介质阻挡等离子红外池 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-10 17:03:23介质阻挡等离子红外池: 介质阻挡等离子红外池是一种基于介质阻挡放电技术（DBD）与红外光谱分析相结合的高级分析装置。它利用高频电场在介质间隙中激发等离子体，通过等离子体与样品相互作用，产生特定的红外吸收光谱。该装置具备高灵敏度、高分辨率及快速响应的特点，适用于多种气体及挥发性有机物的痕量检测与分析。其结构紧凑、操作简便，为环境监测、食品安全及工业过程控制等领域提供了强有力的分析手段。

介质阻挡等离子红外池相关内容

全部
产品
问答

介质阻挡等离子红外池产品

产品名称

所在地

价格

供应商

咨询

: 红外气体池; 国内天津; 面议; 天津品创科技发展有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 红外在线电化学反应池; 面议; 上海麟文仪器有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 红外气体池; 国内天津; ￥2000; 天津天光光学仪器有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 红外液体池; 国内天津; ￥1200; 天津天光光学仪器有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 红外气体池; 面议; 大连科诺威尔仪器有限公司
售全国; 我要询价联系方式

介质阻挡等离子红外池问答

2025-09-02 11:45:22红外静电测试仪怎么用: 在现代电子制造和质量检测领域，红外静电测试仪作为一种高效、精确的测试工具，逐渐成为业界的标配设备。其主要作用是检测静电积聚，确保电子产品在生产、组装、使用过程中不会受到静电干扰而引发的故障。凭借红外线技术的温控优势与静电检测的高敏感度，红外静电测试仪在电子元器件、半导体、集成电路等行业的应用日益广泛。如何正确使用红外静电测试仪，发挥其大的性能效益呢？本文将为您详细介绍红外静电测试仪的操作步骤、注意事项以及日常维护建议，助您更科学、更高效地进行静电检测。了解设备的基本结构是顺利操作的前提。红外静电测试仪通常由红外传感器、静电感应探头、显示屏与调节按钮等组成。红外传感器负责远距离检测静电积累情况，而静电感应探头则主要用于局部检测。熟悉设备参数与功能键设置，是确保操作正确的步。设备出厂时通常配备详细说明书，建议在使用前仔细阅读仪器手册，了解每个操作界面的作用和调节方式。开始使用之前，先进行设备的校准。校准的流程包括：将测试仪放置在空白、无静电干扰的环境中，通过校准孔进行校准调节，确保检测数据显示的准确性。部分高端设备还支持自动校准程序，操作时只需按下相应按钮，按照提示完成调节即可。在校准完毕后，建议进行一次现场模拟测试，例如放置已知静电量的标准样品，以验证设备的敏感度。操作步骤的核心在于正确采样。一般情况下，首先需要开启设备，调节到合适的检测模式。对于红外静电检测，通常会设定检测距离，依据不同的测试对象调整距离参数。测试前，确保样品表面和检测区域清洁干净，无尘埃和油脂，以避免误差。将测试探头或检测区域对准目标样品，保持稳定，避免震动。在检测过程中，其显示屏会实时显示静电积累值或热像图，用户应根据具体数值判断静电水平是否超过安全阈值。对于动态检测，建议采用多点、多角度测试，以确保整体静电状态的全面评估。测试完成后，应及时记录测试数据，便于后续分析和质量追踪。需要注意的是，不同材料和表面处理方式会影响静电积累的表现，应结合实际工艺参数进行判断。除了操作细节外，设备的日常维护也是保证检测准确性的关键。红外静电测试仪应放置在干燥、阴凉、远离强电磁干扰的环境中。定期清洁探头和传感器表面，避免灰尘和污垢影响检测效果。校准与调试工作应定期进行，尤其是在长时间连续使用后。操作完毕后，应关闭设备电源，防止电池损耗和零部件老化。在实际应用中，结合其他静电防护措施，将静电测试融入整体生产流程，才能大程度提高电子产品的质量保障。例如，在静电敏感区域加强接地措施，使用静电消除设备，整体防静电环境的建立，也会增强测试结果的可靠性。总结来说，红外静电测试仪的正确使用不仅仅是操作仪器，更是一项科学严谨的工作流程。的校准、细致的采样以及科学的维护，都是确保检测准确、提高生产效率的重要因素。随着电子行业的不断发展，掌握和优化此类测试仪的操作技术，为产品质量提供坚实的保障，将成为每位技术人员不断追求的目标。一种设备的优化使用，离不开专业及严谨的操作指导。只有通过不断学习和实践，才能发挥红外静电测试仪大的潜力，为电子制造业的品质提升添砖加瓦。

