紫外掩膜曝光光刻机

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美国恩科优N&Q系列光刻机（Mask Aligner)，是领xian的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验，售出1000多套设备，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、美国国家半导体公司、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦大学、台塑、墨尔本大学、华盛顿州立大学、方大集团、大联大集团、光宝科技、汉磊股份、厦门乾照光电股份有限公司等等。
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