详细介绍
美国Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪
自动化薄膜厚度分布图案系统
F60-c 光学膜厚测量仪先进的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及 n&k， 采用 r-θ 极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度， 可随意选择一种或极坐标形、 或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。 针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。 49点的分布图测量只需耗时约 45秒。
可测样品膜层
基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。例如
氧化硅 氮化硅 类金刚石 DLC
光刻胶 聚合物 聚亚酰胺
多晶硅 非晶硅 硅
免费现场演示/支持
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产品优势
F60-c 光学膜厚测量仪先进的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及 n&k， 采用 r-θ 极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度， 可随意选择一种或极坐标形、 或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。 针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。 49点的分布图测量只需耗时约 45秒。