2025-01-22 17:30:12红外定硫仪多少钱: 红外定硫仪多少钱是许多化工、环境监测以及实验室领域中的一个常见问题。随着工业和科研需求的增加，红外定硫仪作为一种测定硫含量的仪器，已经成为了多种行业中必不可少的工具。许多用户在采购这类仪器时，对其价格缺乏足够的了解。本文将深入分析影响红外定硫仪价格的多个因素，并帮助用户根据实际需求选择合适的产品。红外定硫仪的价格受多种因素的影响，主要的因素包括仪器的品牌、性能、功能以及应用领域的差异。不同品牌的红外定硫仪在技术标准和生产工艺上有着不同的要求，因此价格也存在一定差距。一些知名品牌的仪器，因其技术创新和优质的售后服务，通常价格较高。而一些小品牌虽然价格较为亲民，但其性能和稳定性可能无法与大品牌相比。仪器的测量精度和功能也会影响价格。如果您需要的是高精度的测量设备，或者具有更多高级功能的仪器，其价格自然会更高。红外定硫仪的测量范围和适用领域也是价格波动的因素之一。不同型号的红外定硫仪在测量硫含量的范围、样品量、检测速度等方面有所不同。根据行业需求，某些仪器可能需要具备更强的自动化功能和更高的灵敏度，从而导致其价格更高。在一些特殊的实验室或工业环境中，这种高端设备的需求尤为突出，价格自然会较为昂贵。选择红外定硫仪时，除了关注价格，还要考虑其售后服务、设备的维护成本以及保修期等因素。高质量的售后服务和长周期的保修可以为用户节省大量后续费用，同时提高仪器的使用效率和稳定性。为了确保投资的性价比，用户需要综合考虑仪器的整体性价比。红外定硫仪的价格并非固定不变，而是受到品牌、功能、测量精度、售后服务等多重因素的影响。在选择合适的仪器时，用户应根据自身的需求，结合预算和使用场景，进行全面的评估与比较。了解市场趋势并选择合适的产品，才是确保投资效益的关键所在。

2025-04-07 13:45:14红外测地温仪怎么用: 红外测地温仪怎么用随着科技的不断发展，红外测地温仪已成为测量地表温度的重要工具，广泛应用于农业、环保、气象、建筑等领域。本文将详细介绍红外测地温仪的使用方法、使用注意事项以及其在不同领域的应用。通过本篇文章，您将全面了解如何正确操作红外测地温仪，确保测量结果的准确性和有效性。红外测地温仪是一种通过红外线原理测量物体表面温度的设备，其优点在于无需接触被测物体，能够快速、非侵入性地获取温度数据。使用时，红外测地温仪通过发射红外光束到物体表面，并通过接收反射回来的红外辐射来计算温度。在农业中，红外测地温仪能够帮助农民检测土壤的温度变化，进而决定灌溉和施肥的时机；在建筑行业，它则能帮助检测房屋或墙体的热损失，进而提高能源利用效率。正确使用红外测地温仪时，首先需要确认设备的校准状态。仪器的精度和可靠性直接关系到测量结果，因此定期校准至关重要。操作时，应保持设备与被测物体的距离适中，避免在强烈的反射表面进行测量，因为这可能导致数据失真。要特别注意环境条件对测量结果的影响，例如强风或温差过大的环境可能导致温度数据偏差。为了确保测量的准确性，使用时要避免直视强光源，以免影响仪器的红外接收信号。对于一些特殊情况，例如测量较为复杂或远距离的对象，可以考虑使用带有调焦功能的红外测地温仪，它能帮助提升测量的清晰度和度。在应用领域，红外测地温仪除了用于农业土壤温度检测外，还被广泛应用于环境监测、建筑节能分析、以及各种工业检查等。通过不断优化测量技术，红外测地温仪的应用前景广阔，其准确性和非接触式测量特点使其在各个行业中都得到了越来越广泛的应用。红外测地温仪凭借其的测温能力和广泛的应用前景，成为了现代科技中不可或缺的工具。了解和掌握其正确使用方法，不仅能提高工作效率，还能确保测量结果的科学性和准确性，从而为相关领域的工作提供强有力的支持。

