详细介绍
仪器简介：
在近代科学技术的许多领域中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此，更加精确和迅速的测定给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要。在实际工作中可以利用各种传统的方法测定光学参数，如：布儒斯特角法测介质膜的折射率，干涉法测膜厚，其它测膜厚的方法还有称重法、X射线法、电容法、椭偏法等。由于椭圆偏振法具有灵敏度高、精度高、非破坏性测量等优点，因而，椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸多领域得到广泛应用。
技术参数：
规格与主要技术指标：
测量范围：薄膜厚度范围：1nm-300nm； 折射率范围：1-10
测量最小示值：≤1nm 入射光波长：632.8nm
光学中心高：80mm 允许样品尺寸：φ10-φ140mm，厚度≤16mm
偏振器方位角范围：0°- 180°读取分辨率为0.05°
测量膜厚和折射率重复性精度分别为：±1nm和±0.01
主机重量：25kg 入射角连续调节范围：20°- 90°精度为0.05°
主要特点：
仪器采用消光法自动测量薄膜厚度和折射率，具有精度高、灵敏度高以及方便测量等特点；
光源采用氦氖激光器，功率稳定、波长精度高；
仪器配有生成表、查表以及精确计算等软件，方便用户使用。
技术文档
