电子束光刻装置

JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼...

JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zui高水平的产出量和定位精度，zuida能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发...

JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zuixian极n的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速...

JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zuixian极n的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电...

zuixin高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。