极紫外光刻材料研究进展
- 上传人： 上海科学仪器有限公司 |大小：942.86KB|浏览：743次|时间：2018-06-21
-
- 文档简介
- 您可能感兴趣的资料
-
鱼吸收富集LAS的分析研究进展
-
食品安全现场快速检测技术研究进展及应用
-
近红外技术在牛肉质量分级体系中的应用研究进展
-
近红外光谱分析技术研究进展及其在作物育种中的应用前景
-
熔融法制备X射线荧光分析样品的研究进展
-
黄皮属植物生物碱的研究进展
-
近红外光谱分析技术研究进展及其在作物育种中的应用前景
-
SPME-HPLC联用技术研究进展
-
熔融法制备XRF分析样品的研究进展
-
药剂苦味评价法的国内外研究进展
极紫外光刻是微电子领域有望用于下一代线宽为22nm 及以下节点的商用投影光刻技术，光刻材料的性能与工艺是其关键技术之一。为我国开展极紫外光刻材料研究提供参考，综述了Z近几年来文献报道的研究成果，介绍了极紫外光刻技术发展历程、现状、光刻特点及对光刻材料的基本要求，总结了极紫外光刻材料的研究领域和具体分类，着重阐述了主要光刻材料的组成、光刻原理，光刻性能所达到的水平和存在的主要问题，Z后探讨了极紫外光刻材料未来的主要研究方向。
标签：
