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JEOL GrandARM2球差电镜 & EDM 脉冲型剂量调制器助力突破钙钛矿材料位错表征难题

来源:捷欧路(北京)科贸有限公司 更新时间:2026-07-08 17:45:40 阅读量:41
导读:JEOL GrandARM2球差电镜 & EDM 脉冲型剂量调制器助力突破钙钛矿材料位错表征难题

TECHNOLOGICAL INNOVATION

技术创新:脉冲型电子束剂量调制器EDM



透射电子显微镜不仅是观察工具,本身的高能电子束也可能主动改变材料性能。近年来,如OBF(最优明场像)等STEM低剂量观察技术,在卤化物钙钛矿中已经被证明能够以高剂量效率观察轻元素和易受电子束损伤样品的晶格结构。但低剂量观察技术采用的是连续电子束,在样品中持续产生辐照点缺陷,进而造成位错攀移等假象。因此,很多过去被认为是材料“真实结构”的结果,实际上仍然受到了连续电子束的影响。

因此,除了开发如OBF等新的成像方法以提高成像的剂量效率以外,JEOL还开发了脉冲电子束剂量调制器(Electrostatic Dose Modulator, 以下简称EDM)技术,其核心思想是在不改变电子枪发射特性和任何其它电镜参数的前提下将连续电子束切割成脉冲电子束(Pulsed),该技术不仅允许用户在JEOL的透射电镜上实现单个像素上的电子剂量的精确控制,还可通过脉冲带来的周期性电子束开关,让辐照点缺陷在Beam off期间可以周期性复合湮灭,从而保持样品的本征结构。





近日,香港城市大学(以下简称城大)协理副校长(内地研究)、城大物质科学研究院院长、材料与工程学系讲座教授、高时空分辨电镜中心(TRACE)主任陈福荣教授领导的研究团队,利用装备在JEOL GrandARM2 300kV球差电镜上的脉冲型剂量调制器(EDM),解决了钙钛矿等离子晶体中辐照损伤的难题,揭示了位错的本征结构并阐明了塑性变形机制,为电子束敏感材料的无损原子分辨率表征提供了普适性新方法。

图1 EDM原理:瞬间将连续电子束转变为脉冲型(Pulsed)电子束,而无需改变任何电镜参数


高能电子束在实现原子分辨率成像的同时,极易对离子晶体的本征结构造成不可逆的改变。以CsPbBr3、SrTiO3、PbTiO3乃至Al2O3等材料为例:在传统连续电子束成像下,全位错分解后并未形成理论预测的两个不全位错相互平行的滑移构型,反而反常地呈现为相互垂直的攀移构型(图1a)。这种不可动构型既无法解释材料的室温超常塑性(Nat. Mater. 2023, 22, 1175),也违背了攀移需高温驱动的经典认知,成为解析位错本征结构及塑性机制的核心瓶颈。

图2 脉冲电子束揭示钙钛矿材料中位错的本征结构及塑性变形机制。(a)连续电子束下位错的反常室温攀移分解构型及理论预测的本征滑移分解构型;(b)脉冲电子束下捕获的位错本征滑移分解原子像。


通过弹性散射截面计算,团队发现电子束通过位移损伤引入点缺陷,连续电子束下积累的高浓度点缺陷是驱动位错室温攀移的根本原因。据此,团队采用JEOL开发的EDM脉冲型剂量调制器,在保持球差校正透射电子显微镜的亚埃级STEM分辨率和观察过程中的其它电镜参数不变的前提下,实现了电子束剂量率的逐点精准调控。研究团队利用脉冲关束期间点缺陷的复合湮灭抑制攀移,成功获得了钙钛矿位错本征滑移分解的原子像(图2b),与理论预测完全吻合,并进一步原位捕捉到由脉冲切换为连续电子束后位错攀移的动态过程。该工作厘清了钙钛矿位错的本征结构及塑性变形机制,揭示了辐照诱导室温攀移的物理起源,也为电子束敏感材料的原子分辨率无损表征提供了普适性新方法。


图3 电荷分布对位错构型的调控作用。(a) 阳离子位错核的宽展结构;(b)阴离子位错核的紧凑结构


此外,团队发现电荷分布可决定性地调控位错的平衡组态:阳离子核心位错在稳定攀移后呈宽展构型,阴离子核心位错则呈紧凑构型(图3)。电荷密度分析表明,不全位错间的反相畴界引入局域正电荷,通过同号排斥或异号吸引决定最终构型。这一发现揭示了电荷调控位错构型的机制,为从电荷维度研究缺陷行为开辟了新视角。

综上所述,JEOL开发的脉冲电子束剂量调制器(EDM),可以将不仅为电子束敏感材料的原子分辨率无损表征提供了新的方法,还可以将电子束变成一种调控工具,可以通过控制位错状态进而为未来的器件实现更好的力学性能。

上述工作近日发表于国际顶级期刊《Nature Communications》上,题为“Resolving intrinsic dislocation structure in perovskite crystals using pulsed electron beam with atomic resolution”。城大李晓翠博士(现中国科学院上海硅酸盐研究所特聘研究员)与马诗华博士作为论文共同第一作者,陈福荣教授、香港大学陆洋教授、北京工业大学隋曼龄教授及城大赵仕俊教授为共同通讯作者。





图4 配备EDM技术的GrandARM2球差电镜外观(城大)


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