产品介绍：
1x12,288线阵相位型液晶调制器是光束偏转与印刷系统的理想器件。这一器件运用了基于CMOS技术的标准液晶技术。基于CMOS结构的阵列为实现zui先进的高分辨率光刻技术提供了有效的工具，由于其像素更小，从而能够为光束偏转应用提供更大的偏转角度。此外，COMS芯片上的电路大大简化了寻址，随机存取转向，任意波前控制等过程。 基于CMOS阵列的另一优点是其在半导体制造中已经实现了规模经济。
当填充Zero-Twist Nematic（ZTN）液晶的时候，该器件可用作全编程的一维衍射光束偏转阵列。通过在阵列上下载变阶的相位契形图，即可实现非机械式的光束偏转，其相当于一个可编程的衍射相位光栅。液晶光束偏转器的主要优点是无机械移动（因此没有光束指向偏差与不稳定的问题），随机存取指向，通光孔径足够大，光学头轻便并具有大规模制造以实现低成本的可能。
特点 | 应用 |
高光学效率 | 光束偏转 |
无机械移动 | 衍射光学 |
安全的低电压操作 | 光谱调谐与处理 |
高速相位控制 | 超快脉冲整形 |
全用户编程 | 可编程相位光栅 |
灵活的系统配置 | 可编程振幅光栅 |
安静低振动操作 | |
全固态器件结构 | |
即插即用简易安装 | |
友好的图形界面 |
Model P12,288 – λ (nm) – PT | |
Array Size | 19.66x19.66mm |
Design Wavelength (nominal) | 635-1550nm (Specify wavelength, λ in nm when ordering) |
Diffraction Efficiency (zero-order) | 80 - 95% (maximum) |
Duty Cycle | Up to 100% |
External Window | Broadband antireflection coated for Ravg<1% (over 450-865nm or 850-1650nm) |
Fill Factor | 100% |
Format | 1x12,288 |
Mode | Reflective |
Steering Angle | ± 4 - 7° |
Modulation | Controllable index of refraction |
Phase Levels (resolvable) | 50 -100 linear levels (minimum) for 2π phase stroke |
Phase Stroke (double-pass) | Typically 2π at user-specified laser line |
Pixel Pitch | 1.6 μm |
Reflected Wavefront Distortion (rms) | λ/10 – λ |
Response Time | 5 - 30 ms |
Spatial Resolution | TBD |
Switching Frequency | 30 – 200 Hz |
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