超纯水（UPW）被广泛地用于半导体器件生产中所有湿法工艺步骤，包括晶片冲洗和化学浴中化合物的稀释。在这些关键步骤中，可能会吸收来自化学浴和冲洗水中的污染物，然后通过一系列的化学和电化学反应沉淀到硅表面。在成品的ZD区域中，如果金属污染物的浓度达到50 ppq，就会改变集成电路部件的电气参数，导致其无法通过ZH的电气测试。因此超纯水纯度测定至关重要。

在此，我们将展示出珀金埃尔默zui新的化学高分辨多重四极杆ICP-MS仪器NexION 5000获得的超纯水分析结果。NexION 5000 四组四极杆组成的多重四极杆ICP-MS质谱平台，通过各四极杆的不同质量分辨能力和工作模式，结合碰撞反应池技术，实现化学高分辨，获得zhong极干扰消除。