行业挑战
解决方案
凭借Sievers总有机碳TOC分析仪和超纯水硼分析仪,Sievers分析仪能够提供适合微电子制造工艺每一个步骤的分析解决方案。鉴于其宽广的分析范围和应用的多功能性,Sievers TOC分析仪可用于超纯水、工艺化学品纯度、回用水和废水处理监测。由于在二氧化硅之前,硼先从树脂床中泄漏出来,因此Sievers超纯水硼分析仪可通过检测硼浓度升高,实现二氧化硅的控制和树脂床的管理。
全面、灵活的监测选择
有两种常用于监测低浓度微电子应用中TOC的检测技术:膜电导率(Membrane Conductometric)和直接电导率(Direct Conductometric)。Sievers的产品涵盖了这两种技术,此外还提供适合于更复杂基质(如工艺化学品和废水)的湿化学氧化法。
我们可提供以下仪器和产品:
应用需求及Sievers的解决方案
Sievers分析仪的产品组合为微电子制造过程的每个步骤提供分析解决方案。
(点击查看大图)
给水、超纯水和回用水系统监测
Sievers M9e在线和便携式TOC分析仪专为最复杂的水系统和应用而设计。该分析仪的分析范围为0.03 ppb至50 ppm,使用膜电导率技术,精确检测系统给水、反渗透产水和最终产水中的TOC浓度。使用可选配的Turbo模式,仅需4秒分析时间,Sievers M9e分析仪是适合于回用水检测的理想故障排查工具。
Sievers M9e可实现:
仪器与仪器之间的匹配
在低TOC超纯水应用中低浓度检测的稳定性
12个月校准稳定期
先进的自动调零功能,适合超纯级的准确度和精度
超纯水/抛光循环回路监测
Sievers M500e和上一代500 RLe TOC分析仪设计用于低浓度TOC检测。这两款分析仪的操作范围为0.03 ppb至2.5 ppm,是目前市场上无试剂、在线超纯水TOC分析仪的最低检测限。
Sievers M500e和500 RLe:
可检测给生产带来问题的有机化合物,例如,会对制造运营构成重大风险的有机酸和有机氮化合物1,2
在低TOC超纯水应用中低浓度检测的稳定性
2020年,Sievers推出了500 RLe的下一代产品Sievers M500e分析仪,改进包括:
冲洗时间缩短50%,在现场低浓度校准(250 ppb)或年度维护后,该仪器可更快投入生产,回到工作状态
10英寸触摸屏,可实现更快、更直观的设置和操作
数字化升级,如远程访问、WiFi功能,改进了数据传输和管理选项,以及逐步的向导
改进了电导率范围(0.01-800 μS/cm),同时也可以显示为电阻率
使用异丙醇(IPA)的100 ppb确认协议
自适应自动调零,可根据先前的结果自动预测频率
另一款微电子应用的基本仪器是Sievers Boron Ultra在线超纯水硼分析仪:
拥有万亿分之一(ppt)的灵敏度
Sievers Boron Ultra硼分析仪可预测混床耗尽,优化EDI性能,并控制抛光回路的硼浓度
在释放二氧化硅之前,Sievers硼分析仪可检测到硼浓度升高,从而有助于防止二氧化硅泄漏到超纯水中
Sievers硼分析仪可显著减少运营费用,并保持超纯水系统的质量
超纯水系统诊断和故障排查
具有0.05到1000 ppb的分析范围,Sievers CheckPointe是适用于解决问题和诊断的理想仪器。该仪器采用直接电导率法,具有优异的轻便性(3.6千克),并且Sievers CheckPointe在线TOC分析仪:
能够接受加压或非加压的样品
可用于监测分配点、生产工具或尚未建立永 久监测的任意一点
根据一台参照TOC分析仪进行校准,可实现优异的低TOC浓度时,传感器对传感器的匹配
化学品和废水纯度
为了实现工艺性能和优化批量生产,在过氧化氢、氢氧化钠、氢氧化铵、硫酸和其他蚀刻/电镀化学品等工艺化学品中,控制TOC至关重要。Sievers InnovOx TOC分析仪非常适用于此类监测以及废水和回用水中的有机物监测。
Sievers InnovOx有助于:
工厂做出更明智的合规和处理决策
可提供实时直接的碳检测,与间接的需氧量检测形成鲜明对比
使用超临界水氧化(SCWO)技术处理复杂的基质
Sievers分析仪及
其在微电子制造中的应用汇总
参考文献
Godec, Richard D., “Monitoring and Controlling UPW Organic Nitrogen Contamination to Improve Immersion Photolithography Process Control.” Presented at ULTRAPURE WATER Conference, Portland, OR, November 2011, Tall Oaks Publishing, Inc.
Godec, Richard D.,”The Performance Comparison of Ultrapure Water TOC Analyzers using an Automated Standard Addition Apparatus.” Published and copyrighted by Semiconductor Pure Water and Chemical Conference, 2000 Proceedings.
Dunn R., “New Analytical Technique Promotes Elimination of Silica in Feed, Steam and Condensate Systems.”
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