多点纳米膜厚测量仪 C11295产品样册
- 上传人: 滨松光子学商贸(中国)有限公司 |大小:3.4MB|浏览:758次|时间:2020-03-10
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C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学,用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度,以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量,也可以在膜厚测量中同时测量反射率(透射率)、目标颜色以及暂时变化。
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