产品简介
Pioneer120 PLD System是基础型独立PLD系统，用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 Advanced系统和Pioneer 180 PLD系统的主要区别是衬底加热阶段。Pioneer 120 Advanced系统使用导电加热阶段用于衬底加热， 其他模型使用辐射加热阶段。为了达到950°c的额定高温，基板必须与加热板紧密接触，用银浆提供加热板和基板之间的紧密接触(当需要这些高温时)。在不需要银浆的情况下，还提供衬底夹来固定衬底。在这些情况下, highest 衬底温度可能低于额定950°c。加热器是氧兼容的，能达到1大气(760托)的氧, 这个特性有助于制备外延氧化薄膜：可能需要在氧气环境后沉积和氧气压力接近1 atmosphere后退火冷却。Pioneer 120 PLD系统包括一个自动多目标转，具有目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加热器，目标转，过程压力，系统泵和激光触发。
产品特点
独立的交钥匙PLD系统。
外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。
纳米级薄膜的沉积。
外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。
自动多目标旋转多层沉积。
全干式真空泵组。
通过系统软件进行闭环压力控制。
技术指标
1、沉积室
8”CF泵口。8”CF衬底加热器端口。8“CF的目标
2、旋转端口
可编程导电衬底加热器
加热器温度:950℃。
加热器尺寸:直径2英寸(其他尺寸为定制)。
3、抽真空包组
全干真空泵。涡轮分子泵支持隔膜或涡旋泵。
4、PLD系统软件
Windows 7, LabVIEW 2013
控制衬底加热阶段。
控制目标旋转阶段。
5、PLD光学组件(KrF准分子激光器)
用于248nm的45°激光镜。
248nm平面凸透镜。
焦距约为50厘米。
