2025-01-10 10:52:35粉体样品ALD

粉体样品ALD（原子层沉积）是一种针对粉体材料的先进制备技术。它利用气-固反应原理，在粉体样品表面逐层沉积目标物质，形成薄膜或涂层。该技术广泛应用于半导体材料制备，特别适用于处理粉体样品，如粉末催化剂、粉体传感器等。粉体样品ALD具有沉积厚度精确可控、材料选择广泛、工艺灵活等优点，为半导体材料制备提供了一种高效、精确的新方法。

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