2025-01-21 09:34:25充电设施及技术设备
充电设施及技术设备是为电动汽车、移动设备等充电的设备和相关技术。主要包括充电桩、充电站、充电器、充电管理系统等。充电桩和充电站提供电源接口,充电器负责将交流电转换为直流电进行充电,充电管理系统则监控充电过程,确保安全高效。这些设备和技术具有高效、安全、智能等特点,对推动电动汽车发展和满足移动设备充电需求具有重要意义。

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2023-07-06 15:28:28高低温试验箱:设备构成及工作原理
高低温试验箱是一种重要的环境试验设备,主要用于模拟产品在使用环境中可能遇到的温度变化,以测试产品的耐候性和稳定性。上海和晟 HS系列 高低温试验箱高低温试验箱具有以下特点:能够模拟产品在使用环境中可能遇到的温度变化,测试产品的耐候性和稳定性;具有高温、低温、湿度等多种测试模式,可满足不同用户的测试需求;能够进行快速温度变化试验,以模拟产品在使用过程中可能遇到的温度突变情况;具有精准的温度控制和数据记录功能,确保测试结果的准确性和可靠性。高低温试验箱的工作原理主要基于制冷/制热循环和温度控制。通过制冷剂的循环流动,实现箱内温度的降低;同时,通过加热装置的启动,实现箱内温度的升高。此外,试验箱还具有精准的温度控制和数据记录功能,以确保测试结果的准确性和可靠性。高低温试验箱的设备构成主要包括箱体、控制系统和传感器等。箱体主要由不锈钢材料制成,具有优良的耐腐蚀性能;控制系统主要用于设置和显示试验箱内的温度,同时还能够控制制冷剂和加热装置的工作;传感器则用于实时监测和记录试验箱内的温度变化。使用高低温试验箱时,用户需要根据实际需求进行设置。首先,需要根据测试产品的特性和使用环境选择相应的模式,如高温、低温、湿度等;其次,需要根据测试要求设置相应的温度,并启动制冷或加热装置;最后,需要观察和记录试验箱内的温度变化情况,以及产品的耐候性和稳定性表现。高低温试验箱具有以下优缺点:优点:能够模拟产品在使用环境中可能遇到的温度变化,测试产品的耐候性和稳定性;具有多种测试模式,可满足不同用户的测试需求;能够进行快速温度变化试验,以模拟产品在使用过程中可能遇到的温度突变情况;具有精准的温度控制和数据记录功能,确保测试结果的准确性和可靠性。缺点:设备价格较高,对于小型企业而言可能存在一定的经济压力;需要定期维护和保养,增加了使用成本;对于某些特殊产品而言,可能需要更复杂的测试模式和条件,试验箱无法满足其需求。根据以上优缺点分析,我们可以得出以下选购建议:根据实际需求选择合适的试验箱型号和品牌,以满足测试需求和经济性要求;考虑试验箱的易用性和可靠性,应选择操作简单、易于维护和保养的设备;应注意设备的精度和稳定性,以确保测试结果的准确性和可靠性;在购买前应详细了解设备的保修和维护政策,以便在后期使用过程中遇到问题时能够得到及时解决。总之,高低温试验箱是一种重要的环境试验设备,对于评估产品的耐候性和稳定性具有重要作用。在选购和使用过程中,需要根据实际需求和经济性要求进行综合考虑,选择适合自己的设备型号和品牌。同时,在使用过程中应遵循设备操作规范和保养要求,以确保测试结果的准确性和可靠性。
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2022-11-20 14:58:54常见芯片开封技术及仪器简介
常见芯片开封技术及仪器简介 Wayne Zhang(似空科学仪器(上海)有限公司)2022.10.11        芯片失效分析(FA, Failure Analysis)的常见方法中,包含非破坏性分析(无损检测,如超声波、X-RAY分析)、破坏性物理分析(有损检测,如芯片开封/开盖、切片制样)、I-V电气特性分析、EMMI微光检测等。       其中芯片开封/开盖分析是DPA(破坏性物理分析)的重要手段,是研究芯片封装效果和技术的一种必要方法。       本文简单概述常见芯片开封技术和仪器。       1、机械开封    其原理是用应力直接去除芯片的封装材料,属于物理开封。