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【网课推荐】先进材料生产、制造过程中如何利用表征手段实现超越
发布:TA仪器浏览次数:378材料行业的企业,如何在现有投入中获取ZD化效益是永恒的话题。为提高产品品质而配置的高端色谱、质谱表征设备,如何预期其产出效率?如何ZD化发挥推进流程、优化品质、缩短产品周期的作用?如何以应用需求为导向合理配置表征设备?
现沃特世特邀您参加2021实验室流程GX化之旅,通过为期4期的线上活动,聚焦在原料放行、研发、质控、溯源等不同的流程,娓娓道来不同技术的特点和应用实例,与您一起探讨如何解开色谱、质谱表征技术效率提升的密码。以及不同流程中应如何选择色谱、质谱的表征技术。
推荐参会人员:实验室理化分析、研发人员等,需要把控分析仪器整体架构、配置以及应用难题解决方案的同仁。
DY期时间:2021年3月25日(周四) 19:15-20:45
此次会议中,您将获得液相色谱表征效率提升的手段,如何依据样品情况配置检测器和色谱柱,如何判断行业内应用所需的平台扩展
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色谱、质谱技术在工业制造中应用示例
半导体芯片生产制造过程中,光刻技术用到的光阻涂层溶液分析,就可以应用到液相色谱和质谱技术,JZ控制光致抗蚀剂配方中光酸生成剂(PAG)、光阻聚合物以及酸终止剂(NACL)等成分在溶液中的比例,尤其酸生成剂与聚合物的比例,以及酸生成剂和终止剂的含量,乃至未知的杂质含量。
例如下图中,基于UPLC/UV/MS系统的分析,在210 nm紫外检测下,可以看到光酸生成剂PAG-阳离子(TPS)和中止剂(NACL),通过看是否有额外的色谱峰,可以判断光阻涂层材料是否被污染。检测只需要3min。
图:光阻涂层溶液分析(UPLC/UV:210nm)
增加质谱信号的情况下,在负离子扫描模式中,可以看到光酸生成剂PAG阴离子(PFBuS),没有显示污染的其他峰,当在质谱在正离子扫描模式中,可以看到光酸生成剂PAG的阳离子(TPS)和酸终止剂(NACL)信号,色谱中没有额外的指示污染的峰。
图:光阻涂层溶液分析(UPLC/MS ESI负离子扫描模式(左)正离子扫描模式(右))
除此之外,还可以进行样品和控释样品的比较,判断批次的稳定性,不单单是过程控制、研发工艺流程研究的有力手段,还可以作为JZ、GX的质控手段。
图:批次间NACL(酸终止剂)差异比较(有显著差异,Delta=-9.4%)
材料,尤其高端电子行业化学品需要高灵敏度、精细地细节把控以及灵活地调控适合的表征,需要系列地表征手段地辅助才可以实现。Waters专注于材料表征,从合成、纯化、到工艺筛选;从单体、配方、到产品质控;从研发到问题溯源都必不可少的有机成分分析。欢迎扫描下方二维码,报名并锁定2021材料科学色谱、质谱GX化之旅的席位,并可于会后获取回看链接。
有任何问题,欢迎邮件xinwei_li@waters.com咨询
2021-03-19 -
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