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薄膜厚度和表面测量先进技术研讨会

发布:优尼康科技有限公司
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会议概况

2019年5月22日,为了促进测量技术行业的需求,优尼康科技和清华大学电子工程系联合举办的薄膜厚度和表面测量先进技术研讨会,于清华大学罗姆楼如期举行。首次置办,一举取得圆满成功。

 

专家精彩的报告

该次邀请了清华大学,北京大学,北京理工大学的专家作为演讲嘉宾,分别与我们分享了On-line 膜厚监控在超精密切削加工中的应用、可集成自由电子辐射器件的研究、The Research Progresses in 21’ Wafers HVPE System and GaN Single-crystal Substrates。另外还邀请了领xian的设备供应商KLA-Tencor公司的几位博士为我们带来精彩的分享演讲。分享的主题分别为:KLA Profiler products introduction and its applications、Advances in Spectral Reflectance Measurement and Cloud-Based 3D Analysis、Nano Indenter G200 and its applications、ZETA Multi-mode optical profiler introduction and applications。

 

研讨&展示相得益彰

该研讨会,除了聆听专家分享演讲外,受邀参会的高校、科研院所、高科技企业的人员还可以在现场观摩我司的产品、技术应用深入交流、现场测样。其中不乏一些用户就现场对产品表示的浓烈兴趣。参加人员表示,此次活动受益匪浅。


现场精彩时刻

膜厚测量仪|光学轮廓仪|Filmetrics|薄膜厚度测量仪|粗糙度测量

膜厚测量仪|光学轮廓仪|Filmetrics|薄膜厚度测量仪|粗糙度测量


(来源:优尼康科技有限公司)

2019-06-17
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