安东帕自动化多用途粉末X射线衍射仪XRDynamic 500特点

安东帕自动化多用途粉末X射线衍射仪XRDynamic 500：为精进的分析需求而生

在当今快速发展的实验室、科研、检测及工业领域，对材料结构和成分的洞察，是推动技术革新与质量控制的关键。安东帕（Anton Paar）推出的自动化多用途粉末X射线衍射仪XRDynamic 500，正是为满足这些日益精进的分析需求而设计，它将高通量、灵活性与前沿技术融为一体，为用户提供无与伦比的分析体验。

XRDynamic 500的核心优势在于其高度集成化的自动化设计，显著提升了样品处理效率和数据采集的连续性。对于需要处理大量样品的实验室而言，这意味着更短的周转时间，更快的研发进程。

核心技术与设计亮点

XRDynamic 500的性能，源于其多项创新技术的融合：

• 高能量X射线源与高效探测器系统： 采用先进的X射线管（如Cu Kα 2.2kW）及高灵敏度、低噪声的探测器（如Pixcelia 2D探测器，面积可达200 mm x 200 mm），能够快速获取高质量的衍射图谱，即使是低浓度或结晶性较差的样品，也能获得清晰的信号。
• 一体化自动化样品台（ATS）： 配备高达120个样品的自动进样器，支持多种样品托盘，可实现无人值守的连续运行。可选配的旋转样品台、加热/冷却样品台（温度范围：-170°C至1000°C）、以及可控气氛附件，进一步扩展了仪器的应用范围，使其能够模拟各种真实环境下的材料行为。
• 精密测角仪： 提供高精度（<0.001°）的步进角度控制，确保了衍射峰位置和强度的准确测量，这是进行物相识别、定量分析和结构解析的基础。
• 智能数据处理与分析软件： 配套的SiWin软件集成了数据采集、处理、分析和报告生成等功能。内置的数据库（如ICDD PDF-4+）和强大的解析算法，能够实现快速准确的物相检索、衍射峰拟合、晶体结构精修（Rietveld方法）等。

数据导向的性能指标

• 最小可检测限 (MDL)： 对于主要衍射峰明显的晶体相，MDL可达0.1 wt.% 甚至更低，这意味着能够检测到痕量的活性成分或杂质。
• 分辨率： 优异的仪器分辨率（例如，通过标准硅标准品测量，在2θ=28.4°处的峰宽可低至0.03°），确保了衍射峰的清晰度和区分度，对于分析具有相似晶格常数的物相至关重要。
• 角度准确性： 在整个扫描范围内，角度准确性可达±0.005°，保证了衍射峰位置的可靠性。
• 数据采集速度： 根据所需的角度范围和步长，采集一套完整的衍射图谱（例如，2θ从10°扫描到80°，步长0.02°，计数时间1秒/步），通常可在几十分钟内完成，大大缩短了实验周期。

广泛的应用领域

XRDynamic 500的强大功能和灵活性，使其能够满足广泛行业的需求：

• 制药行业： 固态多晶型研究、杂质鉴定、含量测定，确保药品质量和稳定性。
• 材料科学： 新材料的结构表征、相变研究、薄膜厚度及结构分析。
• 化工行业： 催化剂活性相的表征、催化剂失活机理研究、产品质量控制。
• 地质与矿物学： 矿物成分分析、土壤和岩石研究。
• 环境监测： 污染物分析、土壤和水体中重金属相鉴定。
• 工业生产： 陶瓷、水泥、金属合金等产品的物相分析与质量控制。

总结

安东帕XRDynamic 500自动化多用途粉末X射线衍射仪，凭借其的自动化能力、先进的探测技术、的测角系统以及智能化的软件解决方案，为用户提供了高效、可靠、多功能的X射线衍射分析平台。它不仅能够满足当前实验室的分析需求，更能预见未来科研和工业发展对材料表征提出的更高要求，是助力分析工作者实现突破性发现的强大伙伴。