2025-04-28 12:30:14红外碳硫分析仪基本组成: 红外碳硫分析仪基本组成红外碳硫分析仪是现代工业中广泛应用的仪器，主要用于测量样品中碳（C）和硫（S）元素的含量。其的分析能力，使其在钢铁、化工、环境保护等多个领域中扮演着至关重要的角色。本文将深入探讨红外碳硫分析仪的基本组成，了解其核心技术与工作原理，为相关领域的专业人员提供参考。红外碳硫分析仪的工作原理依赖于红外光谱技术，通过测量样品在红外光照射下的吸光度变化，来定量分析其中碳和硫元素的含量。分析仪的组成通常包括以下几个主要部分：红外光源：该部分负责产生稳定的红外光束，作为仪器测量的基础。常见的光源有碳氘灯、钨丝灯等，它们能够提供所需的红外辐射。光学系统：光学系统的主要作用是将光源发出的红外光束引导至样品，并通过反射、透过等方式实现光路的调节。通常包括反射镜、滤光片、透镜等，确保红外光束能照射样品。样品炉：样品炉是红外碳硫分析仪的核心组成部分之一，用于加热样品。高温条件下，样品中的碳和硫会与氧气反应，产生二氧化碳（CO₂）和二氧化硫（SO₂）气体。气体检测系统：在样品加热过程中产生的气体会通过气体检测系统被捕捉。通过红外光谱吸收的特性，检测系统能够精确测定二氧化碳和二氧化硫的浓度，从而间接计算出样品中的碳和硫含量。信号处理和显示系统：该系统将气体检测结果转化为电信号，并通过数据处理软件进行分析，终以数值的形式呈现在仪器的显示屏上，方便操作人员读取结果。控制系统：控制系统用于对整个分析过程进行调节和控制。它负责设置温度、时间以及其他关键参数，确保分析过程的稳定性和准确性。综合来看，红外碳硫分析仪的基本组成体现了光学、热力学和气体分析等多学科技术的集成。每一个部件都发挥着至关重要的作用，确保仪器能够高效、地完成对碳硫元素含量的分析任务。随着技术的不断进步，红外碳硫分析仪在工业和科研领域的应用将会更加广泛，成为现代化生产过程中不可或缺的检测工具。