常规机械工具及专用切割、研磨、铣刨、抛光等仪器就可应用于这种方式。其优点是简单直观,根据精度要求,可选仪器价格范围很宽(甚至拿把螺丝刀也可以,在特殊情况下)。缺点是开封的几何形状不太容易控制,总体来讲精度比较低,容易导致对应力敏感的样品破碎,或者由于仪器需要用耗材而造成“二次污染”。当然,这个领域也有精度可达1微米,几何形状可编程的仪器,比如,美国ALLIED公司的铣削、研磨、抛光一体机X-PREP。但这种高端仪器,价格几十万美元,且对“敏感单位”禁运。   点击了解更多 //                                                         2、化学开封    其原理是用硝酸、硫酸及其混合液对芯片封装材料进行腐蚀,属于化学开封。优点是没有物理应力,不会造成样品破碎,并且不会伤害硅等耐酸的半导体材料的电气特性。缺点是所用材料为强酸,对人体危害大,建立实验室和购买耗材收到政府严格管控,开封速度较慢,如果芯片中有耐酸性不好的走线则需要特殊处理。另外,其开封效果受到四种参数的影响,包括酸配比、流速、温度、腐蚀时长,对操作人员有一定的经验要求。      目前该领域没有国产的专用仪器,市面上常见的是美国NISENE的JetEtch系列和美国RKD的Elite Etch系列。   点击了解更多 //                                                        3、激光开封    其原理是用高能激光灼烧局部区域导致塑封材料粉碎脱落。优点是效率高,几何形状可编辑,没有二次污染,不需要强酸暴露,属于物理开封。缺点是会产生局部高温,容易导致半导体材料电气属性失效,所以一般只能开封到半导体材料表面,后续残留封装材料需要其它手段去除。该领域的专用设备供应商国内外都有,目前国产化程度越来越高,价格相比进口设备有了明显下降,并且性能和实用性已经和进口设备没有差距。   点击了解更多 //                                                      4、等离子开封    其原理是通过电场功率将反应气体离子化后与需要去除的材料接触并产生化学反应而挥发。总体上属于化学开封,也有同时采用化学和物理机制的。优点是没有物理应力,精细化程度高,不攻击敏感材料,可到达细孔凹陷部位。缺点是速度慢,价格昂贵。      该领域的专用设备供应商主要来自欧洲和美国。     点击了解更多 //                                                       5、离子开封    其原理是通过高压电场加速带电离子,用其轰击目标材料,使它们脱落。本质上是物理开封,带有某些化学效果。优点是精度非常高,可处理多种目标材料。缺点是不容易控制几何形状,速度慢,仪器价格昂贵。该领域的专用设备供应商主要来自日本、欧洲和美国。  点击了解更多 //                                                 
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2022-05-23 14:36:19气体发生器基本原理及技术特点
一、氢气发生器原理以二次蒸馏水为原料,添加10%KOH作为电解质,产生99.999%的高纯氢气.电解质采用新型恒流开关电源,根据用户实际用气量调节输出电流,从而实现流量自动跟踪.并设有过压保护装置,确保使用绝dui安全。二、氮气发生器基本原理采用现代燃料电池技术,先将空气中的O2在外加电源的作用下与H2O反应生成OH-,然后在电场力作用下,实现气液分离,最后将OH-还原成O2和H2O,从而将空气中的N2和O2分离。化学式:O2+2H2O+4e=4OH-由于采用了优化设计的催化剂,使用提纯后的N2中残氧量极低(3ppm以下),如再经过后期脱氧处理,残养量可进一步降低1ppm以下,因此可以满足各种检测器对载气纯度的要求。其它微量杂质如CO、H2O等采用物理吸附方法去除。三、特点1.使用安全使用时气压低,关机后残余气量少,并有过压保护装置,使用绝dui安全;2.