杰出性能，无惧干扰 | NexION 5000多重四极杆ICP-MS—半导体分析的理想选择

在半导体器件和化学品制造的分析中，痕量元素杂质的控制对于性能具有至关重要的作用。该要求促使相关供应商提供超净的材料， 从而对具有出色干扰消除能力，提供极低背景等效浓度(BEC)的分析仪器提供了机会。

这就是业界首台多重四极杆电感耦合等离子体质谱仪 NexION® 5000的研发思路。这个先进系统的性能优于高分辨电感耦合等离子体质谱仪和传统的三重四极杆技术，具体如下:

优异的干扰消除能力

在这款四重四极杆系统中，离子束在Q0(四极杆离子偏转器) 聚焦和筛选至Q1(第 一个四极杆质量分析器)并过滤。在Q2 (四极杆通用池)内反应并得到控制与筛选，在Q3(第二个四极杆质量分析器)中对待分析离子进行筛选。这种组合方式使系统能在热等离子体下获得小于1ppt背景等效浓度(BEC)的能力。

出色的稳定性

自激式34MHz射频发生器具有快速的阻抗匹配，可快速调整以适应不断变化的样品基体，而三锥接口的大孔径锥体具有优秀的抗堵塞能力。可使用纯NH3等反应气体进行可预测的，并可重现的反应，消除干扰。

优秀的基体耐受性

NexION 5000 ICP-MS是分析各类基体中要求极低检出能力和背景等效浓度(BECs)的理想仪器，样品涵盖从水相到有机相，从超纯水(UPW)到高总溶解固体含量(TDS)。

维护需求少

在半导体行业内，有效开机时间是确保实验室以高性能运转的一个关键因素。我们的NexION 5000系统几乎无需维护保证了无与伦比的仪器正常运行时间。

准确分析 无惧干扰

先进的NexION 5000 ICP-MS整合了反应池/碰撞池的简洁性与超越传统三重四极杆的多重四极杆技术，因此非常适合半导体行业。同时四极杆通用池具有动态带宽调谐(DBT)功能，因此可更有效地消除质谱干扰，进而使NexION 5000 ICP-MS在热等离子体条件下可实现半导体必须元素低于1ppt(SEMI F63-0918) 的背景等效浓度。同时，该仪器可以升级，以满足SEMI S2和S8标准。

四极杆离子偏转器(Q0) 

通过优化和筛选一定质量范围的离子进入后续四极杆，从而消除光子和中性组分。

第 一个四极杆质量分析器(Q1)

可以获得亚单位质量分辨率离子筛选，以确保相同质量数的洁净离子束进入池内，自定义分辨率优于0.3amu。

四极杆通用池(Q2) 

通过四极杆控制分子离子的气相反应，从而确保干扰消除的效率和特异性。

第二个四极杆质量分析器(Q3)

用于对离开通用池的离子进行亚单位质量离子筛选;实现低于0.3amu的自定义分辨率。

完整的电感耦合等离子体质谱仪解决方案

NexION 5000多重四极杆电感耦合等离子体质谱仪超越当前的市售产品，并为最苛刻的痕量元素分析挑战提供了解决方案。此外，NexION 5000系统还提供:

1可简化复杂三重四极杆工作流程的人性化SyngistixTM软件(包含内置方法)

2经实验室检测符合高性能标准的耗材和配套用品

3OneSource®实验室服务已建立了训练有素的研究员和工程师团队，为您提供现实场景知识，以及合规服务和培训服务NexION 5000多重四极杆电感耦合等离子体质谱仪：性能卓 越，四极杆的四次方(Q4)。

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