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TF-1200X-4-SF是一款炉管尺寸为100mm，带有滑轨法兰的管式炉，最高工作温度为1200℃，此款管式炉专为客户自己搭建CVD系统而设计。技术参数炉体结构炉管尺寸：100mmO.Dx94mmI

TF-1200X-4-NW-UL是一款用于CVD实验的小型管式炉，常用生长纳米线和各种薄膜。设备左端设计有一反应前驱体预热区，并在预热炉体上安装有各种接口。可导入气体、液体和放入固体反应物。主反应炉体

OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动（靠步进电机控制）的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm，设备最高工作温度为1200℃。  设备特点：坩埚通过一步进电机控制炉管，按

TF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉，炉管为Φ50×1400mm的石英管，并配有不锈钢密封法兰，仪器最高温度可以达到1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动，实现对原材料的蒸发/升华

FMF-10是一款小型真空悬浮感应熔炼系统，特别适合与磁性材料和金属合金的探索。成套设备中包括一10KW的高频感应熔炼炉，使样品熔融（最大熔样品量为5g)，同时仪器中还包括了真空泵和石英管使样品在真

TF-1200X-II-HPV是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的最高温度为1100℃（在此温度下可承受的压力为3MPa).此款设备适合用水

OTF-1500X-VHP4是一款真空热压机，可对材料在真空（或气氛保护）及高温的环境下进行加压，如把粉末压成块状，或将多层晶片压合在一起（扩散实验）。此款仪器最高温度可达到1500℃，在此温度下可对

TF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉，石英管直径100mm，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，温度从最高1200度到冰水或油，可用于研究材料相转变和微结构性 能。技术参数炉子结构（

N-600是一款特殊的PTFE球磨混料罐，专门针对于对材料在极度低温下进行球磨和混料。此混料罐带有PTFE内衬，外部有不锈钢制作的液氮冷却夹层和真空保温层。可使得材料在几乎接近液氮温度环境下进行球磨混

TC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金

VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装

TF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款双温区的PE-CVD管式炉系统，组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉，预热炉（作用为使固体原料蒸发）和德国进口的无油泵。此

SL-1200X-5L-UL是一款五面加热的箱式炉，因为炉腔内的五个面都安装有加热元，所以温场均匀性较好。此款箱式炉初期设计是为了对合金及其它对温场均匀性要求较高的金属材料进行退火处理。碳化硅板安装在

SL-1200X-J是一款通过CE认证的小型箱式炉，其炉膛尺寸为150mmX155mmX180mm(4.2L)，采用高纯氧化铝作为炉膛材料，炉膛表面涂有高温氧化铝涂层，以保持炉膛洁净，延长仪器使用寿命

BF-1200X立式箱式炉是以进口电阻丝为加热元件，采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。上开式炉门结构，方便客户放取样品；。最高温度能达到1250℃，可连续工作1000℃，控温精度±1℃。该炉具有

术参数炉体结构采用双层壳体结构并带有风冷系统，使得壳体表面温度小于60℃采用高纯氧化铝纤维作为炉膛材料，并且内炉膛表面涂有美国进口1750℃高温氧化铝涂层，可延长设备使用寿命，同时提高反射率提高加热效