METPOL-A(Central Pressure)是美国MetLab团队为实验室、科研机构和工业现场研磨抛光流程设计的一款高稳定性中心压力自动研磨抛光机。该机以中心压力分布为核心,能够将载荷均匀传递至整圆形磨抛工作面,从而实现高重复性表面质量和轮廓保持。系统集成化程度高,适合连续生产和自动化测试场景,尤其在金属、陶瓷、半导体封装前处理等工艺链中表现突出。
场景化应用要点 METPOL-A在需要高重复性和追溯性的场景中表现突出。通过中心压力的可控分布,即使在复杂几何件上也能实现均匀磨抛。工艺人员可以在控制界面快速建立多工步配方,记录每批次的压力、速度、行程与耗材信息,以实现过程可重复性和质量追溯。
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美国MetLab中心力自动研磨抛光机METPOL-A(Central Pressure)
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