2023-03-14 12:04:54等离子去胶机（Plasma Cleaner）: 等离子去胶机（Plasma Cleaner）为何要去除光刻胶？在现代半导体生产过程中，会大量使用光刻胶来将电路板图图形通过掩模版和光刻胶的感光与显影，转移到晶圆光刻胶上，从而在晶圆表面形成特定的光刻胶图形，然后在光刻胶的保护下，对下层薄膜或晶圆基底完成进行图形刻蚀或离子注入，最后再将原有的光刻胶彻底去除。去胶是光刻工艺中的最后一步。在刻蚀/离子注入等图形化工艺完成后，晶圆表面剩余光刻胶已完成图形转移和保护层的功能，通过去胶工艺进行完全清除。光刻胶去除是微加工工艺过程中非常重要的环节，光刻胶是否彻底去除干净、对样片是否有造成损伤，都会直接影响后续集成电路芯片制造工艺效果。半导体光刻胶去除工艺有哪些？半导体光刻胶去除工艺，一般分成两种，湿式去光刻胶和干式去光刻胶。湿式去胶又根据去胶介质的差异，分为氧化去胶和溶剂去胶两种类别。干式去胶适合大部分去胶工艺，去胶彻底且速度快，是现有去胶工艺中zui好的方式。一、等离子去胶机简述：氧等离子去胶是利用氧气在微波发生器的作用下产生氧等离子体，具有活性的氧等离子体与有机聚合物发生氧化反应，使有机聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室，从而达到去除光刻胶的目的，这个过程我们有时候也称之为灰化或者剥离。氧等离子去胶相比于湿法去胶工艺更为简单、适应性更好，去胶过程纯干法工艺，无液体或者有机溶剂参与。当然我们需要注意的是，这里并不是说氧等离子去胶工艺100%好于湿法去胶，同时也不是所有的光刻胶都适用于氧等离子去胶，以下几种情形我们需要注意：① 部分稳定性极高的光刻胶如SU-8、PI（聚酰亚胺），往往胶厚也比较大，纯氧等离子体去胶速率也比较有限，为了保证快速去胶，往往还会在工艺气体中增加氟基气体增加去胶速率，因此不只是氧气是反应气体，有时候我们也需要其他气体参与；② 涂胶后形成类非晶态二氧化硅的HSQ光刻胶。由于其构成并不是单纯的碳氢氧，所以是无法使用氧等离子去胶机来实现去胶；③ 当我们的样品中有其他需要保留的结构层本身就是有机聚合物构成的，在等离子去胶的过程中，这些需要保留的层也可能会在氧等离子下发生损伤；④ 样品是由容易氧化的材料或者有易氧化的结构层，氧等离子去胶过程，这些材料也会被氧化，如金属AG、C、CR、Fe以及Al，非金属的石墨烯等二维材料；市面上常见氧等离子去胶机按照频率可分为微波等离子去胶机和射频等离子去胶机两种，微波等离子去胶机的工作频率为2.45GHz，射频等离子去胶机的工作频率为13.5MHz，更高的频率决定了等离子体拥有更高的离子浓度、更小的自偏压，更高的离子浓度决定了去胶速度更快，效率更高；更低的自偏压决定了其对衬底的刻蚀效应更小，也意味着去胶过程中对衬底无损伤，而射频等离子去胶机其工作原理与刻蚀机相似，结构上更加简单。因此，在光电器件的加工中，去胶机的选择更推荐使用损伤更小的微波等离子去胶机。二、等离子清洗去胶机的工作原理：氧气是干式等离子体脱胶技术中的首要腐蚀气体。它在真空等离子体脱胶机反应室内高频和微波能的作用下，电离产生氧离子、自由氧原子O*、氧分子和电子混合的等离子体，其间氧化能力强的自由氧原子（约10-20%）在高频电压作用下与光刻胶膜发生反应：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反应后产生的CO2和H2O然后被抽走。三、等离子去胶机的优势：1、等离子清洗机的加工过程易于控制、可重复且易于自动化；使用等离子扫胶机可以使得清洗效率获得更大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点2、等离子扫胶机清洗对象经等离子清洗之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序，可以提高整个工艺流水线的处理效率；3、等离子扫胶机使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；4、避免使用ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法；5、等离子去胶机采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同，等离子体的方向性不强，这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务，因此不需要过多考虑被清洗物体的形状；6、等离子去胶机在完成清洗去污的同时，还可以改良材料本身的表面性能，如提高表面的润湿性能、改良膜的黏着力等，这在许多应用中都是非常重要的。四、等离子去胶的主要影响因素：频率选择：频率越高，氧越易电离形成等离子体。频率太高，以至电子振幅比其平均自由程还短，则电子与气体分子碰撞几率反而减少，使电离率降低。一般常用频率为 13.56MHz及2.45GHZ 。功率影响：对于一定量的气体，功率大，等离子体中的的活性粒子密度也大，去胶速度也快；但当功率增大到一定值，反应所能消耗的活性离子达到饱和，功率再大，去胶速度则无明显增加。由于功率大，基片温度高，所以应根据工艺需要调节功率。真空度的选择：适当提高真空度，可使电子运动的平均自由程变大，因而从电场获得的能量就大，有利电离。另外当氧气流量一定时，真空度越高，则氧的相对比例就大，产生的活性粒子浓度也就大。但若真空度过高，活性粒子浓度反而会减小。氧气流量的影响：氧气流量大，活性粒子密度大，去胶速率加快；但流量太大，则离子的复合几率增大，电子运动的平均自由程缩短，电离强度反而下降。若反应室压力不变，流量增大，则被抽出的气体量也增加，其中尚没参加反应的活性粒子抽出量也随之增加，因此流量增加对去胶速率的影响也就不甚明显。五、等离子去胶机的应用：1、光刻胶的去除、剥离或灰化2、SU-8的去除/ 牺牲层的去除3、有机高分子聚合物的去除4、等离子去除残胶/去浮渣/打底膜5、失效分析中的扁平化处理6、表面沾污清除和内腐蚀（深腐蚀）应用7、清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架8、剥离金属化工艺前去除浮渣9、提高黏附性，消除键合问题10、塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能11、产生亲水或疏水表面

介质阻挡等离子红外池产品

介质阻挡等离子红外池问答

联系我们

关注我们