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解决方案
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NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析
发布:珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司浏览次数:1247使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰,而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高,所以为了分析低浓度的Si,必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、ZX管、炬管 )。
本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的**条件。
2020-05-20相关仪器 -
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