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Nanoscribe3D微纳加工技术开启自由曲面微光学新纪元

发布:纳糯三维科技(上海)有限公司
浏览次数:2044

是否还在为高精度微光学元件制作而发愁?

是否还在苦苦寻找高折射率打印材料?


德国 Nanoscribe 公司推出针对微光学元件(如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件等)具有特殊性能的新型材料 – IP-n162光刻胶。全新的光敏树脂材料具有高折射率,高色散和低阿贝数的特性,这些特性对于3D微纳加工创新微光学元件设计尤为重要,尤其是在没有旋转对称和复合三维光学系统的情况下。



“使用IP-n162这样的高折射率光敏树脂可以实现强大的设计自由度。设计人员可以利用更少的时间和成本制造出更强大、更薄、弧度更小且更紧凑的微透镜。”Simon Thiele,由BMBF资助的同名衍生公司项目PRINTOPTICS和CTO项目参与人说道。这个项目由德国Nanoscribe公司携手斯图加特大学和Karl Storz医学技术公司,共同合作研发在用于内窥镜应用中的光纤上打印微型光学器件。


ipn162_副本.jpg

图为Nanoscribe公司高精度双光子微纳3D打印设备:Photonic Professional GT2 & Quantum X

以及新型材料IP-n162


全新IP-n162光刻胶是为基于双光子聚合技术的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可实现具有高精度形状精度的创新微光学设计,并将高精度微透镜和自由曲面3D微光学提升到一个新的高度。



     主要特点:

  • 高折射率光刻胶,在589nm波长下n = 1.62

  • 低吸收率适合红外微光学,也是光通讯、量子技术和光子封装等需要低吸收损耗应用的ZJ选择

  • 高色散低阿贝数


由于其光学特性,高折射率聚合物可促进许多运用突破性技术的各种应用,例如光电应用中,他们可以增加显示设备、相机或投影仪镜头的视觉特性。此外,这些材料在3D微纳加工技术应用下可制作更高阶更复杂更小尺寸的3D微光学元件。例如适用于AR/VR应用的微型成像系统和3D感测。


新型IP-n162阿贝数低至25,使其成为了Nanoscribe高色散光刻胶。用该款光敏树脂所打印的样品结构,其光学性能能接近常规用注塑成型技术制作的光学聚合物,例如聚碳酸酯(polycarbonate)或聚酯(polyesters)。IP-n162材料尤其适合用于制作消色散光学系统,即通过使用由较低折射率和较高折射率材料(例如IP-n162)打印并组和而成的复合光学元件。


IN162_副本.jpg

图示结构由Simon Thiele设计,TTI GmbH TGU Printoptics, 由Nanoscribe打印制作



“在IP-n162光刻胶的使用过程中,我所实现的最满意的设计是一个复杂的光学系统。该系统由两个具有完全自由曲面表面的透镜组成,以实现无失真的图像。集成衍射透镜的特点是在透镜顶部包含精细的阶梯结构,用来矫正色彩误差,而IP-n162打印材料的高折射率有助于减小这些阶梯结构并减少杂散光。”Thiele根据使用新型光敏树脂的经验说道。

 

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www.nanoscribe.com/cn


德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳3D打印系统:

     Photonic Professional GT2   双光子微纳3D打印设备

     Quantum X                             双光子灰度光刻微纳打印设备



2020-09-25
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