操作方便随开随关,免除搬运之苦,真正一劳永逸;3.成本低廉氢气发生器使用过程中只消耗蒸馏水,最da功率150VA;氮气发生器只消耗空气(需另接空气源),最da功率100VA;4.结构紧凑外观优美,占地面积小,使实验室实现仪器化;四、三气发生器使用注意事项1.开机顺序:①检察氮气开关阀处于“关”位置(向内);② 打开空气源开关,空气和氮气压力逐渐上升;③ 待空气,氮气压力升至0.35MPa时,打开氢气和氮气电源开关;④待氮气排空30分钟以后,打开氮气开关阀,此时氮气流量由气相色谱仪控制;氢气在流量指示为“000”后可以使用,流量也由气相色谱仪控制;2.关机顺序:关机顺序刚好相反,即先关氮气开关阀,再依次关氮气,氢气和空气电源开关。单独使用氢气时,应先开空气电源开关;单独使用氮气时,也需同时打开氢气电源开关。注意液体高度,在接近下限时应及时添加蒸馏水,但不要超过上限.建议每半年更换一次电解质.请勿在无液状态下开启氮气或氢气电源开关!注意干燥管内变色硅胶的颜色(仪器背部左下方的变色硅胶也要注意观察),变为粉红色后应及时更换,方法参见说明书。在空气潮湿的季节,空气储气罐中会有少量残留水分,可以从仪器背部的"放液口"排出.方法是:在仪器停止工作后,将防液口的密封螺母松开,利用气罐中的空气压力将水分压出,完毕后将密封螺母重新拧好。在维护仪器时,如需降压,应通过色谱或气源上的流量阀排气,请勿直接从接头处放气,以免压力突然降低,损坏气路元件。
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2022-11-02 23:50:36兆声清洗技术原理、优势及应用
1 兆声清洗技术背景Schwartzman等人,1993在SC1、SC2清洗时使用了兆频超声技术,获得前所未有的清洗效果,使得该方法在清洗工艺中被广泛采用,也引发了对超声波增强清洗效果的规律与机理的研究。1995年Busnaina的研究表明,兆频超声波去除粒子的能力与溶液的组成、粒子的大小、超声波的功率及处理时间有关。1997年Olim发现兆频超声去除粒子的效率与粒子直径的立方成正比,并由此推断兆频超声无法去除0.1μm以下的粒子。但是,兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上<0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法。但是,随着频率升高,声传播的效率会降低,所以兆声波清洗技术效果并不是频率越高越好。目前,一般用的频率范围是(700~1000)kHz。2 兆声波清洗原理简介声能在液体内传播时,液体会沿声传播的方向运动,形成声学流(Acousticstreaming),声学流是由声波生产的力和液体的声学阻力以及其他的气泡阻力形成的液体的流动的效果,兆声波清洗就是利用声能产生的液体流动来去除硅片表面的污染物,其原理见图1。兆声波清洗是由高频(700~1000kHz)的波长短(1.5μm左右)的高能声波推动溶液做加速运动,使溶液以加速的流体形式连续冲击硅片表面,使硅片表面的颗粒等污染物离开硅片进入溶液中,达到去除污染物的目的。随着声能的增高,表面张力会下降,这可改善浸润效果及小颗粒的浸润。而且,能量越高,声学流的速度越快,硅片表面被带走的颗粒也随之增多反应速率也会升高,这可降低反应时间,同时,也可以降低化学液的浓度。随着频率升高,空洞现象的阀值会升高,所以兆声不会像超声一样会产生气泡而损伤硅片表面。而根据超声频率的高低对应的去除污染物颗粒大小的能力,选用的频率见表1。3 兆声波清洗技术的特点(1)美国VERTEQ公司的M.Olesen.Y.Fan等人研究发现,兆声技术有如下特点。能大大降低边界层的厚度,使其具有清除深亚微米颗粒的能力,可满足现行工艺以及0.1μm(线宽)技术对清洗工艺的需求。有兆声时边界厚度的对比(见图2)。(2)可以极大的提高清洗效率,从图3有无兆声时的清洗效率对比图中可以看到,当兆声关闭时,用30s的时间清洗效率只能达到20%,有兆声时,只需10s的时间清洗效率就可达到99.99%。