CIF材料表面处理仪器

CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。

紫外臭氧清洗机（UVOzone Cleaner, UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）表面上的有机污染物。

CIF 推出的旋涂机系列产品转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。

CIF 推出的中试生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客 户而设计的等离子体表面处理设备。配置丰富， 且真空腔体里可分层， 适合大多数生产场景清洗，活化、刻蚀等应用。设备可在严苛环境下 稳定运行，...

CIF推出全新一代 CPC-10系列实验室型等离子体清洗设备， 颠覆传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， ...

CIF推出全新一代 CPC-G系列实验室型等离子体清洗设备， 颠覆传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， 科...

CIF推出的CPC-F系列等离子体清洗设备，除具备上一代等离子清洗机特点外，其外观美学设计，结构紧凑，漂亮大气，优化的腔体结构及合理的结构设计，使得处理样品量更大，适用范围更广，性能更稳定，操作更简便...

烤胶机是一种控温加热 设备。主要用于半导体硅片， 载玻片，晶片，基片，ITO 导 电玻璃等工艺的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程等离子清洗源 设计，清洗快速、高效、低轰击损伤，主要用于 SEM 或 FIB 等腔 体内碳氢化合物的清洗。

CIF 透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用远程离子清洗源 设计，清洗快速高效， 低轰击损伤， 同时可实现常规等离子清洗。 主要用于 TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏。

CIF 透射电镜（TEM）样品杆真空存储站仪用无油隔膜泵，通过抽真空产生100 Pa恒定洁净无污染的真空环境，特别适用于TEM透射电镜样品杆的日常真空储存或水汽去除，简单方便实用。