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Nanoscribe双光子微纳打印系统Quantum X在2020美国西部光电展深受关注

发布:纳糯三维科技(上海)有限公司
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The SPIE Photonics West 2020 成功落幕,作为北美地区规模Zda光学领域贸易博览会,也是光电子行业数一数二的知名展览会,超过1300家公司参加了展会。此次展会开展了超过5000个精彩的会议演讲,包含多个主题,例如生物光子学,工业激光器,光电子学,微加工,微电子机械系统,微光机电系统和显示器等,展现了Z前沿的光学和光子技术。


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Nanoscribe在展会上介绍了3D微加工领域的进展,其中新品QuantumX系统引起了光子学界的浓厚兴趣。参观者对于多层衍射光学元件和新型折射微光学设计的高端制造也进行了积极的讨论。Quantum X 新型超高速无掩模光刻系统的技术核心是Nanoscribe特别研发的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该设备能在保持极高精度的同时达到160nm横向Zdi打印线宽,≤10nm表面粗糙度,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点,从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。

此外,在展会上发布的新型IP-Visio打印材料也受到了生物医学领域的巨大反响。这种打印材料具有无生物毒性,低荧光的特点且专为生物兼容微结构3D微加工而设计。借助自住研发的打印材料IP-Visio, Nanoscribe的3D打印设备为生产3D细胞培养和组织工程所需的复杂微环境开辟了新的道路。会议期间各界的巨大反响证明了微加工已然成为光学和光子学行业的关键技术之一。

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Nanoscribe秉持着卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的技术背景,经过十几年的不断研究和成长,已然成为微纳米生产领域的领导企业。为了拓展并加强ZG及亚太地区的销售推广和售后服务范围, 在2017年底Nanoscribe在上海成立了独资子公司 - 纳糯三维科技(上海)有限公司,并设立亚太实验室供参观访问。


更多咨询可联系Nanoscribe纳糯三维科技(上海)有限公司 销售技术团队






2020-03-03
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