(3)由于兆声波清洗可以使用稀释倍数大的化学液,从而大大减少了化学药品的用量和消耗,降低了清洗工序的工艺成本,有效减少了化学液的污染,保护环境。图3是在极低浓度的化学液中有无兆声的清洗效果对比图。由于兆声波清洗具备以上诸多优点,因此使得兆声波清洗很快成为硅片清洗行业中广泛应用于去除微细颗粒的重要手段。4 兆声波清洗技术在清洗设备中的应用结合常规的湿法清洗工艺开发出适合相关工艺阶段的兆声清洗设备,按照这些设备的不同结构,大体可分为两类,一类是融汇在湿法清洗机兆声清洗槽或兆声漂洗槽,它们作为设备的一部分,只完成单个的清洗或漂洗过程。另一类则是以独立的设备形式出现。这就是兆声清洗机,该种设备通常配备两个槽体,一个清洗槽和一个冲洗槽,清洗槽是在兆声环境下用化学液来去除硅片表面的微细颗粒及化学污染物等,冲洗槽则是对清洗完的硅片用去离子水进行冲洗,从而达到生产需要的洁净度。但是由于兆声传播是一种介质传播,声音传播中的能量会转化成介质的动能,因此在使用兆声清洗的同时会产生兆声能量的衰减。导致能量衰减的因素,首先是兆波的反射,如图4所示。兆声能量的衰减可通过以下公式计算:衰减系数γ可表示为:γ=γ吸收+γ分散;γ分散在液体中,不在计算内。在水液体中,γ吸收系数(dB/m)=0.2F2(MHz)。由此计算可得,在频率为950kHz时,衰减度约为0.002dB/m;在频率为40kHz时,衰减度约为0.000003dB/m,在水液体中,兆声波衰减约为低频超声波衰减的1000倍,如图5所示。因此,在兆声清洗中,液位不能超过500mm。而在低频超声波中,超声波能量可传至(1.5~2)m高。安装时,石英缸底部有一定倾斜角度更利于高频兆声波的传播,由图7中角度与声压的关系可知,当θ=2°时,最有利于兆声波的传播。由于声波传播时一种介质传播,因此在不同的频率下石英缸作为传递介质,它的厚度也对兆声的传播有一定影响。通过下面公式可以计算出不同介质中声波的传播率D:从图8可见,当厚度t=3mm时,兆声波在石英中具备更好的传播率。兆声发生器在石英循环溢流槽中的安装原理见图9。5 兆声清洗技术应用领域由于兆声波能去除硅片表面的微小颗粒,并且不会对硅片表面造成损伤,近几年兆声波清洗被大量的应用在清洗工艺中。兆声波用在SC-1中,可提高去除颗粒尤其是小颗粒的效果;用在DHF,臭氧水、纯水中都能起到增强清洗效果的作用。目前兆声清洗技术被广泛应用于液晶、手机镜片、光学器件照相机镜头制造业,汽车、摩托车制造业,电子、微电子、电子电器元器件制造业,五金业、机械的零件业,航天、航空清洗精密零部件业,钟表、眼境、珠宝制造业,家电产品制造业,电镀业,铁路机车造业等各个行业。(转)具体应用涉及:带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺
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2022-12-12 15:27:54UriSponge | 实验室尿液样本采集、运输及保存设备
UriSponge™主要用于实验室尿液样本的采集、运输以及保存。用UriSponge™采集的样本会按照临床实验室标准操作规程(SOP)进行泌尿系统致病菌和酵母的培养。它重新定义了尿液样本采集,提供了处理便捷性和检验性能。UriSponge™是一种安全、易于使用的尿液样本收集设备。样本的采集可以在隐私的情况下完成,且使用非侵入式设计,这对于行动能力受限或由于距离太远不便就诊的人来说是相当便捷的。高吸收量海绵在海绵中加入了即取即用的化学防腐剂,保证运输过程中不会出现微生物过度繁殖或过度杀伤的风险。通用系统UriSponge™能够保持微生物的活性,用于传统培养分子检测。实用可靠的采集防腐剂通过化学方法与海绵结合,与尿液接触后就会被激活。只需直接用海绵采样器采集或将其浸入样本中,紧闭容器并将其送到实验室进行分析。活性保持UriSponge™能使微生物在冷藏和室温下存活48小时。如有需要copan的拭子,可联系上海尔迪仪器科技有限公司
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