2025-01-10 10:52:35粉体样品ALD
粉体样品ALD(原子层沉积)是一种针对粉体材料的先进制备技术。它利用气-固反应原理,在粉体样品表面逐层沉积目标物质,形成薄膜或涂层。该技术广泛应用于半导体材料制备,特别适用于处理粉体样品,如粉末催化剂、粉体传感器等。粉体样品ALD具有沉积厚度精确可控、材料选择广泛、工艺灵活等优点,为半导体材料制备提供了一种高效、精确的新方法。

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