则应在失效的地方与完整的部位分别截取试样，以探究其失效的原因。对于生长较长裂纹的部件，则应在裂纹发源处、扩展处、裂纹尾部分别取样，以分析裂纹产生的原因。研究热处理后的零件时，因组织较均匀，可任选一断面试样。若研究氧化、脱碳、表面处理(如渗碳)的情况，则应在横断面上观察。有些零部件的“重要部位”的选择要通过对具体服役条件的分析才能确定。（2）试样截取手工无论采取何种截取方法截取试样，都必须保证不使试样观察面的金相组织发生变化。金相试样较理想的形状是圆柱形和正方柱体。（3）镶嵌手工当试样尺寸过小、形状特殊（如金属碎片、丝材、薄片、细管、钢皮等）不易握持，或要保护试样边缘（如表面处理的检验、表面缺陷的检验等）则要对试样进行夹持或镶嵌。（4）磨光手工磨光的目的是要能得到一个平整的磨面，这种磨面上还留有极细的磨痕，这将在以后的抛光过程中消除。磨光工序又可分为粗磨和细磨两步。（5）抛光手工抛光的目的是除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕，成为平整无疵的镜面。常见的抛光方法有机械抛光、电解抛光及化学抛光等。（6）显示手工为了把磨面的变形层除去，同时还要把各个不同的组成相显著地区分开来，得到有关显微组织的信息，就要进行显微组织的显示工作。常用的金相组织显示方法主要为化学方法主要是浸蚀方法，包括化学浸蚀，电化学浸蚀及氧化法，是利用化学试剂的溶液借化学或电化学作用显示金属的组织。《文章来源于热家网》NJ-JX8型电脑全自动金相分析仪器是一套用于各种铸铁（灰口、球墨）、合金钢、不锈钢、铜合金等材料金相分析的仪器，该系统采用了的计算机和信息技术，集成了数码采像装置和计算机辅助金相分析软件，直接从显微镜上获取金相组织图像并以数字图像文件格式存储在计算机中，系统对图像做进一步处理和分析，以计算出所需检测参数，并可将检测结果以报告形式打印输出。南京诺金高速分析仪器厂 2021年3月1日

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