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有为环境 六价铬水质在线分析仪UPM-2000特点

来源:深圳市有为环境科技有限公司 更新时间:2025-12-15 18:00:23 阅读量:40
导读:UPM-2000系列以高稳定性和低维护为核心诉求,面向实验室、工业现场和水处理厂的Cr(VI)在线分析场景,提供连续、可追溯的数据输出与智能化报警能力。其工作原理以DPC比色法为基础,结合高稳定性的流路与在线酸化前处理,实现对Cr(VI)浓度的快速、重复性测量,适用于废水排放、循环水回路、自来水厂等环境。

有为环境 六价铬水质在线分析仪UPM-2000特点


在水处理与环境监测领域,六价铬在线监测需求日益提升。UPM-2000系列以高稳定性和低维护为核心诉求,面向实验室、工业现场和水处理厂的Cr(VI)在线分析场景,提供连续、可追溯的数据输出与智能化报警能力。其工作原理以DPC比色法为基础,结合高稳定性的流路与在线酸化前处理,实现对Cr(VI)浓度的快速、重复性测量,适用于废水排放、循环水回路、自来水厂等环境。


核心参数与型号


  • UPM-2000 基本版
  • 测量对象:六价铬(Cr(VI))
  • 测量范围:0–250 μg/L
  • 分辨率/重复性:0.5 μg/L;重复性 ≤2% RSD
  • 响应时间:t90约60 s
  • 样品处理:在线取样,具自动酸化与稀释功能
  • 流路与前处理:内置过滤、去气、稳定化处理
  • 电源与通信:100–240 VAC,Modbus TCP/RTU
  • 数据与存储:本地数据记录与趋势分析,多日保存
  • 外壳与环境:316 不锈钢外壳,IP54,工作温度5–40°C
  • 尺寸/重量:约320×260×420 mm,约13 kg
  • 兼容性:兼容主流SCADA与数据导出格式
  • UPM-2000-EX(防爆版)
  • 防爆等级:Ex ib IIC T4
  • 适用场景:易燃易爆危险场所的Cr(VI)在线监测
  • 其他参数:与基本版保持一致,外壳与密封经过专项认证
  • 部件升级与扩展
  • 前处理模块升级:可选自动前处理单元,进一步简化现场操作
  • 高采样能力版本:在特定场景下提供更高的采样速率与多通道连接能力

性能与特点


  • 在线持续监测,具备上/下限报警及远程告警功能,便于工艺与排放控制的联动管理
  • 自动化前处理与清洗:酸化、过滤、去气等流程自动化,降低操作人员介入频次
  • 数据完整性与追溯性:强大数据记录、趋势分析、事件标记,方便合规与审计
  • 通信与集成能力:支持Modbus RTU/TCP,部分型号具备OPC UA接口,便于接入SCADA系统
  • 设备自诊断与维护友好:内置自诊断,关键部件寿命提示,定期维护计划可视化
  • 环境适应性:双模工作环境,耐腐蚀材料与防护等级设计,支持室内与带覆罩外设安装

应用场景示例


  • 工业废水排放:对Cr(VI)排放限值进行实时监控,快速发现异常并触发控制回路
  • 电镀、颜料与印染行业:监测前处理后水体Cr(VI)含量,保障后续处理工艺稳定性
  • 自来水与饮用水系统:对水源与净水过程中的Cr(VI)进行在线跟踪,确保水质符合标准
  • 循环冷却与再利用水:在循环水系统中持续监控Cr(VI),辅助节水与合规运行

安装与集成要点


  • 选型建议:依据目标测量范围、现场环境、是否需要防爆、以及是否需要扩展的通信接口来确定版本
  • 现场布置:优先放置在干燥、通风且便于排水的位置,确保防护等级需求匹配场所
  • 与工艺控制的联动:将数据接口接入现有SCADA/数据平台,设置报警阈值与自动控制策略
  • 维护要点:定期检查前处理单元的滤芯与酸化液状态,按厂家建议的周期更换耗材;保持流路清洁,避免堵塞

场景化FAQ


  • 设备适合哪些场景? 适用于需要24/7连续监测Cr(VI)的工业排放、再利用水、循环水以及自来水系统,尤其在对合规性和数据追溯要求较高的场景。
  • 如何选择具体型号? 关注测量范围、现场防爆需求、通信接口以及是否需要扩展通道。若现场有防爆需求,优先考虑UPM-2000-EX;若需更大测量范围或更高采样速率,再考虑升级版。
  • 维护周期是多久? 关键耗材如酸化液、滤芯和测试试剂需要按工作量和使用条件定期更换,通常酸化与滤芯的维护周期为3–6周或按现场实际流量计算;设备自诊断可帮助提前预警。
  • 数据接口与集成怎么做? 标配Modbus RTU/TCP,支持与主控系统的无缝对接;若有更高级的工艺信息集成需求,可选OPC UA接口或二级数据导出功能。
  • 常见故障及排除? 常见为样品酸化控制不稳定、流路阻塞或试剂耗材耗尽。解决思路是执行自诊断建议、检查前处理单元状态、定期清洗流路并确保供液系统正常。必要时联系厂家进行现场诊断与参数校正。

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