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新型热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F上市

发布:捷欧路(北京)科贸有限公司
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    新型热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F上市

    —新一代高性能分析工具,兼具超高分辨率和简易操作性的FE-SEM

    日本电子株式会社 (社长 栗原 権右衛門)宣布:新型热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F20175月开始销售。

    开发背景

    纳米技术、金属、半导体、陶瓷及医学生物学等各种各样领域里,扫描电子显微镜被活用,而且它的用途越来越广。随着高端材料构造的微细化,高分辨下观察变得必要,同时更简单地获取GX观察和分析数据的要求也越来越高。为了对应这些需要,JSM-7900F不再依赖操作的技能和经验,就能发挥很高的性能,实现了超高分辨观察和简单操作。

    主要特征

    1In-lens schottky plus场发射电子枪

    由于电子枪与低畸变聚光透镜结合的改善,实现了高亮度。即使在低加速电压下也能获得充分的照射电流进行高分辨观察和高速元素面分析。

    2.超级混合物镜/SHL (super Hybrid Lens)

    配置电磁场重叠型物镜“超级混合物镜”/SHL,从磁性样品到绝缘材料等所有样品都能在超高分辨下观察和分析。

    3.新开发的GBSH-S ( GENTLEBEAMTM Super resolution Stage bias mode)

    GBSH-S是在低加速电压下可以高分辨观察的样品台,能够对应各种各样的样品杆。以前的特殊样品杆不再需要。

    4.新开发的Neo工具(New Electron Optical Engine)

    Neo工具是新开发的电子光学制御系统。自动功能精度大副提高,操作性能得到改善。

    5.新功能SMILENAVI

    配置了即使是初学者也能安心使用的操作导航系统,支持学好SEM基本操作。

    6.新的样品交换方式

    采用新设计的样品交换方式。简单操作下平稳安全地搬送样品,无论是初学者还是熟练工都能快速更换样品。

    主要技术指标

    分辨率

    0.6 nm (15 kV), 0.7 nm (1.0 kV), 1.0 nm (0.5 kV)

    3.0 nm (5 kV, 照射电流 5 nA, WD 10 mm)
    相片倍率
    ×25  ×1,000,000
    电子枪In-lens schottky plus场发射电子枪
    加速电压0.01 kV  30 kV
    照射电流
    数pA  500 nA


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2020-01-10
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